Разносторонние характеристики обеспечивают широкую область применения
Наши пульсирующие волоконные лазеры TruPulse nano, использующие технологии GTWave и PulseTune, относятся к числу промышленных лазеров с максимально широкими возможностями применения в ассортименте компании TRUMPF. Эти лазеры работают с длительностью импульса в наносекундном диапазоне и используются во многих областях промышленности. Их преимущество для пользователя — непревзойденное количество возможностей применения. Помимо того, эти лазеры абсолютно не нуждаются в техническом обслуживании, что позволяет вам уделить все внимание результатам работы и избежать затрат времени и средств на соблюдение схем технического обслуживания.
Универсальность
Используйте бесконтактную технологию для нанесения стойкой маркировки с высокой скоростью и точностью. Для текстовой маркировки лазером не требуются расходные материалы. Тексты создаются с помощью компьютера, что обеспечивает максимально широкие возможности применения.
Инновационная технология
Расширенные функции микрообработки поднимают наши лазеры с технологией PulseTune на совершенно новый уровень и позволяют вам приобщиться к высшим достижениям импульсных наносекундных технологий. Эти лазеры предоставляют OEM-интеграторам максимальное количество возможностей управления шириной импульса и пиковой мощностью. Уникальная функция PulseTune обеспечивает частоту пульсации в наиболее распространенном диапазоне, одновременно поддерживая постоянную величину пиковой мощности.
Универсальность
Доступны до 48 форм волн. Возможность идеально подобрать параметры пульсации для конкретных случаев применения позволяет повысить качество технологических процессов и производительность.
Техническое обслуживание не требуется
Пульсирующие волоконные лазеры не нуждаются в техническом обслуживании. Это позволяет вам уделить все внимание результатам работы и избежать затрат времени на соблюдение схем технического обслуживания.
Сварка короткоимпульсным лазером
Вне зависимости от материала, толщины или комбинации металлов, наши лазеры гарантируют универсальные возможности применения и позволяют сваривать самые разнообразные изделия — от топливных элементов и батарей до тонких проводов для изготовления медицинского оборудования. Используя наш запатентованный способ сварки короткоимпульсным лазером, вы сможете соединять тонкие металлические заготовки практически в любом сочетании, включая металлы с высокой отражательной способностью и электропроводящие металлы.
Сверление
При лазерном сверлении пульсирующий луч лазера многократно направляется на определенный участок. При этом просверливаемый материал слой за слоем испаряется и расплавляется, пока не образуется просверленное отверстие. Сверление лазером отличается высокой точностью, которой можно управлять, тщательно контролируя интенсивность и длительность излучения.
Резка
Луч лазера можно с легкостью запрограммировать для точного резания различных материалов любой толщины, в том числе металлов, включая отражающие металлы, такие как медь, серебро и алюминий, а также латунь, вольфрам, сталь, олово и титан. Помимо того, можно выполнять обработку драгоценных камней, таких как бриллианты, а также керамики, композитных материалов для графических работ, кремния и многих видов синтетических материалов. Высокая точность достигается при резке даже очень сложных форм, так как пользователь постоянно и в полном объеме контролирует интенсивность и продолжительность излучения, а также тепловое воздействие.
Нанесение маркировки и гравирование
В то время как при нанесении маркировки воздействие оказывается только на поверхность заготовки, гравирование имеет определенную глубину. Почти на каждый материал лазером можно наносить черную маркировку, а на некоторые материалы даже цветную. Текстовая маркировка лазером используется, в частности, для керамики, синтетических материалов, металлов, светодиодов, резины и композитных материалов для графических работ.
Снятие слоя
Лазер позволяет точно удалять слои материала на металлических деталях или промышленных соединениях, например в полупроводниках и микропроцессорах электронных изделий.
Очистка
При лазерной очистке обычно используются высокая частота пульсации и короткие импульсы с высокой пиковой мощностью — именно это обеспечивают короткоимпульсные лазеры. Цель очистки — удалить остатки покрытия и загрязненные слои, не повреждая при этом материал подложки. Лазерная очистка представляет собой недорогой и экологичный метод, который хорошо зарекомендовал себя в промышленности во всем мире.
TruPulse 1002 nano (FK10-EP) Сравнить продукт |
TruPulse 1002 nano (FK10-HS) Сравнить продукт |
TruPulse 1003 nano (FK10-HS) Сравнить продукт |
TruPulse 1005 nano (FK10-HS) Сравнить продукт |
TruPulse 1010 nano (FK10-EP) Сравнить продукт |
TruPulse 2002 nano (FK10-EP) Сравнить продукт |
TruPulse 2003 nano (FK10-RM) Сравнить продукт |
TruPulse 2005 nano (FK10-EP) Сравнить продукт |
TruPulse 2005 nano (FK10-RM) Сравнить продукт |
TruPulse 2007 nano (FK10-EP) Сравнить продукт |
TruPulse 2007 nano (FK10-RM) Сравнить продукт |
TruPulse 2010 nano (FK10-EP) Сравнить продукт |
TruPulse 2013 nano (FK10-EP) Сравнить продукт |
TruPulse 3002 nano (FK10-EP) Сравнить продукт |
TruPulse 3002 nano (FK10-HS) Сравнить продукт |
TruPulse 4007 nano (FK10-HS) Сравнить продукт |
TruPulse 5020 nano (FK10-EP) Сравнить продукт | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Параметры лазера | |||||||||||||||||
| Средняя выходная мощность | 20 Вт | 20 Вт | 30 Вт | 50 Вт | 100 Вт | 20 Вт | 30 Вт | 50 Вт | 50 Вт | 70 Вт | 70 Вт | 100 Вт | 130 Вт | 20 Вт | 20 Вт | 70 Вт | 200 Вт |
| Макс. пиковая импульсная мощность | > 7 кВт | > 7 кВт | > 7 кВт | > 7 кВт | > 7 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 12 кВт | > 12 кВт | > 20 кВт | > 50 кВт |
| Качество излучения (M²) | < 1,3 | < 1,3 | < 1,3 | < 1,3 | < 1,3 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,8 | 1,8 | 3 | < 5 |
| Длина волны | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm |
| Макс. энергия импульса | > 0,6 мДж | > 0,6 мДж | > 0,6 мДж | > 0,6 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1,3 мДж | > 1,5 мДж | > 1 мДж | > 0,8 мДж | > 1,25 мДж | > 5 мДж |
| Pulsdauerbereich | 3 нс - 500 нс | 10 нс - 240 нс | 10 нс - 240 нс | 11 нс - 220 нс | 4 нс - 2000 нс | 3 нс - 500 нс | 26 нс - 250 нс | 6 нс - 500 нс | 26 нс - 250 нс | 9 нс - 500 нс | 28 нс - 260 нс | 4 нс - 2000 нс | 3 нс - 2000 нс | 10 нс - 220 нс | 2 нс - 500 нс | 10 нс - 250 нс | 12 нс - 2000 нс |
| Частота последовательности импульсов | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 4000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 500 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 500 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 500 кГц | 1 кГц - 4000 кГц | 1 кГц - 4000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 4000 кГц |
| Конструкция | |||||||||||||||||
| Размеры (ш x в x г) | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 115 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 115 мм | 423 мм x 417 мм x 133 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 95 мм | 473 мм x 417 мм x 133 мм |
| Установкa | |||||||||||||||||
| Температура окружающей среды | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 42 °C | 5 °C - 40 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 40 °C | 0 °C - 40 °C | 0 °C - 40 °C | 0 °C - 40 °C | 0 °C - 40 °C | 10 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 40 °C | 10 °C - 40 °C |
TruPulse 1002 nano (FK10-EP)
|
TruPulse 1002 nano (FK10-HS)
|
TruPulse 1003 nano (FK10-HS)
|
TruPulse 1005 nano (FK10-HS)
|
TruPulse 1010 nano (FK10-EP)
|
TruPulse 2002 nano (FK10-EP)
|
TruPulse 2003 nano (FK10-RM)
|
TruPulse 2005 nano (FK10-EP)
|
TruPulse 2005 nano (FK10-RM)
|
TruPulse 2007 nano (FK10-EP)
|
TruPulse 2007 nano (FK10-RM)
|
TruPulse 2010 nano (FK10-EP)
|
TruPulse 2013 nano (FK10-EP)
|
TruPulse 3002 nano (FK10-EP)
|
TruPulse 3002 nano (FK10-HS)
|
TruPulse 4007 nano (FK10-HS)
|
TruPulse 5020 nano (FK10-EP)
| |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Параметры лазера | |||||||||||||||||
| Средняя выходная мощность | 20 Вт | 20 Вт | 30 Вт | 50 Вт | 100 Вт | 20 Вт | 30 Вт | 50 Вт | 50 Вт | 70 Вт | 70 Вт | 100 Вт | 130 Вт | 20 Вт | 20 Вт | 70 Вт | 200 Вт |
| Макс. пиковая импульсная мощность | > 7 кВт | > 7 кВт | > 7 кВт | > 7 кВт | > 7 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 10 кВт | > 12 кВт | > 12 кВт | > 20 кВт | > 50 кВт |
| Качество излучения (M²) | < 1,3 | < 1,3 | < 1,3 | < 1,3 | < 1,3 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,6 | < 1,8 | 1,8 | 3 | < 5 |
| Длина волны | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm | 1062 нм ± 3 nm |
| Макс. энергия импульса | > 0,6 мДж | > 0,6 мДж | > 0,6 мДж | > 0,6 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1 мДж | > 1,3 мДж | > 1,5 мДж | > 1 мДж | > 0,8 мДж | > 1,25 мДж | > 5 мДж |
| Pulsdauerbereich | 3 нс - 500 нс | 10 нс - 240 нс | 10 нс - 240 нс | 11 нс - 220 нс | 4 нс - 2000 нс | 3 нс - 500 нс | 26 нс - 250 нс | 6 нс - 500 нс | 26 нс - 250 нс | 9 нс - 500 нс | 28 нс - 260 нс | 4 нс - 2000 нс | 3 нс - 2000 нс | 10 нс - 220 нс | 2 нс - 500 нс | 10 нс - 250 нс | 12 нс - 2000 нс |
| Частота последовательности импульсов | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 4000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 500 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 500 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 500 кГц | 1 кГц - 4000 кГц | 1 кГц - 4000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 1000 кГц | 1 кГц - 4000 кГц |
| Конструкция | |||||||||||||||||
| Размеры (ш x в x г) | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 115 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 115 мм | 423 мм x 417 мм x 133 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 347 мм x 201 мм x 95 мм | 377 мм x 249 мм x 95 мм | 473 мм x 417 мм x 133 мм |
| Установкa | |||||||||||||||||
| Температура окружающей среды | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 42 °C | 5 °C - 40 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 40 °C | 0 °C - 40 °C | 0 °C - 40 °C | 0 °C - 40 °C | 0 °C - 40 °C | 10 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 45 °C | 0 °C - 40 °C | 10 °C - 40 °C |
PDF <1MB
Технический паспорт
Технические характеристики всех видов продукции в виде файла для загрузки.
Опции для оптимизации качества излучения
Тип S (Single mode — одномодовый, M2 < 1,3): генерирование луча с очень маленьким размером пятна (< 20 мкм), высокой стабильностью мощности и большой глубиной резкости. Идеальный вариант для работы с мелкими структурами.
Тип Z (M2 < 1,6): повышенная пиковая мощность и энергия импульса при незначительном увеличении размера пятна и хорошей глубине резкости.
Тип L (Low Mode — низкомодовый, M2 1,6–2,0): для нанесения маркировки любого типа с несколько увеличенным размером пятна и прочими характерными особенностями. Маркировка различима невооруженным глазом.
Тип H (High Mode — высокомодовый, M2 2,5–3,5): высокая энергия импульса, большая пиковая мощность и еще больший размер пятна, идеальный вариант для нанесения широких линий, надписей с использованием шрифта с заливкой и маркировки, занимающей большую площадь.
Тип M (Multimode — с комплексными модовыми характеристиками, M2 4,0–6,0): максимальная энергия импульса и большая длительность импульса оптимальны для сварки и очистки.
Серия PulseTune
В зависимости от требований вы можете выбрать одно из многочисленных изделий нашей серии PulseTune.
Изделия серии RM (Reduced Mode — с ограниченными модовыми характеристиками), предлагаемые в качестве базового варианта, оснащены ограниченным набором опций для генерации импульсов, а также основными программными и аппаратными интерфейсами. У этих моделей можно использовать две формы волны PulseTune и работать с ограниченной частотой пульсации до 500 кГц.
Преимуществом моделей серии HS (High Specification — с высокими техническими характеристиками) является использование нашей технологии PulseTune и переменная длительность импульса с 25 предварительно настроенными формами волн. Усовершенствованная система управления и модулируемый набор функций непрерывного излучения (CW) позволяют дополнительно повысить точность обработки. Частота пульсации достигает 1 МГц.
В серии EP (Extended Performance — расширенная производительность) на выбор доступны 48 оптимизированных вариантов формы волны PulseTune. Изделия этой серии оснащены универсальным волоконным источником лазерного излучения с усовершенствованной системой управления и модулируемым набором функций непрерывного излучения (CW). Кроме того, они отличаются еще более высокой энергией импульса и пиковой мощностью. Длительность импульса находится в диапазоне 3–2000 нс, частота пульсации достигает 4 МГц.
В зависимости от страны, возможны отклонения от представленного ассортимента продукции и этих данных. Компания оставляет за собой право на внесения изменений в технологию, оснащение, цену и принадлежности. Свяжитесь с вашим контактным лицом, чтобы узнать, доступен ли данный продукт в вашей стране.
Контакты