Geradores de plasma MF
Os geradores de plasma MF da TRUMPF Hüttinger são principalmente utilizados em sistemas catódicos duplos, por exemplo, para a pulverização catódica de magnetrão dual. Graças à sua alta potência de saída e estabilidade de processo, os geradores de frequência média são adequados para o revestimento de grandes superfícies de vidro de arquitetura com elevadas taxas de deposição e para a aplicação de camadas ultrafinas, homogêneas em semicondutores e células solares. Graças à sua excelente precisão e produtividade, nossas alimentações elétricas de processo MF representam a solução ideal para inúmeras aplicações na formação de plasma.
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