Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookie w celu zapewnienia jej funkcjonalności. Jeżeli chcą Państwo zezwolić na używanie przez nas plików cookie również do innych celów, należy kliknąć tutaj. Informacje dotyczące wyłączenia plików cookie i ochrony danych osobowych
Zasilanie prądowe średnich częstotliwości najwyższej klasy do powlekania płaskich ekranów

Technologia plazmowa

TRUMPF Hüttinger – zasilanie prądowe procesów plazmowych

Plazma to stan, w którym gaz jest zjonizowany i przewodzi prąd elektryczny. W naturze występuje to jako m.in zorza polarna. Uzyskanie plazmy jest technicznie możliwe z wykorzystaniem dostosowanych do tego celu zasilania prądowego lub generatorów. W technice oświetleniowej to rozwiązanie jest szeroko rozpowszechnione jako świetlówki. W produkcji przemysłowej plazma jest stosowana przede wszystkim do obróbki powierzchni. Technologia plazmowa pozwala na różnorodne powlekanie, uszlachetnianie i formowanie powierzchni. Technologia plazmowa została na początku zastosowana w produkcji mikroelektroniki, ale zdobyła swoje miejsce także w innych procesach przemysłowych. Niezależnie od wybranego procesu plazmowego i obszaru zastosowania do właściwej pracy wymagane jest specjalistyczne zasilanie prądowe.

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Kontakt
TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
Faks +48 22 761 38 01
E-mail

TRUMPF Polska
Faks +48 22 575 39 01
E-mail
Kontakt
TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
Faks +48 22 761 38 01
E-mail

TRUMPF Polska
Faks +48 22 575 39 01
E-mail
Serwis i kontakt

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Poland. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Poland
United States

Or, select a country or a region.