Aby udostępniać treści i zapewnić funkcjonalność tej witryny, wykorzystujemy pliki cookies. Aby zezwolić na wykorzystywanie przez nas plików cookies także w innych celach, kliknij tutaj. Informacje dotyczące dezaktywacji plików "cookies" i ochrony danych
Artikelsammlung für EUV-Lithographie

W obiektywie mediów: litografia EUV

Wykorzystanie promieniowania w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV) do oświetlania wafli krzemowych jest bez wątpienia przyszłościowym tematem w branży zajmującej się czipami. Nic dziwnego, że w prasie specjalistycznej oraz powszechnej regularnie publikowane są artykuły poświęcone temu tematowi, a technologia jest rozwijana. Zbiór niektórych artykułów krajowych i międzynarodowych znajduje się na tej stronie.

Samsung produkuje czipy o wymiarach 7 nm z wykorzystaniem oświetlania EUV

Na stronie heise.de pojawił się artykuł, mówiący, że jesienią 2018 r. firma Samsung rozpoczęła produkcję w pierwszej fabryce elementów 7 nm i wykorzystuje tam system litografii EUV firmy ASML do oświetlania wafli krzemowych. Źródło: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Data publikacji: 10/2018
Link: do artykułu

Przed czasem

Sprawozdanie z działalności firmy TRUMPF 2017/2018 wskazuje, jak zapanowanie nad światłem, więc także laser oraz litografia EUV, stanowi podstawy technologii przyszłości takich jak sztuczna inteligencja, autonomiczne pojazdy oraz usieciowane fabryki.

Źródło: Sprawozdanie z działalności firmy TRUMPF, rok podatkowy 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Data publikacji: 10/2018
Link: do artykułu

Dostępność skanerów EUV wzrosła do 85%

Artykuł ze strony golem.de zapowiada nowości. Firma ASML tak znacząco usprawniła swoje systemy NXW:3400B, że ekonomiczna i efektywna czasowo produkcja seryjna z wykorzystaniem promieniowania z zakresu ekstremalnego ultrafioletu będzie dostępna w najbliższej przyszłości. Źródło: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Data publikacji: 07/2018
Link: do artykułu

The secret of EUV generation

LaserFocusWorld w tym artykule opisuje ponad 20 lat rozwoju technologii EUV i przedstawia liczne przeszkody i wymagania, które musiały zostać przezwyciężone do przełomu w 2015 r.

Źródło: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Data publikacji: 11/2017
Link: do artykułu

TRUMPF konsoliduje łańcuch dostawy w zakresie litografii EUV dzięki umowie z Access Laser

To sprawozdanie w specjalistycznym piśmie „Produktion” dotyczy przejęcia pakietu większościowego spółki Access przez firmę TRUMPF. Spółka Access jako producent laserów CO2 o niskiej mocy jest ważnym partnerem działalności firmy TRUMPF w zakresie EUV. Źródło: www.optics.org
Autor: n.N.
Data publikacji: 10/2017
Link: do artykułu

TRUMPF chce zrewolucjonizować branżę czipów

Stuttgarter Zeitung opisuje, jak firma TRUMPF dzięki swojemu urządzeniu Laser Amplifier wchodzi do branży półprzewodnikowej jako kooperant oraz jak powstała nowa spółka-córka. Źródło: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Data publikacji: 05/2017
Link: do artykułu

EUV stosuje się już w produkcji układów scalonych

Artykuł w tygodniku dla elektroników „Markt&Technik” podsumowuje aktualne i planowane statystyki sprzedaży i obrotów firmy ASML, które wskazują, że litografia EUV w końcu weszła do zastosowań na skalę przemysłową. Źródło: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Data publikacji: 07/2017
Link: do artykułu

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Serwis i kontakt

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Poland. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Poland
United States

Or select a country or region.