Всплывающее предупреждение об использовании "cookie" Если вы разрешаете нам использовать файлы "cookie" также в других целях, пожалуйста, нажмите здесь. Информация о дезактивации куки-файлов и защиты данных
Artikelsammlung für EUV-Lithographie

Точка зрения СМИ: фотолитография в глубоком ультрафиолете

Применение экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) для экспозиции подложек, без сомнения, является одной из важнейших стратегий будущего в производстве микросхем. Неудивительно, что не только специализированные, но и популярные СМИ регулярно публикуют материалы по теме и следят за развитием технологии. На этой странице вы найдете подборку наиболее важных статей, вышедших в Германии и за рубежом.

Samsung производит 7-нанометровые микросхемы с помощью установок EUV для экспонирования

В данной статье сайт heise.de докладывает о том, что осенью 2018 года компания Samsung впервые приступила к производству микросхем размером 7 нм и для экспонирования подложек применила систему фотолитографии в глубоком ультрафиолете ASML. Источник: www.heise.de
Автор: Нико Эрнст (Nico Ernst)
Дата издания: 10/2018
Ссылка: перейти к статье

Впереди времени

Отчет о состоянии дел TRUMPF за 2017–2018 гг. расскажет о том, как освоение возможностей света, в частности, лазеров и литографии EUV, способствует развитию прогрессивных технологий, таких как искусственный интеллект, автономное вождение и объединение производства в сеть.

Источник: Отчет о состоянии дел TRUMPF за 2017–2018 финансовый год
Автор: TRUMPF GmbH + Co. KG
Дата издания: 10/2018
Ссылка: перейти к статье

Доступность сканеров EUV возросла до 85 процентов

Статья на сайте golem.de сообщает, что компания ASML настолько усовершенствовала системы NXW:3400B, что малозатратное и быстрое серийное производство с применением экстремального ультрафиолетового излучения становится делом ближайшего будущего. Источник: www.golem.de
Автор: Марк Заутер (Marc Sauter)
Дата издания: 07/2018
Ссылка: перейти к статье

Секрет генерации EUV

В этой статье LaserFocusWorld рассказывается более чем о двадцати годах развития технологии EUV и различных сложностях и препятствиях, с которыми приходилось сталкиваться вплоть до прорыва в 2015 году.

Источник: LaserFocusWorld
Автор: Андреас Тосс (Andreas Thoss)
Дата издания: 11/2017
Ссылка: перейти к статье

TRUMPF объединяет каналы поставок фотолитографии в глубоком ультрафиолете со сделкой по приобретению Access Laser

Эта заметка специализированного журнала Produktion посвящена приобретению компанией TRUMPF мажоритарной доли Access. Access Laser — производитель маломощных CO2-лазеров и один из важнейших партнеров TRUMPF в сфере применения фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV). Источник: www.optics.org
Автор: имя не указано
Дата издания: 10/2017
Ссылка: перейти к статье

TRUMPF хочет встряхнуть сферу производства микросхем

Газета Stuttgarter Zeitung рассказывает о том, как компания TRUMPF стала поставщиком усилителей лазерного излучения для производства полупроводников, и как для этого направления была создана дочерняя компания. Источник: Stuttgarter Zeitung
Автор: Михаэль Хеллер (Michael Heller)
Дата издания: 05/2017
Ссылка: перейти к статье

Технологии EUV внедрены в производство ИМС

Статья в еженедельной газете Markt&Technik, посвященной электронике, систематизирует текущие и запланированные показатели оборота и продаж ASML, которые доказывают, что фотолитография в глубоком ультрафиолете окончательно укоренилась в производстве. Источник: Markt&Technik
Автор: Хайнц Арнольд (Heinz Arnold)
Дата издания: 07/2017
Ссылка: перейти к статье

Вам могут быть интересны эти темы

Контакты
Сервисное обслуживание и контакты

Close

Country and language selection

Please note

You have selected the international "Russian" language version of the website. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

International Russian
United States

Or select a country or region.