Для отображения данного веб-сайта используются файлы куки. Если вы продолжаете пользоваться веб-сайтом, не меняя настроек файлов куки, мы расцениваем это как ваше согласие на использование файлов куки.
Visual Elektronik

Электроника

Быстрее, меньше, эффективнее: прогресс в микроэлектронике тесно связан с лазерной техникой.

Устойчивая тенденции к миниатюризации продукции и производство крупных партий — вот две важные особенности в производстве электроники. Беспрецедентная точность и удобные возможности автоматизации, характерные для лазерной техники, позволяют создавать промышленные решения, отвечающие этим требованиям. Лазеры TRUMPF играют важную роль при производстве компьютерных микросхем нового поколения. Кроме того, лазеры можно использовать и на многих дальнейших этапах процесса: резке и сверлении кремниевых пластин, печатных плат или всего электронного блока. Генераторы TRUMPF Hüttinger обеспечат подачу энергии для нанесения покрытий и травления при производстве кремниевых пластин.

Высокопроизводительные микросхемы будущего

TruFlow Laser-Amplifier für EUV-Anwendungen

Появление микроэлектроники, ставшей основой для наших современных компьютеров и смартфонов, было бы невозможным без лазерной техники. Микросхемы памяти и логические микросхемы состоят из структур размером в несколько нанометров и могут создаваться только при сложном экспонировании с лазерным излучением. Обычное УФ-излучение эксимерного лазера имеет ограниченное действие. Мелкие структуры могут создаваться только с еще меньшей длиной волны в спектре глубокого ультрафиолета. Чтобы генерировать это излучение, необходим инновационный метод, при котором высококачественный углекислотный лазер бомбардирует материал мельчайшими капельками олова и производит светящуюся плазму. Часть излучения плазмы с длиной волны до 13,5 нм может использоваться для освещения микросхемы — литография в глубоком ультрафиолете. В рамках многолетнего сотрудничества с крупнейшим производителем литографических систем ASML и специалистами в области оптики из фирмы Zeiss компания TRUMPF разработала уникальную углекислотную лазерную систему. Изделия TRUMPF также используются в производстве кремниевых пластин при нанесении покрытий и травлении. В будущем новые технологии TRUMPF найдут свое применение во многих высокопроизводительных микросхемах.

Холодная прецизионная обработка микросхем, модулей и печатных плат

Laserbohren einer Leiterplatte mit einem Laser der TruMicro Serie 5000.

Следующим этапом после экспонирования и конструирования схемы на кремниевой плате становится ее разделение на отдельные микросхемы. Чтобы обеспечить минимальный размер прорезей и высокое качество кромок, а также не повредить чувствительные микросхемы при воздействии температуры, при разделении используется лазер сверхкоротких импульсов TRUMPF. Он позволяет обрабатывать материал без нежелательного теплового воздействия и с высокой точностью. Этот лазер также подходит для обрезания чувствительных модулей (пакетов схем в едином модуле), обработки печатных плат и сверления так называемых микроперемычек в кремнии и стекле. Помимо того, предприятия данной отрасли используют лазеры TRUMPF для снятия слоев, резки пленки и нанесения надписей.

Выращивание монокристаллов

Zone Floating Process

Синтетическое производство кристаллов лежит в основе производства полупроводников и тем самым всей коммуникационной и мультимедийной техники. Слои монокристаллов вырастают на монокристаллическом субстрате того же материала, при этом сохраняется кристаллографический порядок. Данный метод применяется в том числе для производства светодиодов. Индукционные генераторы TRUMPF Hüttinger обеспечивают однородное стабильное распределение температуры за счет быстрой и точной регулировки выходных параметров.

Контакты

Сервисное обслуживание и контакты