Всплывающее предупреждение об использовании "cookie" Если вы разрешаете нам использовать файлы "cookie" также в других целях, пожалуйста, нажмите здесь. Информация о дезактивации куки-файлов и защиты данных

Пассивное вакуумное напыление

Создавать новое с помощью напыления

Ideal für Großflächenbeschichtung

При использовании технологии пассивного вакуумного напыления на различные материалы наносятся тонкие слои покрытия в микронном диапазоне. Для этого кусок материала, состоящий из слоев, которые необходимо нанести на поверхность, физически испаряют в вакууме. Атомные частицы из полученной газовой смеси отделяются от субстрата. Во время пассивного вакуумного напыления с использованием плазмы в результате ионной бомбардировки происходит напыление катодов. Это так называемое ионно-плазменное напыление, или распыление, происходит при комнатной температуре. Процесс пассивного вакуумного напыления состоит из трех этапов: напыление, диффузия и формирование слоя.

Контакты

Dr. Daniel Krausse
Плазменные технологии RF
Адрес электронной почты
Сервисное обслуживание и контакты

Close

Country and language selection

Please note

You have selected the international "Russian" language version of the website. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

International Russian
United States

Or select a country or region.