Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookie w celu zapewnienia jej funkcjonalności. Jeżeli chcą Państwo zezwolić na używanie przez nas plików cookie również do innych celów, należy kliknąć tutaj. Informacje dotyczące wyłączenia plików cookie i ochrony danych osobowych
Zasilacz TruPlasma Highpulse Seria 4000 (G2)
Zasilacz TruPlasma Highpulse Seria 4000 (G2)
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2)

Doskonałe wyniki powlekania dzięki plazmie o wysokiej gęstości

Idealne rozwiązanie dla zastosowań HiPIMS

Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) mogą być stosowane jako alternatywa do zasilaczy DC w istniejących systemach magnetronowych bez modyfikacji. Umożliwiają uzyskanie twardych warstw odpornych na korozję i ścieranie, są więc doskonałym wyborem do zastosowań impulsowego rozpylania magnetronowego wysokiej mocy.

Idealne rezultaty powlekania

Moc maksymalna wynosząca nawet 4 megawaty umożliwia generowanie plazmy o ekstremalnej gęstości o dużych strumieniach jonów.

Elastyczność

Proste dostosowanie do istniejących systemów katod i warunków procesu pozwala na optymalną integrację urządzenia.

Idealne rozwiązanie dla zastosowań HiPIMS

Najnowsze rozwiązanie impulsowych metod rozpylania magnetronowego dużej mocy pozwala przygotować twarde warstwy szczególnie odporne na korozję i na ścieranie.

Do wielu zastosowań

Możliwość korzystania także w trybie DC, brak konieczności korzystania z dodatkowego zasilacza prądu stałego.

Generator TruPlasma Highpulse serii 4000 w akcji

Powłoki utwardzające

Dzięki zastosowaniu funkcjonalnych powłok bardzo obciążone narzędzia do obróbki zyskują większą twardość powierzchni oraz lepszą stabilność termiczną i chemiczną. Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) zapewniają stabilność procesu plazmowego, a tym samym pozwalają na uzyskanie optymalnej jakości powłoki.

Produkcja ogniw słonecznych

Półprzewodniki/fotowoltaika

W obszarze półprzewodników i fotowoltaiki istnieje wiele zastosowań o zróżnicowanym zapotrzebowaniu na energię procesową. Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) można optymalnie dostosować do danego procesu, co pozwala osiągnąć doskonałe parametry powlekania oraz wysoką produktywność.

Idealne do pokrywania dużych powierzchni

Warstwy szklane

Powlekanie dużych powierzchni szkła architektonicznego w procesie plazmowym PVD stawia wysokie wymagania w odniesieniu do zasilania procesu. Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) zapewniają idealne warunki do uzyskania wysokiej jakości nanoszonych warstw.

-/-
Szkło architektoniczne

Optymalne wyniki procesu

Wysoka moc maksymalna pozwala na uzyskanie silnie zjonizowanej plazmy i umożliwia wysoki przepływ jonów. W ten sposób można uzyskiwać bardzo spójne i gęste folie bez kropli. Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) w połączeniu ze spolaryzowanymi konfiguracjami substratu oferują doskonałe wyniki w zastosowaniach związanych z trawieniem i wypełnianiem rowków.

System detekcji łuków

W pełni cyfrowy system detekcji łuków

Możliwość przestawiania czasu impulsu i częstotliwości, rozszerzone parametry mocy i w pełni cyfrowy system detekcji łuków o bardzo niskiej energii luków umożliwia proces rozpylania magnetronowego bez kropel, minimalne defekty folii i gwarantuje wysokiej jakości powłoki i dużą prędkość osadzania.

Zasilacz HF do równoległych obwodów rezonansowych

Doskonałe powłoki

Wysoka energia i wysokie napięcie do 2 kV umożliwiają wytwarzanie powłok wysokiej jakości – w niewielkich laboratoriach i w dużych instalacjach przemysłowych. Impulsy trwające do 5 ms i częstotliwości do 10 kHz podwyższają tempo osadzania i pozwalają obniżyć całkowite koszty.

Produkcja ogniw słonecznych

Wysoka stabilność procesu

Regulacja mocy o zmiennej częstotliwości służy do utrzymania stałych parametrów osadzania także w przypadku wyjątkowo reaktywnych procesów. Dzięki temu procesy godzinami i dniami przebiegają stabilnie bez konieczności ingerencji.

Kompaktowa jednostka

Zasilacze serii TruPlasma Highpulse są kompaktowymi jednostkami. Wymagają zewnętrznego zasilania prądem stałym, są chłodzone wodą i mogą pracować w komorze czystej.

Różnorodność opcji konfiguracji pozwala na dostosowanie zasilaczy TruPlasma Highpulse Serii 4000 (G2) do wielu zastosowań.

Prosta regulacja procesu
System zarządzania Arc CompensateLine (CLC)

W pełni cyfrowy system zarządzania Arc o bardzo małej energii Arc pozwala uzyskać wysokiej jakości powłoki i dużą prędkość osadzania.

Graficzne oprogramowanie do obsługi PVD Power

PVDPower

Przyjazne dla użytkownika, wielojęzyczne oprogramowanie PVD Power oferuje różne możliwości działania, konfiguracji i diagnostyki w celu optymalizacji jakości procesu i skutecznego rozwiązywania problemów: wyświetlanie rzeczywistych wartości wszystkich istotnych parametrów procesu, jak również ostrzeżeń i alarmów, ustawianie żądanej wartości przez operatora, nagrywanie i wizualizacja ważnych parametrów pracy z wysoką rozdzielczością czasową (oscyloskop).

W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Kontakt
TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
Faks +48 22 761 38 01
E-mail
Pliki do pobrania
Serwis i kontakt

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Poland. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Poland
United States

Or, select a country or a region.