Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookie w celu zapewnienia jej funkcjonalności. Jeżeli chcą Państwo zezwolić na używanie przez nas plików cookie również do innych celów, należy kliknąć tutaj. Informacje dotyczące wyłączenia plików cookie i ochrony danych osobowych
Zasilacz Bias ze stabilnym napięciem i szybkim systemem detekcji łuków
Zasilacz Bias ze stabilnym napięciem i szybkim systemem detekcji łuków
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bias Seria 4000

Stabilny i wszechstronny

Uniwersalne zasilacze dla procesu rozpylania

TruPlasma Bias Seria 4000 to rodzina zaawansowanych pulsowych zasilaczy napięcia stałego. Możliwa jest praca ciągła DC Bias oraz z częstotliwością pulsów do 100 kHz. Zasilacze wspierają zwłaszcza procesy nanoszenia powłok optycznych i metalizacji używanych na przykład w technologii półprzewodnikowej lub nanoszenia powłok twardych. Ponadto są odpowiednie do innych zastosowań o podobnych wymaganiach dla wartości napięcia i prądu.

Tryb wysokiego i niskiego napięcia

1200 V dla procesów wytrawiania podłoża,
300 V dla procesów powlekania z zastosowaniem polaryzacji podłoża (Bias)

Szybki system detekcji łuków

Pozwala to na znaczne ograniczenie osadzania makrocząsteczek i uszkodzeń podłoża.

Stabilne i powtarzalne wyniki procesu

Doskonały system detekcji łuków dzięki nowoczesnej technologii DSP i analizie sygnału FPGA.

Typowe zastosowanie TruPlasma Bipolar Serii 4000 (G2): Produkcja powłok odpornych na zużycie

Produkcja powłok odpornych na zużycie

Zasilacze TruPlasma Bias Serii 4000 dbają o stabilność procesu plazmowego, a tym samym zapewniają optymalną jakość powłoki.

Idealne do pokrywania dużych powierzchni

Pokrywanie dużych powierzchni

Powlekanie dużych powierzchni w procesie plazmowym stawia szczególnie wysokie wymagania dla mocy procesowej. Zasilacze TruPlasma Bias Serii 4000 zapewniają stabilne zasilanie prądowe optymalnie dostosowane do danego procesu co pozwala osiągnąć doskonałe, powtarzalne wyniki.

Zasilacz TruPlasma Bias Seria 4000

Produkcja ogniw słonecznych

Zasilacze TruPlasma Bias Serii 4000 są idealne do wszystkich krytycznych procesów PVD i PECVD i oferują optymalnie dostosowane do każdego procesu stabilne zasilanie prądowe pozwalające uzyskać doskonałe, powtarzalne wyniki.

-/-
TruPlasma Bias 4012
TruPlasma Bias 4018
TruPlasma Bias 4026
Wyjście    
Moc znamionowa 12 kW 18 kW 26 kW
Maks. prąd wyjściowy 40 A eff 60 A eff 87 A eff
Maks. napięcie wyjściowe 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff
Znamionowa częstotliwość robocza 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz
Parametry łuku    
Maks. charakterystyka łuku 50 1/s 50 1/s 50 1/s
Czas obróbki łukiem <0,5 µs <0,5 µs <0,5 µs
Dane przyłącza sieciowego    
Napięcie sieciowe 3x 360 V - 440 V 3x 360 V - 440 V 3x 360 V - 440 V
Częstotliwość sieciowa 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz
Złącza komunikacyjne    
Analogowe/cyfrowe Tak Tak Tak
RS 232 / RS 485 - Tak -
PROFIBUS Tak - Tak
EtherCAT Nie Nie Nie
Obudowa    
Masa 70 kg 70 kg 71 kg
Stopień ochrony IP IP 20 IP 20 IP 20
Wymagania dot. chłodzenia    
Medium chłodzące Powietrze Powietrze Powietrze
Temperatura medium chłodzącego 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C
Informacje ogólne    
Sprawność łączna 90 % 90 % 90 %
Certyfikaty/standardy CE CE CE
Warunki otoczenia    
Temperatura zewnętrzna 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C
Wilgotność powietrza 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
Ciśnienie barometryczne 860 kPa - 1060 kPa 860 kPa - 1060 kPa 860 kPa - 1060 kPa
Szkło architektoniczne

Zapewnia konsekwentnie dobre warunki procesowe

Specjalna konstrukcja zasilania i sterowania zapewnia stabilność napięcia, co ma kluczowe znaczenie dla jakości powierzchni i stabilnego procesu. Zaprojektowany w technologii DSP i wyposażony w analizę sygnału FPGA, TruPlasma Bias Serii 4000 posiada nowoczesny system detekcji łuków, który gwarantuje niespotykaną dokładność i powtarzalność pracy. Imponujące wartości obu parametrów zapewniają optymalną stabilizację procesu.

Powłoki utwardzane

Uproszczona obsługa systemu za pomocą jednego urządzenia do wielu procesów

Tru Plasma Bias serii 4000 posiada dwa oddzielne tryby napięcia: tryb wysokiego napięcia do 1200 woltów i tryb niskiego napięcia do 300 woltów. Tryby wspierają zwłaszcza optyczne i metalowe aplikacje powłok, które są używane na przykład w technologii półprzewodnikowej lub powlekania twardego materiału. Ponadto nadają się do wszystkich zastosowań o podobnych wymogach co do napięcia i prądu.

System detekcji łuków

Optymalna jakość warstwy dzięki bezawaryjnemu procesowi

Zasilacze TruPlasma Bias Serii 4000 posiadają w pełni cyfrowy system detekcji łuków o bardzo małej energii łuku pozwalający uzyskać wysokiej jakości powłoki i dużą prędkość osadzania. Pozwala to na większe ograniczenie osadzania makrocząsteczek i wywołanych ich obecnością uszkodzeń podłoża.

Łatwe w obsłudze oprogramowanie PVD Power

PVDPower

Przyjazne dla użytkownika, wielojęzyczne oprogramowanie PVD Power oferuje różne możliwości działania, konfiguracji i diagnostyki w celu optymalizacji jakości procesu i skutecznego rozwiązywania problemów: wyświetlanie rzeczywistych wartości wszystkich istotnych parametrów procesu, jak również ostrzeżeń i alarmów, ustawianie żądanej wartości przez operatora, nagrywanie i wizualizacja ważnych parametrów pracy z wysoką rozdzielczością czasową (oscyloskop).

W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Kontakt
TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
Faks +48 22 761 38 01
E-mail
Pliki do pobrania
Serwis i kontakt

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Poland. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Poland
United States

Or, select a country or a region.