Pre zabezpečenie funkčnosti tejto internetovej stránky používame súbory cookie. Keď môžeme súbory cookie použiť aj na iné účely, kliknite sem. Informácie týkajúce sa deaktivácie súborov cookie a ochrany osobných údajov

Vysoko výkonné laserové systémy pre EUV litografiu

Či už mobilné koncové zariadenia, autonómne vozidlá alebo umelá inteligencia – pri miniaturizácii a automatizácii v našom digitálnom svete neustále narastajú požiadavky na výkon počítačov. Výsledok: na polovodičoch musí nájsť vnútri čipov svoje miesto stále viac tranzistorov. Toto nie je žiaden nový fenomén, pretože už zakladateľ firmy Intel vedel: počet tranzistorov v integrovanom spínacom obvode sa zdvojnásobuje približne každých 18 mesiacov. Tento známy zákon, známy ako „Moore's Law“ platí ešte aj dnes. Dnes je možné dosiahnuť hustoty až do 100 miliónov tranzistorov na jednom milimetri štvorcovom. Veľkosť polovodičových štruktúr sa postupne približuje rozmerom atómov. Pri výrobe týchto čipov zohrávajú hlavnú úlohu vysoko výkonné laserové zosilňovače firmy TRUMPF: Pretože sa ich pomocou vytvára svietiaca plazma, ktorá vytvára extrémne ultrafialové žiarenie (EUV) na osvetlenie došičiek. V tesnej spolupráci s firmou ASML, celosvetovo najväčším výrobcom litografických sytémov, ako aj s firmou Zeiss, výrobcom optiky vyvinula firma TRUMPF jedinečný CO2 laserový systém, pomocou ktorého je možné obrávať viac ako 100 doštičiek za hodinu.

13,5

Nanometer

... je vlnová dĺžka vytváraného extrémneho ultrafialového (EUV) svetla, ktorá umožňuje výrobu štruktúr o veľkosti menšej ako 10 nanometrov.

50 000

Kvapky cínu za sekundu

... dopadá TRUMPF Laser Amplifier, pri vytváraní extrémne ultrafialového svetla pre osvetlenie doštičky.

100 000 000

Tranzistorov na milimeter štvorcový

... a viac vďaka EUV litografii na jednom jedinom mieste pre mikročip - takmer nepredstaviteľné.

Od kvapiek cínu k osvetleniu doštičiek: Proces EUV litografie

Moderné počítačové čipy sú spravidla štruktúrované vo veľkosti nanometrov a teda je možné ich vytvárať iba pomocou zložitých procesov osvetľovania pomocou laserov. Konvenčné použitie UV laserového žiarenia z excimerových laserov tu často naráža na svoje hranice. Menšie veľkosti štruktúr v oblasti menej ako desať nanometrov nie je možné vytvárať pomocou týchto doteraz používaných metód. Tieto miniatúrne štruktúry potrebujú osvetlenie pomocou ešte kratších vlnových dĺžok - žiarenie z oblasti extrémneho ultrafialového žiarenia (EUV).

Prozess der EUV Lithografie mit Lasern von TRUMPF

Veľkou výzvou pre EUV litografiu je vytvoriť žiarenie s optimálnou vlnovou dĺžkou 13,5 nanometrov. Riešenie: Laserom vytvorená svietiaca plazma, ktorá vytvára toto extrémne krátkovlnné žiarenie. No ako najprv vznikne plazma? Generátor nechá padať kvapky cínu do vákuovej komory (3), na vybudené kvapky cínu (2) dopadá 50.000 krát za sekundu pulzný vysoko výkonný laser (1) TRUMPF. Atómy cínu sa ionizujú, vzniká intenzívna plazma. Kolektorové zrkazlo zachytáva extrémne ultrafialové žiarenie, ktoré je vysielané plazmou do všetkých smerov, spája ho a odovzdáva nakoniec do litografického systému (4) na osvetlenie doštičky (5).

TRUMPF Laser-Amplifier zur EUV-Litographie

Laserový impulz pre ožiarenie plazmy dodáva TRUMPF Laser Amplifier, pulzný CO2 laserový systém vyvinutý firmou TRUMPF. Vysoko výkonný laserový systém je založený na technológii spojitého lasera CO2 v oblasti výkonov viac ako desať kilowattov. Zosilňuje CO2 laserový impulz stredným výkonom niekoľkých wattov v piatich stupňoch zosilnenia o viac ako 10.000-násobok,na niekoľko 10 kilowattov stredného pulzného výkonu. Výkon špičky pulzu je pritom niekoľko megawattov. Komponenty TRUMPF iniciujú litografický proces vytváraním a zosilnením laserového svetla ako aj vedením lúča až ku kvapkám cínu. Veľmi rýchle cykly a presadenie špecifických požiadaviek zákazníkov popri technickej komplexnosti, ktorá prináša stále jedinečné a nové riešenia, prinášajú aj zaujímavý priestor pre vývojárov, servisných technikov a zamestnancov výroby.

Gesamtsystem zur EUV-Lithografie ASML

V tesnej spolupráci s renomovanými partnermi vyvinula firma TRUMPF medzinárodne jedinečný CO2 laserový systém: Celosvetovo najväčší výrobca litografických systémov, firma ASML funguje ako integrátor a dodáva komponenty pre vytváranie kvapiek a skener, optiky EUV pochádzajú z dielne firmy Zeiss. Pomocou týchto zariadení je možné spracovať viac ako 100 doštičiek za hodinu – čo postačuje pre sériovú výrobu. EUV litografia sa teda oplatí nie len technicky, ale je aj hospodárna a prináša úspech výrobcom čipov po celom svete.

Aktuálna ponuka voľných miest

1

Prozessingenieur (w/m) Optics/Laser für EUV

Výskum/vývoj | Ditzingen / Nemecko

2

Assistent (w/m) Abteilungsleitung

Výskum/vývoj, Manažment/organizácia | Ditzingen / Nemecko

3

Qualitätskoordinator (w/m) Produktion EUV

Výskum/vývoj, Výroba/manažment kvality | Ditzingen / Nemecko

Kontakt

Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Servis & Kontakt

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Slovakia . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Slovakia
United States

Or select a country or region.