You have selected Slovensko. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Článok k litografii EUV | TRUMPF
Zbierka článkov o litografii EUV

V zrkadle médií: Litografia EUV

Extrémne ultrafialové žiarenie (EUV) na osvit doštičiek je bezpochyby téma budúcnosti vo výrobe čipov. Nečudo, že sa tejto téme venuje v pravidelných intervaloch nie len odborná ale aj verejná tlač a sleduje vývoj technológie. Na tejto stránke nájdete súhrn niektorých národných a medzinárodných hlavných článkov.

Proces 5-nm-EUV od Samsungu je pripravený

V tomto článku na stránke Golem.de popisuje autor Marc Sauter, že spoločnosť Samsung Foundry ukončila vývoj 5-nm procesu s extrémnym ultrafialovým žiarením (EUV) a spustila príjem objednávok od zákazníkov. Pomocou nového procesu je možné zvýšiť hustotu tranzistorov o 25 %, čipy súčasne vykazujú o 20 % nižšiu spotrebu energie resp. o 10 % vyšší počítačový výkon.

Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Dátum vydania: 04/2019
Odkaz: k článku

Samsung vyrába 7-nanometrové čipy pomocou osvitu EUV

Heise.de v tomto článku oznamuje, že spoločnosť Samsung spustila v jeseni 2018 výrobu vo svojom prvom 7-nm závode a tam osvituje doštičky pomocou litografických systémov EUV od ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Dátum vydania: 10/2018
Odkaz: k článku

Pred časom

Správa o hospodárení TRUMPF 2017/2018 objasňuje, ako ovládnutie svetla - a tým aj lasera a EUV litografie - poskytuje základy pre technológie budúcnosti akými sú umelá inteligencia, autonómne vozidlá a zosieťované závody.

Zdroj: Správa o hospodárení TRUMPF OR 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Dátum vydania: 10/2018
Odkaz: k článku

Dostupnosť skenerov EUV narástla na 85 percent

Článok na golem.de oznamuje, že ASML vylepšil svoje systémy NXW:3400B do tej miery, že sa sériová výroba s efektivitou nákladov a času posúva vďaka extrémnemu ultrafialovému žiareniu do dostupnej blízkosti. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Dátum vydania: 07/2018
Odkaz: k článku

Tajomstvo generácie EUV

LaserFocusWorld vykresľuje v tomto článku viac ako dvadsaťročný vývoj technológie extrémne ultrafialového žiarenia (EUV) a popisuje početné prekážky a výzvy, ktoré bolo nutné zvládnuť až po prelom v roku 2015.

Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Dátum vydania: 11/2017
Odkaz: k článku

TRUMPF upevnil dodávateľský reťazec EUV litografie s firmou Access Laser

Táto správa v odbornom časopise "Produktion" sa zaoberá prevzatím väčšinového podielu v Access firmou TRUMPF. Ako výrobca CO2 laserov s nízkym výkonom je Access Laser jedným z najdôležitejších partnerov firmy TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Dátum vydania: 10/2017
Odkaz: k článku

TRUMPF chce zasiahnuť do výroby čipov

Noviny Stuttgarter Zeitung píšu, ako vstupuje TRUMPF ako dodávateľ so svojim Laser Amplifier do výroby polovodičov a založil za tým účelom novú dcérsku spoločnosť Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Dátum vydania: 05/2017
Odkaz: k článku

EUV vstúpilo do výroby IC

Článok v týždenníku pre elektroniku "Markt&Technik" zhŕňa aktuálne a plánované čísla obratu a odbytu v ASML, ktoré dokladujú skutočnosť, že litografia EUV už definitívne vstúpila do priemyslu. Zdroj: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Dátum vydania: 07/2017
Odkaz: k článku

Tieto témy by mohli zaujímať aj Vás

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Servis & Kontakt