Aby udostępniać treści i zapewnić funkcjonalność tej witryny, wykorzystujemy pliki cookies. Aby zezwolić na wykorzystywanie przez nas plików cookies także w innych celach, kliknij tutaj. Informacje dotyczące dezaktywacji plików "cookies" i ochrony danych
Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3024/3012/3006
Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3024/3012/3006
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Seria 3000

Bezkompromisowa technologia wysokiej częstotliwości

Gwarancja doskonałych rezultatów procesu

Zasilacze wysokiej częstotliwości to pewne rozwiązanie: TruPlasma RF Serii 3000 charakteryzują się solidną konstrukcją i wysoką wydajnością. Dlatego są one idealnym rozwiązaniem dla stabilnych, powtarzalnych procesów plazmowych. Stosuje się je do wytwarzania płaskich ekranów, ogniw fotowoltaicznych lub elementów półprzewodnikowych. Generatory te gwarantują wysoką wydajność i doskonałe rezultaty procesu w tysiącach zastosowań na całym świecie.

Wydajność i ekonomiczność

Sprawność do 80% pozwala na redukcję kosztów energii nawet o 50%.

Doskonały system detekcji łuków

Stabilne prowadzenie także zaawansowanych i innowacyjnych procesów

Wysoka wytrzymałość i stabilność procesu

Technologia CombineLine: niezawodna ochrona przed mocą odbitą w przypadku niedopasowania

Maksymalna elastyczność

Moc oddawana w sposób ciągły lub impulsowy, co umożliwia większą wszechstronność

Idealne do procesów wytrawiania i powlekania

Procesy wytrawiania i powlekania

Generatory wysokiej częstotliwości TruPlasma RF serii 3000 są szczególnie przydatne w procesach wytrawiania i powlekania, na przykład wytrawianie plazmowe, reaktywne wytrawianie jonowe, ALD i PECVD.

Idealne do powlekania przedmiotów metalowych

Powlekanie przedmiotów metalowych

Za pomocą procesów plazmowych materiał można nanosić na powierzchnię materiałów, oraz go z niej usuwać, na przykład przy powlekaniu przedmiotów metalowych warstwą ochronną lub przy kształtowaniu urządzeń elektronicznych za pomocą trawienia plazmowego lub spopielania w plazmie.

Zasilanie prądowe średnich częstotliwości najwyższej klasy do powlekania płaskich ekranów

Idealne do powlekania płaskich ekranów i ogniw fotowoltaicznych

Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF Serii 3000 doskonale sprawdzają się w procesach plazmowych, takich jak RIE, ALD, PECVD i rozpylania RF. Procesy te są stosowane między innymi podczas powlekania płaskich ekranów i paneli fotowoltaicznych.

- / -
Wyjście RF          
moc wyjściowa 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
Moc znamionowa 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
Nominalna impedancja obciążenia 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω
Częstotliwość wyjściowa 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Dane przyłącza sieciowego          
Napięcie sieciowe 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V
Częstotliwość sieciowa 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz 50/60 Hz 50/60 Hz
Moc sieciowa 16,6 kVA 28,1 kVA 33,3 kVA 80 kVA 100 kVA
Współczynnik mocy 0,93 0,93 0,93 - -
Złącza komunikacyjne          
Złacza Sync Tak Tak Tak Tak Tak
Analogowe/cyfrowe Tak Tak Tak Tak Tak
RS 232 / RS 485 Tak Tak Tak Tak Tak
PROFIBUS Tak Tak Tak Tak Tak
EtherCAT Tak Tak Tak Nie Nie
DeviceNet Tak Tak Tak Tak Tak
Obudowa          
Masa 57 kg 117 kg 117 kg 1000 kg 1200 kg
Stopień ochrony IP 20 20 20 54 54
Wymagania dot. chłodzenia          
Maks. ciśnienie wody 7 bar 7 bar 7 bar 6 bar 6 bar
Min. różnica ciśnień 2 bar 2 bar 2 bar 2,5 bar 2,5 bar
Min. natężenie przepływu 10 l/min 20 l/min 20 l/min 46 l/min 56 l/min
Temperatura medium chłodzącego 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1
Informacje ogólne          
Sprawność łączna 78 % 75 % 75 % - -
Certyfikaty/standardy SEMI F47,CE, RoHs SEMI F47,CE, RoHs SEMI F47,CE, RoHs CE, SEMI F47 CE, SEMI F47
Warunki otoczenia          
Temperatura zewnętrzna 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
Wilgotność powietrza 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
Ciśnienie barometryczne 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa
PDF <1MB
Karta danych technicznych

Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.

Zintegrowana technologia CombineLine

Najwyższa wydajność i stabilność procesu

Zmniejszenie o połowę strat mocy i zmniejszenie kosztów wody chłodzącej dzięki doskonałej sprawności - ograniczenie kosztów eksploatacji. Bardzo solidna konstrukcja zasilaczy pozwala na dłuższą pracę nawet w krytycznych procesach, a tym samym na większą szybkość powlekania. Technologia CombineLine z prawdziwą 50 omową impedancją wyjściową pozwala skutecznie zapobiegać wahaniom plazmy - umożliwia to absolutne ustabilizowanie procesów.

Generator wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3012

Bezpieczeństwo w każdych warunkach

Solidna konstrukcja zapewnia maksymalną niezawodność i produktywność procesu. Stuprocentowa ochrona przed niedopasowaniem gwarantuje bezpieczną eksploatację nawet przy krytycznych obciążeniach. Moc oddawana, do wyboru w sposób ciągły lub impulsowy, wspiera wiele różnych wymagań procesowych. Na całym świecie zainstalowano już ponad 20.000 jednostek - więcej niż z jakiegokolwiek innego źródła zasilania.

TruPlasma RF_Systemport

TRUMPF SystemPort

SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania. Zasilacz RF ma dostęp do wszystkich zmierzonych wartości. Dzięki temu można lepiej monitorować parametry procesu, chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku. Kompletnym systemem RF można sterować poprzez jeden interfejs zasilacza.

Różne opcje pozwalają na dostosowanie zasilaczy wysokich częstotliwości do szerokiego spektrum zastosowań.

System detekcji łuków

Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjna detekcja łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.

Przyjazne w obsłudze oprogramowanie TruControl Power

TruControl Power

Łatwe w obsłudze oprogramowanie sterujące TruControl Power pozwala na wygodne uruchomienie i stabilne monitorowanie pracy zasilacza HF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.

Wszystkie komponenty systemu TRUMPF RF są optymalnie dopasowane.

Rozwiązanie systemowe RF: układ dopasowujący dla zapewnienia najwyższej stabilności procesu
TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13)

Sieci dopasowywania TruPlasma Match zapewniają optymalne przenoszenie mocy z zasilacza do wyładowania plazmowego. Sieć dopasowywania może pracować bezpośrednio lub poprzez inteligentne połączenie zasilacza z siecią dopasowywania nazywane SystemPort.

Oscylator matrycowy do ustabilizowania krytycznych synchronicznych procesów plazmowych
Oscylatory matrycowe

Oscylatory matrycowe pozwalają ustabilizować i zoptymalizować krytyczne synchroniczne procesy plazmowe. Zintegrowany cyfrowy syntezator częstotliwości i fazy zapewnia wysoką częstotliwość i stabilność fazową i umożliwia regulację położenia faz o bardzo małej wielkości kroku. Istnieją różne wersje oscylatorów wzorcowych do wyboru dla częstotliwości 13,56 MHz oraz różne kombinacje częstotliwości.

Przełącznik HF do wykorzystania generatora HF w elastycznych systemach plazmowych
Przełącznik HF

Przełącznik HF pozwala na wielokrotne użycie generatora HF na różnych stacjach obróbki plazmowej, na przykład do zasilania prądowego procesów sekwencyjnych lub systemów o różnych punktach zasilania. Dostępne są różne przełączniki HF w dwóch poziomach mocy oraz z 2, 3 lub 4 wyjściami.

Przewód koncentryczny do transmisji określonej mocy
Kabel koncentryczny

Do przesyłu energii HF TRUMPF oferuje kabel koncentryczny Hüttinger specjalnie zaprojektowany do eksploatacji w systemach 50-omowych.

Zasilacz i sieć dopasowywania: idealnie dobrane rozwiązanie systemowe

Idealne dopasowanie: zasilacz i układ dopasowujący

Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort, uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.

W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Skontaktuj się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Twoim kraju.

Przypisy
  • Temperatura wody chłodzącej musi być wyższa niż temperatura punktu rosy w pomieszczeniu, aby zapobiec kondensacji.

Także te tematy mogą Państwa zainteresować

Kontakt

TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
Faks +48 22 761 38 01
E-mail

Pliki do pobrania

Broszura dotycząca TruPlasma RF Seria 3000
Broszura dotycząca TruPlasma RF Seria 3000
pdf - 1 MB
Broszura dotycząca TruPlasma RF System
pdf - 6 MB
Serwis i kontakt

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Poland . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Poland
United States

Or select a country or region.