You have selected Polska. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Artykuły o litografii EUV | TRUMPF
Litografia EUV – zbiór artykułów

W obiektywie mediów: litografia EUV

Wykorzystanie promieniowania w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV) do oświetlania wafli krzemowych jest bez wątpienia przyszłościowym tematem w branży zajmującej się czipami. Nic dziwnego, że w prasie specjalistycznej oraz powszechnej regularnie publikowane są artykuły poświęcone temu tematowi, a technologia jest rozwijana. Zbiór niektórych artykułów krajowych i międzynarodowych znajduje się na tej stronie.

Proces 5 nm firmy Samsung w zakresie EUV jest już gotowy.

W tym artykule opublikowanym na stronie Golem.de autor Marc Sauter informuje, że firma Samsung Foundry zakończyła rozwój procesu 5 nm z wykorzystaniem światła z zakresu ekstremalnego ultrafioletu i przyjmuje już zlecenia od klientów. Nowy proces pozwala na wzrost gęstości tranzystorów o 25%, a jednocześnie pobór mocy elektrycznej przez czip spada o 20% przy wzroście mocy obliczeniowej o 10%.

Źródło: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Data publikacji: 04/2019
Linkdo artykułu

Samsung produkuje czipy o wymiarach 7 nm z wykorzystaniem oświetlania EUV

Na stronie heise.de pojawił się artykuł, mówiący, że jesienią 2018 r. firma Samsung rozpoczęła produkcję w pierwszej fabryce elementów 7 nm i wykorzystuje tam system litografii EUV firmy ASML do oświetlania wafli krzemowych. Źródło: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Data publikacji: 10/2018
Link: do artykułu

Przed czasem

Sprawozdanie z działalności firmy TRUMPF 2017/2018 wskazuje, jak zapanowanie nad światłem, więc także laser oraz litografia EUV, stanowi podstawy technologii przyszłości takich jak sztuczna inteligencja, autonomiczne pojazdy oraz usieciowane fabryki.

Źródło: Sprawozdanie z działalności firmy TRUMPF, rok podatkowy 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Data publikacji: 10/2018
Link: do artykułu

Dostępność skanerów EUV wzrosła do 85%

Artykuł ze strony golem.de zapowiada nowości. Firma ASML tak znacząco usprawniła swoje systemy NXW:3400B, że ekonomiczna i efektywna czasowo produkcja seryjna z wykorzystaniem promieniowania z zakresu ekstremalnego ultrafioletu będzie dostępna w najbliższej przyszłości. Źródło: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Data publikacji: 07/2018
Link: do artykułu

The secret of EUV generation

LaserFocusWorld w tym artykule opisuje ponad 20 lat rozwoju technologii EUV i przedstawia liczne przeszkody i wymagania, które musiały zostać przezwyciężone do przełomu w 2015 r.

Źródło: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Data publikacji: 11/2017
Link: do artykułu

TRUMPF konsoliduje łańcuch dostawy w zakresie litografii EUV dzięki umowie z Access Laser

To sprawozdanie w specjalistycznym piśmie „Produktion” dotyczy przejęcia pakietu większościowego spółki Access przez firmę TRUMPF. Spółka Access jako producent laserów CO2 o niskiej mocy jest ważnym partnerem działalności firmy TRUMPF w zakresie EUV. Źródło: www.optics.org
Autor: n.N.
Data publikacji: 10/2017
Link: do artykułu

TRUMPF chce zrewolucjonizować branżę czipów

Stuttgarter Zeitung opisuje, jak firma TRUMPF dzięki swojemu urządzeniu Laser Amplifier wchodzi do branży półprzewodnikowej jako kooperant oraz jak powstała nowa spółka-córka. Źródło: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Data publikacji: 05/2017
Link: do artykułu

EUV stosuje się już w produkcji układów scalonych

Artykuł w tygodniku dla elektroników „Markt&Technik” podsumowuje aktualne i planowane statystyki sprzedaży i obrotów firmy ASML, które wskazują, że litografia EUV w końcu weszła do zastosowań na skalę przemysłową. Źródło: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Data publikacji: 07/2017
Link: do artykułu

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Serwis i kontakt