Pri poskytovaní tejto stránky a pre jej funkčnosť používame súbory cookie. Ak smieme používať súbory cookie aj na ďalšie účely, kliknite prosím sem. Informácie o deaktivovaní súborov cookie a o ochrane údajov
Zbierka článkov o litografii EUV

V zrkadle médií: Litografia EUV

Extrémne ultrafialové žiarenie (EUV) na osvit doštičiek je bezpochyby téma budúcnosti vo výrobe čipov. Nečudo, že sa tejto téme venuje v pravidelných intervaloch nie len odborná ale aj verejná tlač a sleduje vývoj technológie. Na tejto stránke nájdete súhrn niektorých národných a medzinárodných hlavných článkov.

Proces 5-nm-EUV od Samsungu je pripravený

V tomto článku na stránke Golem.de popisuje autor Marc Sauter, že spoločnosť Samsung Foundry ukončila vývoj 5-nm procesu s extrémnym ultrafialovým žiarením (EUV) a spustila príjem objednávok od zákazníkov. Pomocou nového procesu je možné zvýšiť hustotu tranzistorov o 25 %, čipy súčasne vykazujú o 20 % nižšiu spotrebu energie resp. o 10 % vyšší počítačový výkon.

Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Dátum vydania: 04/2019
Odkaz: k článku

Samsung vyrába 7-nanometrové čipy pomocou osvitu EUV

Heise.de v tomto článku oznamuje, že spoločnosť Samsung spustila v jeseni 2018 výrobu vo svojom prvom 7-nm závode a tam osvituje doštičky pomocou litografických systémov EUV od ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Dátum vydania: 10/2018
Odkaz: k článku

Pred časom

Správa o hospodárení TRUMPF 2017/2018 objasňuje, ako ovládnutie svetla - a tým aj lasera a EUV litografie - poskytuje základy pre technológie budúcnosti akými sú umelá inteligencia, autonómne vozidlá a zosieťované závody.

Zdroj: Správa o hospodárení TRUMPF OR 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Dátum vydania: 10/2018
Odkaz: k článku

Dostupnosť skenerov EUV narástla na 85 percent

Článok na golem.de oznamuje, že ASML vylepšil svoje systémy NXW:3400B do tej miery, že sa sériová výroba s efektivitou nákladov a času posúva vďaka extrémnemu ultrafialovému žiareniu do dostupnej blízkosti. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Dátum vydania: 07/2018
Odkaz: k článku

Tajomstvo generácie EUV

LaserFocusWorld vykresľuje v tomto článku viac ako dvadsaťročný vývoj technológie extrémne ultrafialového žiarenia (EUV) a popisuje početné prekážky a výzvy, ktoré bolo nutné zvládnuť až po prelom v roku 2015.

Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Dátum vydania: 11/2017
Odkaz: k článku

TRUMPF upevnil dodávateľský reťazec EUV litografie s firmou Access Laser

Táto správa v odbornom časopise "Produktion" sa zaoberá prevzatím väčšinového podielu v Access firmou TRUMPF. Ako výrobca CO2 laserov s nízkym výkonom je Access Laser jedným z najdôležitejších partnerov firmy TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Dátum vydania: 10/2017
Odkaz: k článku

TRUMPF chce zasiahnuť do výroby čipov

Noviny Stuttgarter Zeitung píšu, ako vstupuje TRUMPF ako dodávateľ so svojim Laser Amplifier do výroby polovodičov a založil za tým účelom novú dcérsku spoločnosť Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Dátum vydania: 05/2017
Odkaz: k článku

EUV vstúpilo do výroby IC

Článok v týždenníku pre elektroniku "Markt&Technik" zhŕňa aktuálne a plánované čísla obratu a odbytu v ASML, ktoré dokladujú skutočnosť, že litografia EUV už definitívne vstúpila do priemyslu. Zdroj: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Dátum vydania: 07/2017
Odkaz: k článku

Tieto témy by mohli zaujímať aj Vás

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Servis & Kontakt

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Slovakia. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Slovakia
United States

Or, select a country or a region.