Aby udostępniać treści i zapewnić funkcjonalność tej witryny, wykorzystujemy pliki cookies. Aby zezwolić na wykorzystywanie przez nas plików cookies także w innych celach, kliknij tutaj. Informacje dotyczące dezaktywacji plików "cookies" i ochrony danych
Nowość
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Air Seria 1000

Dokładność, na której możesz polegać.

Chłodzony powietrzem zasilacz wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 1001 Air o mocy do 1000 W dostarcza energię w zakresie wysokiej częstotliwości z wysoką precyzją i powtarzalnością przy niezwykle wysokiej rozdzielczości – 100 mW – i dzięki temu jest dedykowany przeróżnym zastosowaniom plazmowym. Niezależnie od tego, czy wytwarzane są półprzewodniki, ogniwa fotowoltaiczne czy wyświetlacze, opatentowana technologia TRUMPF Hüttinger dzięki nowoczesnym funkcjom procesu gwarantuje sumarycznie najwyższą niezawodność i najlepsze wyniki procesu.

Smart Auto Frequency Tuning

Gwarantuje optymalne i bardzo szybkie dopasowanie częstotliwości, a dzięki temu optymalną współpracę między zasilaczem a siecią dopasowywania.

Wyjątkowo dokładny system detekcji łuków

Stabilne prowadzenie zaawansowanych i innowacyjnych procesów gwarantuje ochronę produktów.

Multi-Level Pulsing

Wielopoziomowe, elastyczne sterowanie kształtem impulsu pozwala uzyskać lepsze wyniki w nowoczesnych procesach plazmowych.

Plug & Play

Możliwe jest elastyczne użytkowanie oraz wymiana zasilacza w przypadku zmian procesu lub modernizacji.

Stabilne procesy plazmowe

Opatentowana technologia CombineLine gwarantuje stałą wydajność procesu dzięki impedancji wyjściowej 50 omów.

Wspólna technologia zasilaczy

Różne poziomy mocy w obrębie rodziny produktów wysokiej częstotliwości pozwalają spełnić wszystkie wymagania procesowe.

Niezależnie od długości kabla HF

W przypadku zmian procesu lub systemu dostosowanie kabla nie jest już konieczne.

Zasilanie prądowe średnich częstotliwości najwyższej klasy do powlekania płaskich ekranów

Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF Air Serii 1000 doskonale sprawdzają się w procesach plazmowych, takich jak RIE, ALD, PECVD i rozpylania RF. Procesy te są stosowane między innymi w produkcji urządzeń półprzewodnikowych i układów mikromechanicznych (MEMS), jak również do pokrywania płaskich ekranów i paneli słonecznych.

Produkcja ogniw słonecznych

Typowe zastosowania TruPlasma RF Air Serii 1000 to wymagające procesy PECVD, wytrawiania i rozpylania RF w przemyśle fotowoltaicznym.

Obraz technologii – zasilacze plazmowe RF

W produkcji półprzewodników stosuje się różne procesy plazmowe, począwszy od procesów ablacji, przez suche wytrawianie, aż po ciągnienie strefowe przy wytwarzaniu czystego krzemu. Zasilacze TruPlasma RF Air Serii 1000 dzięki stabilnemu zasilaniu prądowemu optymalnie dostosowanemu do danego procesu zapewniają uzyskanie doskonałych, powtarzalnych wyników.

- / -
Najwyższa produktywność i dostępność

Najwyższa produktywność i dostępność

Elastyczna i wytrzymała konstrukcja zasilaczy wysokiej częstotliwości umożliwia wzrost wydajności i obniżenie kosztów eksploatacji.

Opatentowana technologia CombineLine

Stabilne procesy i powtarzalne rezultaty

Opatentowana technologia CombineLine z inteligentnym dopasowywaniem w czasie rzeczywistym gwarantuje optymalną dostępność urządzenia TruPlasma RF 1001 Air i zmniejsza częstotliwość występowania wahań plazmy i zanieczyszczeń.

Kompaktowość i elastyczne możliwości stosowania

Dzięki kompaktowej budowie (½ szerokości 19-calowej szafy rack) zasilacz wysokiej częstotliwości pozwala zaoszczędzić miejsce – to doskonałe rozwiązanie w przypadku nowych instalacji oraz modernizacji instalacji już istniejących. Liczne dostępne interfejsy (konfigurowalny interfejs analogowy, Ethernet, DeviceNet, Profibus, EtherCAT) sprawiają, że integracja jest bardzo prosta.

Idealne do procesów wytrawiania i powlekania

Wysoka dokładność

Dzięki precyzyjnemu dozowaniu energii w krokach co 100 mW zasilacze TruPlasma RF 1001 Air osiągają najlepsze rezultaty także w nowoczesnych, najbardziej wymagających zastosowaniach, takich jak ALD. Bardzo precyzyjna regulacja mocy zasilaczy wysokiej częstotliwości gwarantuje najlepszą powtarzalność wafli.

Szkło architektoniczne

Najlepsze wyniki procesu dzięki nowoczesnym funkcjom procesowym

Cyfrowe funkcje sterujące, takie jak Smart Auto Frequency Tuning 2.0, system detekcji łuków i Multi-Level Pulsing, umożliwiają optymalne dostosowanie zasilacza wysokiej częstotliwości do każdego procesu.

TruPlasma RF 1003: generator wysokiej częstotliwości zapewniający maksymalną produktywność

Elastyczne dopasowanie do potrzeb klienta

W ramach jednolitej konstrukcji zasilacza dostępne są różne poziomy mocy oraz częstotliwości, dzięki czemu możliwa jest łatwa wymiana w przypadku zmian procesu. Dopasowanie długości kabla nie jest już także konieczne.

Sterowanie całym systemem wysokiej częstotliwości za pomocą TRUMPF SystemPort

SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania i dlatego zasilacz wysokiej częstotliwości zawsze ma do dyspozycji wszystkie wartości pomiarów. Parametry procesu są ciągle monitorowane, co pozwala chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku.

Auto Frequency Tuning
Inteligentny system automatycznego dostrajania częstotliwości (AFT)

Opatentowane rozwiązanie Auto Frequency Tuning umożliwia symultaniczną i szybką regulację częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowywania. W ten sposób zagwarantowane są najlepsze wyniki procesu i wysoka powtarzalność.

Szybki i precyzyjny system detekcji łuków

Przemyślany system detekcji łuków gwarantuje optymalną kontrolę procesu plazmowego. Dzięki ukierunkowanemu rozpoznawaniu łuków zwiększana jest produktywność. Dodatkowo produkt i urządzenie są chronione przed uszkodzeniami.

Multi-Level Pulsing

Najnowsze procesy plazmowe wymagają większej elastyczności w przypadku trybu impulsowego. Każdy kształt impulsu można osiągnąć za pomocą wielopoziomowego, umożliwiającego swobodny wybór trybu impulsowego. To prowadzi do zastosowania nowego mechanizmu sterowania w fizyce plazmy i do uzyskania lepszych wyników procesu.

Moduły synchronizacji (Pulse, CEX, Arc)

Moduł synchronizacji umożliwia elastyczną i pewną synchronizację większej liczby zasilaczy w złożony system plazmowy.

TruControl Power

Łatwe w użytkowaniu oprogramowanie sterujące pozwala na wygodne i niezawodne uruchomienie monitoringu zasilacza RF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.

Web GUI

Zintegrowany serwer internetowy umożliwia obsługę systemu wysokiej częstotliwości oraz aktualizację oprogramowania za pośrednictwem przeglądarki internetowej.

W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Skontaktuj się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Twoim kraju.

Kontakt

TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
Faks +48 22 761 38 01
E-mail

Pliki do pobrania

Broszura dotycząca TruPlasma RF System
Broszura dotycząca TruPlasma RF System
pdf - 6 MB
Serwis i kontakt

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Poland . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Poland
United States

Or select a country or region.