Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookies. Jeśli osoba odwiedzająca stronę korzysta z niej nadal bez dokonywania zmian w ustawieniach w plikach cookies, zakładamy, że wyraża ona zgodę na stosowanie tych plików.
Generator wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3006
Generator wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3006
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Seria 1000 / 3000 (G2/13)

Stabilne procesy dla najwyższej produktywności

    - / -
    • Przegląd
    • Zastosowania
    • Dane techniczne
    • Korzyści dla klienta
    • Opcje
    • Komponenty systemu
    • System RF
    • Więcej Mniej
    Zasilacze wysokiej częstotliwości nowej generacji

    Przy powlekaniu lub kształtowaniu powierzchni konieczne jest stabilne i powtarzalne źródło zasilania plazmy. W tym celu zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF Serii 1000/3000 (G2/13) wyposażone w nowoczesne zasilanie elektroniczne oferują najlepsze warunki pracy, tj. dzięki stabilnej mocy wyjściowej oraz wysokiej dokładności regulacji zapewniają najlepsze wyniki i jednocześnie wysoką produktywność.

    Wysoka dokładność i powtarzalność

    Technologia CombineLine: optymalna wydajność procesu dzięki impedancji wyjściowej 50 omów

    Niezależnie od długości przewodu wysokiej częstotliwości

    Brak konieczności dopasowywania długości kabla - absolutna nowość w przypadku wysokich częstotliwości!

    Solidność i bezpieczeństwo

    Technologia CombineLine: niezawodna ochrona przed mocą odbitą w przypadku niedopasowania

    Wydajność i ekonomiczność

    Sprawność do 80% pozwala na redukcję kosztów energii nawet o 50%.

    Koncepcja chłodzenia pasywnego

    Bez ogrzewania lub zanieczyszczenia otaczającego powietrza, możliwość eksploatacji w czystym pomieszczeniu

    Zasilacz wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3006

    Idealne do powlekania płaskich ekranów

    Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma Serii RF 1000 / 3000 (G2/13) doskonale sprawdzają się w procesach plazmowych, takich jak RIE, ALD, PECVD i rozpylania RF. Procesy te są stosowane między innymi w produkcji urządzeń półprzewodnikowych i układów mikromechanicznych (MEMS), jak również do pokrywania płaskich ekranów i paneli słonecznych.

    Produkcja ogniw słonecznych

    Typowe zastosowanie: przemysł fotowoltaiczny

    Typowe zastosowania TruPlasma RF Serii 1000 / 3000 (G2/13) to wymagające procesy PECVD, wytrawiania i rozpylania dla przemysłu fotowoltaicznego.

    Idealne do procesów wytrawiania i powlekania

    Produkcja półprzewodników

    W produkcji półprzewodników stosuje się różne procesy plazmowe, począwszy od procesów ablacji, przez suche wytrawianie, aż po ciągnienie strefowe przy wytwarzaniu czystego krzemu. Zasilacze TruPlasma RF Serii 1000 / 3000 (G2/13) dzięki stabilnemu zasilaniu prądowemu optymalnie dostosowanemu do danego procesu zapewniają uzyskanie doskonałych, powtarzalnych wyników.

    TruPlasma RF 1002
    TruPlasma RF 1003
    TruPlasma RF 3006
    Wyjście RF      
    moc wyjściowa 2 kW 3 kW 6 kW
    Moc znamionowa 2 kW 3 kW 6 kW
    Nominalna impedancja obciążenia 50 Ω 50 Ω 50 Ω
    Częstotliwość wyjściowa 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
    Dane przyłącza sieciowego      
    Napięcie sieciowe 200 - 480 V 200 - 480 V 200 - 480 V
    Częstotliwość sieciowa 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz
    Moc sieciowa 3,1 kVA 4,3 kVA 7,9 kVA
    Współczynnik mocy 0,95 0,95 0,95
    Złącza komunikacyjne      
    Złacza Sync Tak Tak Tak
    Analogowe/cyfrowe Tak Tak Tak
    RS 232 / RS 485 Tak Tak Tak
    PROFIBUS Tak Tak Tak
    EtherCAT Tak Tak Tak
    DeviceNet Tak Tak Tak
    Obudowa      
    Masa 18 kg 18 kg 38 kg
    Stopień ochrony IP 30 30 30
    Wymagania dot. chłodzenia      
    Maks. ciśnienie wody 7 bar 7 bar 7 bar
    Min. różnica ciśnień 1,1 bar 1,1 bar 1,1 bar
    Min. natężenie przepływu 4 l/min 4 l/min 8 l/min
    Temperatura medium chłodzącego 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1
    Informacje ogólne      
    Sprawność łączna 80 % 80 % 80 %
    Certyfikaty/standardy Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs
    Warunki otoczenia      
    Temperatura zewnętrzna 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
    Wilgotność powietrza 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    Ciśnienie barometryczne 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    Karta danych technicznych

    Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.

    Zintegrowana technologia CombineLine

    Optymalne dopasowanie do procesu

    Inteligentne dopasowanie w czasie rzeczywistym TruPlasma RF serii 1000/3000 (G2/13) zapewnia szybkie i bezpośrednie dopasowanie impedancji do 50 omów. Opatentowana technologia CombineLine pozwala skutecznie zapobiegać wahaniom i zanieczyszczeniom plazmy. Koncepcja chłodzenia pasywnego zmniejsza awaryjność, zwiększa wydajność i pozwala na użycie w czystym pomieszczeniu.

    Zasilacz HF do równoległych obwodów rezonansowych

    Maksymalna wydajność i elastyczność

    Dzięki maksymalnej sprawności do 80% można obniżyć koszty energii w porównaniu do tradycyjnych generatorów nawet o 50%. Liczne dostępne interfejsy (konfigurowalny interfejs analogowy, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) ułatwiają integrację z istniejącymi systemami. Bardzo szeroki zakres napięcia sieciowego (200-480 VAC) pozwala na zastosowanie na całym świecie bez przeprowadzania zmian. Kompaktowa konstrukcja (wsuwany panel 19 cali lub ½ 19 cali) i wysoka gęstość mocy umożliwiają ergonomiczną integrację w dowolnym zakładzie produkcyjnym.

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania. Zasilacz RF ma dostęp do wszystkich zmierzonych wartości. Dzięki temu można lepiej monitorować parametry procesu, chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku. Kompletnym systemem RF można sterować poprzez jeden interfejs zasilacza.

    Różne opcje pozwalają na dostosowanie zasilaczy RF do danego zastosowania.

    System detekcji łuków

    Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjna detekcja łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.

    Auto Frequency Tuning

    Opatentowane rozwiązanie Auto Frequency Tuning umożliwia symultaniczną i szybką regulację częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowywania. Dzięki tej opatentowanej technice lokalne minimum nie stanowi już przeszkody: system RF pracuje optymalnie i umożliwia uzyskanie najlepszych wyników procesu i dużą powtarzalność.

    Wszystkie komponenty systemu TRUMPF RF są optymalnie dopasowane.

    Rozwiązanie systemowe RF : układ dopasowujący dla zapewnienia najwyższej stabilności procesu
    Układ dopasowujący TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13)

    Sieci dopasowywania TruPlasma Match zapewniają optymalne przenoszenie mocy z zasilacza do wyładowania plazmowego. Sieć dopasowywania może pracować bezpośrednio lub poprzez inteligentne połączenie zasilacza z siecią dopasowywania nazywane SystemPort.

    Oscylator wzorcowy do ustabilizowania krytycznych synchronicznych procesów plazmowych
    Oscylatory wzorcowe

    Oscylatory matrycowe pozwalają ustabilizować i zoptymalizować krytyczne synchroniczne procesy plazmowe. Zintegrowany cyfrowy syntezator częstotliwości i fazy zapewnia wysoką częstotliwość i stabilność fazową i umożliwia regulację położenia faz o bardzo małej wielkości kroku. Istnieją różne wersje oscylatorów wzorcowych do wyboru dla częstotliwości 13,56 MHz oraz różne kombinacje częstotliwości.

    Przełącznik RF do wykorzystania elastycznego wykorzystania zasilacza RF w różnych systemach plazmowych
    Przełącznik RF

    Przełącznik HF pozwala na wielokrotne użycie generatora HF na różnych stacjach obróbki plazmowej, na przykład do zasilania prądowego procesów sekwencyjnych lub systemów o różnych punktach zasilania. Dostępne są różne przełączniki HF w dwóch poziomach mocy oraz z 2, 3 lub 4 wyjściami.

    Przewód koncentryczny do transmisji określonej mocy
    Kabel koncentryczny

    Do przesyłu energii RF TRUMPF Hüttinger oferuje kabel koncentryczny specjalnie zaprojektowany do eksploatacji w systemach 50-omowych.

    Zasilacz i układ dopasowujący: idealnie dobrane rozwiązanie systemowe

    Idealne dopasowanie: system TRUMPF RF

    Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.

    W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Skontaktuj się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Twoim kraju.

    Przypisy
    • Temperatura wody chłodzącej musi być wyższa niż temperatura punktu rosy w pomieszczeniu, aby zapobiec kondensacji.

    Także te tematy mogą Państwa zainteresować

    Ideal geeignet für Großflächenbeschichtung
    Zasilanie prądowe do procesu plazmowego

    Zasilacze plazmowe firmy TRUMPF Hüttinger dysponują szerokim zakresem mocy i częstotliwości. Zapoznaj się w tym miejscu z informacjami o naszych produktach.

    RF-Systemlösung : Matchbox für höchste Prozessstabilität
    Inteligentne dopasowywanie dzięki pomiarom w czasie rzeczywistym

    Nowe sieci dopasowywania TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13) optymalnie uzupełniają nasze zasilacze RF i otwierają drogę do kompleksowego rozwiązania: systemu RF firmy TRUMPF.

    Services_Electronics_Technical_Support
    Serwis jak żaden inny

    Dzięki precyzyjnie dostosowanej umowie serwisowej zyskacie Państwo maksymalną dostępność zasilaczy przy dających się szybko oszacować kosztach konserwacji i eksploatacji.

    Kontakt

    TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
    Faks: +48 22 761 38 01
    E-mail

    Pliki do pobrania

    Broszura dotycząca TruPlasma RF Seria 1000 3000
    Broszura dotycząca TruPlasma RF Seria 1000 3000
    pdf - 337 KB
    Broszura dotycząca TruPlasma RF System
    pdf - 6 MB
    Whitepaper Autofrequency Tuning
    pdf - 1 MB
    Whitepaper Precision in Processing
    pdf - 2 MB
    Serwis i kontakt