Всплывающее предупреждение об использовании "cookie" Если вы разрешаете нам использовать файлы "cookie" также в других целях, пожалуйста, нажмите здесь. Информация о дезактивации куки-файлов и защиты данных

Пассивное вакуумное напыление

Создавать новое с помощью напыления

Ideal für Großflächenbeschichtung

При использовании технологии пассивного вакуумного напыления на различные материалы наносятся тонкие слои покрытия в микронном диапазоне. Для этого кусок материала, состоящий из слоев, которые необходимо нанести на поверхность, физически испаряют в вакууме. Атомные частицы из полученной газовой смеси отделяются от субстрата. Во время пассивного вакуумного напыления с использованием плазмы в результате ионной бомбардировки происходит напыление катодов. Это так называемое ионно-плазменное напыление, или распыление, происходит при комнатной температуре. Процесс пассивного вакуумного напыления состоит из трех этапов: напыление, диффузия и формирование слоя.

Контакты

Dr. Daniel Krausse
Плазменные технологии RF
Адрес электронной почты
Сервисное обслуживание и контакты

Close

Country and language selection

Please note

You have selected the international "Russian" language version of the website . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

International Russian
United States

Or select a country or region.