Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookies. Jeśli osoba odwiedzająca stronę korzysta z niej nadal bez dokonywania zmian w ustawieniach w plikach cookies, zakładamy, że wyraża ona zgodę na stosowanie tych plików.
MF Plasmageneratoren

Generatory plazmowe MF

Generatory plazmowe MF TRUMPF Hüttinger stosowane są głównie w systemach dwukatodowych, na przykład do podwójnego rozpylania magnetronowego. Dzięki wysokiej mocy wyjściowej i stabilności procesowej generatory średnich częstotliwości nadają się zarówno do powlekania dużych powierzchni szkła architektonicznego o wysokiej depozycji, jak i nanoszenia ultracienkich, jednorodnych warstw na półprzewodniki lub ogniwa słoneczne. Dzięki ich wyjątkowej dokładności i produktywności nasze układy zasilania procesów MF są idealnym rozwiązaniem dla wielu zastosowań we wzbudzeniu plazmowym.

Generator Bipolar TruPlasma Bipolar 4040

TruPlasma Bipolar Seria 4000 (G2)

Zasilacze TruPlasma Bipolar Serii 4000 (G2) są idealnym rozwiązaniem dla wymagających procesów plazmowych, takich jak reaktywne rozpylanie PVD i PECVD. Elastycznie formowane sygnały wyjściowe i zaawansowany system detekcji łuków zapewniają doskonałe rezultaty w produkcji półprzewodników i ogniw fotowoltaicznych, przy powlekaniu szkła architektonicznego oraz nanoszeniu warstw dekoracyjnych i odpornych na ścieranie.

TruPlasma MF serii 7000 (G2)

TruPlasma MF Seria 7000

Zasilacze MF TruPlasma Seria MF 7000 (G2) umożliwiają pełną kontrolę nad procesem − wynikiem tego są doskonałej jakości powłoki i wysoka produktywność nawet przy wymagających powłokach wielkopowierzchniowych. Dzięki maksymalnej sprawności wynoszącej ponad 90% zasilacze najnowszej generacji są również bardzo ekonomiczne w eksploatacji.

Serwis i kontakt