Uniwersalne zasilacze dla procesu rozpylania
TruPlasma Bias Seria 4000 to rodzina zaawansowanych pulsowych zasilaczy napięcia stałego. Możliwa jest praca ciągła DC Bias oraz z częstotliwością pulsów do 100 kHz. Zasilacze wspierają zwłaszcza procesy nanoszenia powłok optycznych i metalizacji używanych na przykład w technologii półprzewodnikowej lub nanoszenia powłok twardych. Ponadto są odpowiednie do innych zastosowań o podobnych wymaganiach dla wartości napięcia i prądu.
1200 V dla procesów wytrawiania podłoża,
300 V dla procesów powlekania z zastosowaniem polaryzacji podłoża (Bias)
Pozwala to na znaczne ograniczenie osadzania makrocząsteczek i uszkodzeń podłoża.
Doskonały system detekcji łuków dzięki nowoczesnej technologii DSP i analizie sygnału FPGA.
Produkcja powłok odpornych na zużycie
Zasilacze TruPlasma Bias Serii 4000 dbają o stabilność procesu plazmowego, a tym samym zapewniają optymalną jakość powłoki.
Pokrywanie dużych powierzchni
Powlekanie dużych powierzchni w procesie plazmowym stawia szczególnie wysokie wymagania dla mocy procesowej. Zasilacze TruPlasma Bias Serii 4000 zapewniają stabilne zasilanie prądowe optymalnie dostosowane do danego procesu co pozwala osiągnąć doskonałe, powtarzalne wyniki.
Produkcja ogniw słonecznych
Zasilacze TruPlasma Bias Serii 4000 są idealne do wszystkich krytycznych procesów PVD i PECVD i oferują optymalnie dostosowane do każdego procesu stabilne zasilanie prądowe pozwalające uzyskać doskonałe, powtarzalne wyniki.
TruPlasma Bias 4012
|
TruPlasma Bias 4018
|
TruPlasma Bias 4026
| |
|---|---|---|---|
| Wyjście | |||
| Moc znamionowa | 12 kW | 18 kW | 26 kW |
| Maks. prąd wyjściowy | 40 A eff | 60 A eff | 87 A eff |
| Maks. napięcie wyjściowe | 1200 V eff | 1200 V eff | 1200 V eff |
| Znamionowa częstotliwość robocza | 0 kHz - 100 kHz | 0 kHz - 100 kHz | 0 kHz - 100 kHz |
| Parametry łuku | |||
| Maks. charakterystyka łuku | 50 1/s | 50 1/s | 50 1/s |
| Czas obróbki łukiem | <0,5 µs | <0,5 µs | <0,5 µs |
| Dane przyłącza sieciowego | |||
| Napięcie sieciowe | 3x 360 V - 440 V | 3x 360 V - 440 V | 3x 360 V - 440 V |
| Częstotliwość sieciowa | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz |
| Złącza komunikacyjne | |||
| Analogowe/cyfrowe | Tak | Tak | Tak |
| RS 232 / RS 485 | - | Tak | - |
| PROFIBUS | Tak | - | Tak |
| EtherCAT | Nie | Nie | Nie |
| Obudowa | |||
| Masa | 70 kg | 70 kg | 71 kg |
| Stopień ochrony IP | IP 20 | IP 20 | IP 20 |
| Wymagania dot. chłodzenia | |||
| Medium chłodzące | Powietrze | Powietrze | Powietrze |
| Temperatura medium chłodzącego | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C |
| Informacje ogólne | |||
| Sprawność łączna | 90 % | 90 % | 90 % |
| Certyfikaty/standardy | CE | CE | CE |
| Warunki otoczenia | |||
| Temperatura zewnętrzna | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C |
| Wilgotność powietrza | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
| Ciśnienie barometryczne | 860 kPa - 1060 kPa | 860 kPa - 1060 kPa | 860 kPa - 1060 kPa |
Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.
Zapewnia konsekwentnie dobre warunki procesowe
Specjalna konstrukcja zasilania i sterowania zapewnia stabilność napięcia, co ma kluczowe znaczenie dla jakości powierzchni i stabilnego procesu. Zaprojektowany w technologii DSP i wyposażony w analizę sygnału FPGA, TruPlasma Bias Serii 4000 posiada nowoczesny system detekcji łuków, który gwarantuje niespotykaną dokładność i powtarzalność pracy. Imponujące wartości obu parametrów zapewniają optymalną stabilizację procesu.
Uproszczona obsługa systemu za pomocą jednego urządzenia do wielu procesów
Tru Plasma Bias serii 4000 posiada dwa oddzielne tryby napięcia: tryb wysokiego napięcia do 1200 woltów i tryb niskiego napięcia do 300 woltów. Tryby wspierają zwłaszcza optyczne i metalowe aplikacje powłok, które są używane na przykład w technologii półprzewodnikowej lub powlekania twardego materiału. Ponadto nadają się do wszystkich zastosowań o podobnych wymogach co do napięcia i prądu.
Optymalna jakość warstwy dzięki bezawaryjnemu procesowi
Zasilacze TruPlasma Bias Serii 4000 posiadają w pełni cyfrowy system detekcji łuków o bardzo małej energii łuku pozwalający uzyskać wysokiej jakości powłoki i dużą prędkość osadzania. Pozwala to na większe ograniczenie osadzania makrocząsteczek i wywołanych ich obecnością uszkodzeń podłoża.
PVDPower
Przyjazne dla użytkownika, wielojęzyczne oprogramowanie PVD Power oferuje różne możliwości działania, konfiguracji i diagnostyki w celu optymalizacji jakości procesu i skutecznego rozwiązywania problemów: wyświetlanie rzeczywistych wartości wszystkich istotnych parametrów procesu, jak również ostrzeżeń i alarmów, ustawianie żądanej wartości przez operatora, nagrywanie i wizualizacja ważnych parametrów pracy z wysoką rozdzielczością czasową (oscyloskop).
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.
