Pre zabezpečenie funkčnosti tejto internetovej stránky používame súbory cookie. Keď môžeme súbory cookie použiť aj na iné účely, kliknite sem. Informácie týkajúce sa deaktivácie súborov cookie a ochrany osobných údajov
Artikelsammlung für EUV-Lithographie

V zrkadle médií: Litografia EUV

Extrémne ultrafialové žiarenie (EUV) na osvit doštičiek je bezpochyby téma budúcnosti vo výrobe čipov. Nečudo, že sa tejto téme venuje v pravidelných intervaloch nie len odborná ale aj verejná tlač a sleduje vývoj technológie. Na tejto stránke nájdete súhrn niektorých národných a medzinárodných hlavných článkov.

Samsung vyrába 7-nanometrové čipy pomocou osvitu EUV

Heise.de v tomto článku oznamuje, že spoločnosť Samsung spustila v jeseni 2018 výrobu vo svojom prvom 7-nm závode a tam osvituje doštičky pomocou litografických systémov EUV od ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Dátum vydania: 10/2018
Odkaz: k článku

Pred časom

Správa o hospodárení TRUMPF 2017/2018 objasňuje, ako ovládnutie svetla - a tým aj lasera a EUV litografie - poskytuje základy pre technológie budúcnosti akými sú umelá inteligencia, autonómne vozidlá a zosieťované závody.

Zdroj: Správa o hospodárení TRUMPF OR 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Dátum vydania: 10/2018
Odkaz: k článku

Dostupnosť skenerov EUV narástla na 85 percent

Článok na golem.de oznamuje, že ASML vylepšil svoje systémy NXW:3400B do tej miery, že sa sériová výroba s efektivitou nákladov a času posúva vďaka extrémnemu ultrafialovému žiareniu do dostupnej blízkosti. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Dátum vydania: 07/2018
Odkaz: k článku

Tajomstvo generácie EUV

LaserFocusWorld vykresľuje v tomto článku viac ako dvadsaťročný vývoj technológie extrémne ultrafialového žiarenia (EUV) a popisuje početné prekážky a výzvy, ktoré bolo nutné zvládnuť až po prelom v roku 2015.

Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Dátum vydania: 11/2017
Odkaz: k článku

TRUMPF upevnil dodávateľský reťazec EUV litografie s firmou Access Laser

Táto správa v odbornom časopise "Produktion" sa zaoberá prevzatím väčšinového podielu v Access firmou TRUMPF. Ako výrobca CO2 laserov s nízkym výkonom je Access Laser jedným z najdôležitejších partnerov firmy TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Dátum vydania: 10/2017
Odkaz: k článku

TRUMPF chce zasiahnuť do výroby čipov

Noviny Stuttgarter Zeitung píšu, ako vstupuje TRUMPF ako dodávateľ so svojim Laser Amplifier do výroby polovodičov a založil za tým účelom novú dcérsku spoločnosť Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Dátum vydania: 05/2017
Odkaz: k článku

EUV vstúpilo do výroby IC

Článok v týždenníku pre elektroniku "Markt&Technik" zhŕňa aktuálne a plánované čísla obratu a odbytu v ASML, ktoré dokladujú skutočnosť, že litografia EUV už definitívne vstúpila do priemyslu. Zdroj: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Dátum vydania: 07/2017
Odkaz: k článku

Tieto témy by mohli zaujímať aj Vás

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Servis & Kontakt

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Slovakia. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Slovakia
United States

Or select a country or region.