Aby udostępniać treści i zapewnić funkcjonalność tej witryny, wykorzystujemy pliki cookies. Aby zezwolić na wykorzystywanie przez nas plików cookies także w innych celach, kliknij tutaj. Informacje dotyczące dezaktywacji plików "cookies" i ochrony danych
TRUMPF Laser Amplifier zur Herstellung von Hochleistungschips
TRUMPF Laser Amplifier zur Herstellung von Hochleistungschips
Laser CO2

TRUMPF Laser Amplifier

Impuls lasera jest podstawą wytwarzania mikroczipów przyszłości.

Litografia EUV jako warunek umożliwiający przejście do ery cyfrowej

Litografia w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV) jest wiodącą metodą wytwarzania mikroczipów przyszłości. Przedstawiciele branży półprzewodnikowej przez wiele lat poszukiwali efektywnego i prostego w zastosowaniu masowym procesu, który umożliwiałby oświetlanie jeszcze mniejszych struktur na waflach krzemowych. Współpracujące ze sobą firmy ASML, Zeiss i TRUMPF opracowały technologię, która pozwala korzystać ze światła w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV) o długości fal 13,5 nm na skalę przemysłową: w komorze próżniowej generator kropel uwalnia 50 000 najdrobniejszych kropel cyny na sekundę. Z każdą kroplą styka się jeden z 50 000 impulsów lasera i powstaje plazma. Powstaje przy tym światło z zakresu ekstremalnego ultrafioletu, które jest prowadzone do naświetlanego wafla za pośrednictwem zwierciadeł. Impuls stosowany w uzyskiwaniu plazmy jest dostarczany przez impulsowy system lasera CO2 – TRUMPF Laser Amplifier.

Od kilku watów do 40 kW

Wzmacniacz TRUMPF Laser Amplifier sekwencyjnie wzmacnia impuls lasera nawet ponad 10 000 razy.

Efektywnie i bezpiecznie

Wysłanie impulsu wstępnego i głównego pozwala na pełne wykorzystanie mocy wzmacniacza laserowego i przesłanie jej do kropelek cyny.

Nowe zastosowanie lasera CO₂

Podstawą systemu laserowego wysokiej mocy jest laser CO₂ w trybie impulsu ciągłego. W ten sposób firma TRUMPF opracowała nowe zastosowanie technologii.

Wielka sieć specjalistów

Długoletnia, bliska współpraca firm TRUMPF, ASML oraz ZEISS pozwoliła na wprowadzenie do przemysłu dojrzałej technologii EUV.

457,329

części

…obejmuje wzmacniacz laserowy.

37 522

m

…kabli zabudowano w systemie.

17 090

kg

… to masa całkowita.

Centralne komponenty wzmacniacza TRUMPF Laser Amplifier

Aktualne oferty pracy

1

Bewerbertag Produktion & Service TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing (EUV) am 05.04.2019 in Ditzingen

Produkcja/zarządzanie jakością, Serwis/centrum szkoleniowe | Ditzingen / Niemcy

2

Entwicklungsingenieur (w/m/d) Elektrotechnik für EUV

Badania/rozwój, IT/rozwój oprogramowania | Ditzingen / Niemcy

3

System Engineer (f/m/d) for CO2 laser systems

Badania/rozwój | Ditzingen / Niemcy

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Serwis i kontakt

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Poland. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Poland
United States

Or select a country or region.