Точка зрения СМИ: фотолитография в глубоком ультрафиолете

В этой статье на сайте Golem.de Марк Заутер рассказывает о том, что компания Samsung Foundry завершила разработку метода изготовления 5-нанометровых микросхем с использованием глубокого ультрафиолетового излучения (EUV) и начинает принимать заказы от клиентов. Новый метод позволяет увеличить плотность транзисторов на 25 %, при этом потребляемая мощность снижается на 20 %, а производительность возрастает на 10 %.

Источник: www.golem.de
Автор: Марк Заутер (Marc Sauter)
Дата издания: 04/2019
Ссылка: перейти к статье

В данной статье сайт heise.de докладывает о том, что осенью 2018 года компания Samsung впервые приступила к производству микросхем размером 7 нм и для экспонирования подложек применила систему фотолитографии в глубоком ультрафиолете ASML. Источник: www.heise.de
Автор: Нико Эрнст (Nico Ernst)
Дата издания: 10/2018
Ссылка: перейти к статье

Отчет о состоянии дел TRUMPF за 2017–2018 гг. расскажет о том, как освоение возможностей света, в частности, лазеров и литографии EUV, способствует развитию прогрессивных технологий, таких как искусственный интеллект, автономное вождение и объединение производства в сеть.

Источник: Отчет о состоянии дел TRUMPF за 2017–2018 финансовый год
Автор: TRUMPF GmbH + Co. KG
Дата издания: 10/2018
Ссылка: перейти к статье

Статья на сайте golem.de сообщает, что компания ASML настолько усовершенствовала системы NXW:3400B, что малозатратное и быстрое серийное производство с применением экстремального ультрафиолетового излучения становится делом ближайшего будущего. Источник: www.golem.de
Автор: Марк Заутер (Marc Sauter)
Дата издания: 07/2018
Ссылка: перейти к статье

В этой статье LaserFocusWorld рассказывается более чем о двадцати годах развития технологии EUV и различных сложностях и препятствиях, с которыми приходилось сталкиваться вплоть до прорыва в 2015 году.

Источник: LaserFocusWorld
Автор: Андреас Тосс (Andreas Thoss)
Дата издания: 11/2017
Ссылка: перейти к статье

Эта заметка специализированного журнала Produktion посвящена приобретению компанией TRUMPF мажоритарной доли Access. Access Laser — производитель маломощных CO₂-лазеров и один из важнейших партнеров TRUMPF в сфере применения фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV). Источник: www.optics.org
Автор: имя не указано
Дата издания: 10/2017
Ссылка: перейти к статье

Газета Stuttgarter Zeitung рассказывает о том, как компания TRUMPF стала поставщиком усилителей лазерного излучения для производства полупроводников, и как для этого направления была создана дочерняя компания. Источник: Stuttgarter Zeitung
Автор: Михаэль Хеллер (Michael Heller)
Дата издания: 05/2017
Ссылка: перейти к статье

Статья в еженедельной газете Markt&Technik, посвященной электронике, систематизирует текущие и запланированные показатели оборота и продаж ASML, которые доказывают, что фотолитография в глубоком ультрафиолете окончательно укоренилась в производстве. Источник: Markt&Technik
Автор: Хайнц Арнольд (Heinz Arnold)
Дата издания: 07/2017
Ссылка: перейти к статье