You have selected Polska. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Impulsowe generatory plazmowe DC | TRUMPF
Obraz technologii – impulsowe generatory plazmowe DC

Generatory plazmowe DC

Impulsowe zasilacze plazmowe DC TRUMPF Hüttinger są idealne do zastosowań w wielu reaktywnych procesach. Impulsowy sygnał prądu stałego, w przeciwieństwie do zwykłych zasilaczy prądu stałego, umożliwia obróbkę również materiałów słabo przewodzących jak i nieprzewodzących, takich jak tlenki. Typowe zastosowania zasilaczy pulsowych to powlekanie twardych materiałów oraz procesy wytrawiania i powlekania w produkcji półprzewodników.

Generator TruPlasma Highpulse serii 4000

TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2)

Zasilacze procesu TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) są doskonałym wyborem dla zastosowań HIPIMS. Umożliwiają uzyskanie twardych powłok odpornych na korozję i ścieranie. W połączeniu z polaryzowanymi surowcami urządzenia TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) mogą również obsługiwać aplikacje półprzewodnikowe, na przykład wytrawianie, wstępną obróbkę powierzchni i trench-filling.

Zasilacz TruPlasma Highpulse Seria 4000

TruPlasma Highpulse Seria 4000

Zasilacze TruPlasma Highpulse Serii 4000 są doskonałym wyborem dla zastosowań HIPIMS, ich użycie umożliwia uzyskanie twardych warstw odpornych na korozję i ścieranie. W połączeniu z polaryzacją substratu TruPlasma Highpulse Serii 4000 może również znaleźć zastosowanie w aplikacjach półprzewodnikowych, takich jak: trawienie plazmowe, wstępna obróbka ubytkowa powierzchni oraz "trench-filling”.

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC Seria 4000 (G2)

TruPlasma DC Serii 4000 (G2) łączy w sobie doskonałą procedurę detekcji łuków TRUMPF Hüttinger z zaletami technologii impulsowej DC. Pozwala to osiągnąć lepsze rezultaty procesu przy mniejszej liczbie wad i jednocześnie większej szybkości osadzania. Efektem są perfekcyjne powierzchnie i wysoka efektywność produkcyjna.

Serwis i kontakt