Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookies. Jeśli osoba odwiedzająca stronę korzysta z niej nadal bez dokonywania zmian w ustawieniach w plikach cookies, zakładamy, że wyraża ona zgodę na stosowanie tych plików.
Zasilacz TruPlasma Bipolar 4040
Zasilacz TruPlasma Bipolar 4040
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bipolar Seria 4000 (G2)

Maksymalna wydajność z elastycznym sygnałem

    - / -
    • Przegląd
    • Zastosowania
    • Dane techniczne
    • Korzyści dla klienta
    • Oprogramowanie
    • Komponenty systemu
    • Więcej Mniej
    Technologia Bipolar spełniająca najwyższe wymagania

    Zasilacze TruPlasma Bipolar Serii 4000 (G2) zostały opracowane specjalnie dla powłok wykonywanych przy udziale plazmy w procesach PVD, PECVD i reaktywnych procesach rozpylania. Dzięki możliwości elastycznego formowania sygnału wyjściowego i zaawansowanemu systemowi detekcji łuków te zasilacze dwubiegunowe najnowszej generacji są bardzo wszechstronne. Zarówno w produkcji półprzewodników i ogniw słonecznych jak i przy powlekaniu szkła architektonicznego, zawsze można spodziewać się doskonałych wyników pod względem jakości powłoki i szybkości powlekania.

    Niezwykle niska energia łuku

    W pełni cyfrowy system detekcji łuków pozwala uzyskać wysoką jakość powłoki i dużą wydajność procesu

    Regulowane kształty sygnału wyjściowego

    Łatwe dostosowanie się do różnych procesów przez zmianę sygnału wyjściowego

    Jeden zasilacz, wiele zastosowań

    DC, impulsowy DC i Bipolar: oszczędność kosztów dzięki wielu opcjom ustawień

    Zintegrowane chłodzenie wodne

    Brak komponentów zewnętrznych zapewniający kompaktowe rozmiary urządzenia

    Typowy obszar zastosowania TruPlasma Bipolar Serii 4000 (G2): Produkcja powłok odpornych na zużycie

    Zasilanie prądowe najwyższej klasy

    Typowe zastosowania obejmują produkcję półprzewodników, ogniw fotowoltaicznych, powlekanie szkła architektonicznego, produkcję powłok dekoracyjnych oraz warstw odpornych na ścieranie najwyższej jakości. W tym przypadku stosuje się w szczególności procesy PVD i PECVD.

    Wyjście          
    Moc znamionowa 10 kW 20 kW 30 kW 40 kW 60 kW
    Maks. prąd wyjściowy 25 A eff 50 A eff 75 A eff 100 A eff 150 A eff
    Maks. napięcie wyjściowe 1000 V eff 1000 V eff 1000 V eff 1000 V eff 1000 V eff
    Znamionowa częstotliwość robocza 20 kHz - 80 kHz 20 kHz - 80 kHz 20 kHz - 80 kHz 20 kHz - 80 kHz 20 kHz - 80 kHz
    Parametry łuku          
    Maks. charakterystyka łuku 20000 1/s 20000 1/s 20000 1/s 20000 1/s 20000 1/s
    Energia arc 0,3 mJ/kW 0,3 mJ/kW 0,3 mJ/kW 0,3 mJ/kW 0,3 mJ/kW
    Napięcia w układzie wzbudzania          
    ze wspomaganiem zapłonu 2000 V 2000 V 2000 V 2000 V 2000 V
    Dane przyłącza sieciowego          
    Napięcie sieciowe 380 480 V 380 480 V 380 480 V 380 480 V 380 480 V
    Częstotliwość sieciowa 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz
    Współczynnik mocy 0,95 0,95 0,95 0,95 0,95
    Złącza komunikacyjne          
    Analogowe/cyfrowe Tak Tak Tak Tak Tak
    RS 232 / RS 485 Tak Tak Tak Tak Tak
    PROFIBUS Tak Tak Tak Tak Tak
    EtherCAT Tak Tak Tak
    -
    Tak Tak
    DeviceNet Tak Tak Tak
    -
    Tak Tak
    Obudowa          
    Szerokość 482 mm 482 mm 482 mm 482 mm 482 mm
    Wysokość 178 mm 266 mm 355 mm 355 mm 622 mm
    Głębokość 683 mm 683 mm 683 mm 683 mm 683 mm
    Masa 60 kg 60 kg 100 kg 100 kg 160 kg
    Stopień ochrony IP IP40 IP40 IP40 IP40 IP40
    Wymagania dot. chłodzenia          
    Medium chłodzące Woda Woda Woda Woda Woda
    Maks. ciśnienie wody 7 bar 7 bar 7 bar 7 bar 7 bar
    Min. różnica ciśnień 3 bar 3 bar 3 bar 3 bar 3 bar
    Min. natężenie przepływu 4 l/min 8 l/min 8 l/min 12 l/min 12 l/min
    Temperatura medium chłodzącego 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C
    Informacje ogólne          
    Sprawność łączna 90 % 90 % 90 % 90 % 90 %
    Warunki otoczenia          
    Temperatura zewnętrzna 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C
    Wilgotność powietrza 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    Ciśnienie barometryczne 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    Karta danych technicznych

    Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.

    System detekcji łuków

    Doskonałe powłoki, wysoka produktywność

    W pełni cyfrowy system zarządzania Arc o bardzo małej energii Arc pozwala uzyskać wysokiej jakości powłoki i dużą prędkość osadzania. Bez względu na to, jak wymagające są procesy reaktywne, TruPlasma Bipolar Serii 4000 (G2) zapewnia zawsze stabilne zasilanie procesu, a tym samym stabilny stan plazmy.

    Możliwość wielostronnego zastosowania dzięki elastycznemu wyborowi sygnału wyjściowego

    Większa elastyczność, niskie koszty

    Regulowane kształty sygnału wyjściowego pomagają w prosty sposób dostosować zasilacze TruPlasma Bipolar Serii 4000 (G2) do różnych wymagań procesowych. Dzięki elastycznemu wyborowi sygnału wyjściowego (DC, pulsowy DC lub Bipolar), zasilacze są uniwersalne i pomagają obniżyć całkowity koszt eksploatacji.

    Zasilacz Bipolar TruPlasma Bipolar 4060

    Wszystko w jednej obudowie

    Dzięki chłodzeniu wodą oraz obudowie zasilacza w pełni chroniącej przed wpływem środowiska nie są potrzebne żadne komponenty zewnętrzne.

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie PVD Power

    PVDPower

    Przyjazne dla użytkownika, wielojęzyczne oprogramowanie PVD Power oferuje różne możliwości obsługi, konfiguracji i diagnostyki w celu optymalizacji jakości procesu i skutecznego usuwania usterek: wyświetlanie rzeczywistych wartości wszystkich istotnych parametrów procesu, ostrzeżeń i alarmów, ustawianie żądanej wartości przez operatora, wizualizacja i zapisywanie ważnych parametrów pracy z wysoką rozdzielczością czasową (oscyloskop).

    Wybierając różne komponenty systemu można optymalnie dostosować zasilacz Bipolar do danego środowiska.

    Widok z tyłu zasilacza TruPlasma Bipolar Seria 4000 (G2)
    Kabel sieciowy

    Istnieją różne typy przewodów i złączy do różnych standardów połączeniowych.

    W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Skontaktuj się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Twoim kraju.

    Także te tematy mogą Państwa zainteresować

    TruPlasma MF Serie 7000 (G2)
    Specjaliści od dużych powierzchni i intensywnego rozpylania jonowego

    Dzięki TruPlasma MF Seria 7000 (G2) masz pełną kontrolę nad procesem i zapewniasz sobie niezmiennie najwyższą jakość warstwy, ekonomiczność i produktywność.

    Ideal geeignet für Großflächenbeschichtung
    Zasilanie prądowe do procesu plazmowego

    Zasilacze plazmowe firmy TRUMPF Hüttinger dysponują szerokim zakresem mocy i częstotliwości. Zapoznaj się w tym miejscu z informacjami o naszych produktach.

    Services_Electronics_Training
    Naszym atutem są indywidualne szkolenia klientów

    Doświadczeni technicy serwisowi zapewniają gruntowną wiedzę, a przekazywane treści są dostosowane do potrzeb uczestników.

    Kontakt

    TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
    Faks: +48 22 761 38 01
    E-mail

    Pliki do pobrania

    Broszura
    Broszura dotycząca TruPlasma Bipolar Seria 4000 (G2)
    Broszura dotycząca TruPlasma Bipolar Seria 4000 (G2)
    pdf - 1 MB
    Whitepaper Sinus oder Rechteck
    pdf - 941 KB
    Serwis i kontakt