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Gerador de alta frequência TruPlasma RF 3006
Gerador de alta frequência TruPlasma RF 3006
Estimulações por plasma
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13)

Processos estáveis para maior produtividade

Geradores de alta frequência de última geração

No revestimento ou estruturação de superfícies, o fator decisivo é a alimentação de corrente de plasma estável e reprodutível. Aqui, os geradores de alta frequência equipados com eletrônica de potência moderna do TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) oferecem as melhores condições: graças à potência de saída estável e à alta precisão de regulagem, eles conseguem garantir os melhores resultados em produtividades altas.

Alta precisão e reprodutibilidade

Tecnologia CombineLine: desempenho de processo ideal graças à impedância de saída real de 50 Ohm.

Independentemente do comprimento do cabo de alta tensão

Não é mais necessário efetuar ajustes no comprimento do cabo - uma novidade na área de alta frequência!

Robustez e segurança

Tecnologia CombineLine: proteção confiável contra potências refletidas em adaptações incorretas.

Eficiência e rentabilidade

Níveis de eficiência de até 80 % permitem uma redução dos custos com energia em até 50 %.

Conceito de refrigeração sem ar

Sem aquecimento ou poluição do ar do ambiente, por isso é possível operar em ambientes estéreis.

Gerador de alta frequência TruPlasma RF 3006

Ideal para revestimento de telas planas

Os geradores de alta frequência TruPlasma Série RF 1000 / 3000 (G2/13) são ideais para processos de plasma como RIE, ALD, PECVD e pulverização catódica. Esses processos são aplicados, por exemplo, na fabricação de elementos de semicondutores e sistemas microeletromecânicos (MEMS), bem como no revestimento de telas planas e células solares.

Fabricação de células solares

Área de aplicação típica: a indústria solar

As áreas de aplicação típicas do TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) são processos rigorosos de PECVD, gravação e de pulverização de alta frequência nas indústrias de tela plana, solar e de semicondutores.

Ideal para processos de gravação e revestimento

Fabricação de semicondutores

Na fabricação de semicondutores são usados diversos processos de plasma, desde processos de deposição por gravação a seco até método de flutuação de zona na fabricação de silício puro. Os geradores TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) oferecem todas as condições para uma alimentação de corrente estável, ideal e conforme o respectivo processo, de maneira que resultados excelentes e reprodutíveis possam ser atingidos.

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TruPlasma RF 1002
TruPlasma RF 1003
TruPlasma RF 3006
Saída de alta frequência      
Potência de saída 2 kW 3 kW 6 kW
Potência nominal 2 kW 3 kW 6 kW
Impedância de carga nominal 50 Ω 50 Ω 50 Ω
Frequência de saída 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Dados de conexão de rede      
Tensão de rede 200 - 480 V 200 - 480 V 200 - 480 V
Frequência de rede 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz
Potência de aceitação de rede 3,1 kVA 4,3 kVA 7,9 kVA
Fator de potência 0,95 0,95 0,95
Interfaces de comunicação      
Interfaces sincr. Sim Sim Sim
Analógico/Digital Sim Sim Sim
RS 232 / RS 485 Sim Sim Sim
PROFIBUS Sim Sim Sim
EtherCAT Sim Sim Sim
DeviceNet Sim Sim Sim
Carcaça      
Peso 18 kg 18 kg 38 kg
Tipo de proteção IP 30 30 30
Requisitos de refrigeração      
Pressão máx. água 7 Bar 7 Bar 7 Bar
Diferencial de pressão mín. 1,1 Bar 1,1 Bar 1,1 Bar
Quantidade mín. de fluxo 4 l/min 4 l/min 8 l/min
Temperatura do líquido de refrigeração 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1
Informações gerais      
Nível de eficiência total 80 % 80 % 80 %
Certificados / normas Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs
Condições ambientais      
Temperatura externa 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
Umidade do ar 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
Pressão barométrica 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa
PDF <1MB
Ficha de dados técnica

Os dados técnicos de todas as versões de produto como download.

Tecnologia CombineLine integrada

Ajuste ideal ao seu processo

A correspondência inteligente em tempo real do TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) garante uma adaptação de impedância rápida e direta em 50 Ohm. As oscilações de plasma e poluições são impedidas de maneira confiável com a tecnologia patenteada CombineLine, o conceito de refrigeração sem ar reduz a taxa de interrupções, aumenta a eficiência e permite a utilização em ambientes estéreis.

Gerador de alta frequência para circuitos oscilantes paralelos

Máxima eficiência e flexibilidade

Graças aos altos níveis de eficiência de até 80%, você consegue reduzir os custos energéticos em comparação com geradores comuns em até 50%. As diversas interfaces disponíveis (interface analógica configurável, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) facilitam a integração a sistemas existentes, as adaptações técnicas não são mais necessárias devido aos ultra-adaptadores de rede integrados mundiais (200-480 VAC). A forma compacta, apesar da alta densidade de potência (módulos de 19 polegadas e 19 e meia polegadas), permite uma integração com economia de espaço em todos os sistemas de produção.

TruPlasma RF_Relatório de sistema

TRUMPF SystemPort

O SystemPort permite um circuito de regulagem fechado por meio da medição do sinal de RF diretamente na entrada e saída do Matchbox. Diversos valores de medição estão à disposição do gerador de RF. Assim, os parâmetros de processo podem ser melhor monitorados, o Matchbox é protegido e é possível garantir uma detecção de arco rápida. Todo o sistema de RF também pode ser controlado por interfaces do gerador individuais.

As diferentes opções permitem uma adaptação ideal do gerador de alta frequência à sua aplicação.

Gestão de arco de alta frequência

A gestão de arcos sofisticada é o módulo ideal para o melhor controle do processo de plasma. Uma detecção de arco específica garante a maior produtividade possível e protege ainda o produto e o sistema.

Auto Frequency Tuning

A solução patenteada Auto Frequency Tuning permite um ajuste de frequência simultâneo e rápido e garante uma interação ideal entre o gerador e o Matchbox. Com essa tecnologia patenteada, a quantidade mínima local não é mais um obstáculo: o sistema de RF foi concebido de forma ideal e, por isso, permite os melhores resultados de processo e um alto nível de capacidade de reprodução.

Todos os componentes do sistema catódico da TRUMPF estão perfeitamente ajustados entre si.

Solução de sistema catódico: Matchbox para a máxima estabilidade de processo
Matchbox do TruPlasma Match Série 1000 (G2/13)

As redes de adaptação do TruPlasma Match garantem uma transferência ideal de potência do gerador para a descarga de plasma. A operação do Matchbox pode ser feita de maneira autônoma ou por uma ligação inteligente Matchbox-gerador, o chamado SystemPort.

Oscilador mestre para estabilização de processos de plasma síncronos críticos
Osciladores mestre

Por causa dos osciladores mestre, os processos de plasma síncronos críticos podem ser estabilizados e otimizados. Um sintetizador digital integrado de frequência e fase garante uma grande estabilidade de frequência e fase e permite o ajuste da posição de fase em incrementos muito pequenos. Há diversas versões de osciladores mestre disponíveis para a frequência 13,56 MHz, bem como para diferentes combinações de frequência.

Comutador de alta frequência para utilização de um gerador de alta frequência em sistemas de plasma flexíveis
Comutador de alta frequência

O comutador de alta frequência permite a utilização múltipla de um gerador de alta frequência em diversas estações de processo de plasma, como para alimentação de tensão de processos sequenciais ou em sistemas com diversos pontos de alimentação. Há diversos comutadores de alta frequência disponíveis em duas classes de potência com 2, 3 ou 4 saídas.

Cabo coaxial para transmissão de potência específica
Cabo coaxial

Para a transmissão de potência de alta frequência, a TRUMPF Hüttinger fornece cabos coaxiais especialmente concebidos para a operação em sistemas de 50 Ohm.

Gerador e Matchbox: uma solução de sistema perfeitamente ajustada

Ajuste perfeito: o sistema catódico da TRUMPF

Os processos de plasma se comportam como uma carga complexa e variável que precisa receber uma alimentação elétrica de maneira contínua. Isso é feito por redes de adaptação ativas, chamadas de Matchboxes, que garantem uma adaptação precisa à impedância ideal de 50 Ohm a qualquer momento. Assim surge uma solução de sistema perfeitamente ajustada, o sistema catódico da TRUMPF. Por diversas interfaces, entre elas EtherCAT, é possível integrar o gerador e o Matchbox de maneira simples ao ambiente de processo existente. Com a ligação inteligente entre o Matchbox e o gerador, o chamado SystemPort, atinge-se a solução de sistema ideal.

Dependendo do país, pode haver divergências na oferta de produtos e nos dados apresentados. Reserva-se o direito de efetuar alterações em tecnologia, equipamento, preço e oferta de acessórios. Entre em contato com nosso parceiro no local para saber se o produto está disponível em seu país.

Notas de rodapé
  • A temperatura do líquido de refrigeração deve exceder o ponto de orvalho da temperatura do ar ambiente para assegurar ausência de condensação.

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Contato

Klaus Nock
Vendas de plasma
Fax +49 761 89711150
E-mail

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Catálogo TruPlasma RF Série 1000 3000
Catálogo TruPlasma RF Série 1000 3000
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Catálogo do sistema do TruPlasma RF
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