Pre zabezpečenie funkčnosti tejto internetovej stránky používame súbory cookie. Keď môžeme súbory cookie použiť aj na iné účely, kliknite sem. Informácie týkajúce sa deaktivácie súborov cookie a ochrany osobných údajov
TRUMPF Laser Amplifier zur Herstellung von Hochleistungschips
TRUMPF Laser Amplifier zur Herstellung von Hochleistungschips
Laser CO2

TRUMPF Laser Amplifier

Poskytuje laserovým impulzom základ pre výrobu mikročipov budúcnosti.

Litografia EUV ako aktivátor digitálneho veku

EUV litografia vyhráva preteky o výrobnú metódu mikročipov budúcnosti. Priemysel polovodičov hľadal mnoho rokov cenovo efektívny proces vhodný pre masovú výrobu, pomocou ktorého je možné osvitovať ešte menšie štruktúry na kremíkových doštičkách. Formou partnerstva vyvinuli ASML, Zeiss a TRUMPF technológiu, na využitie extrémne ultrafialového žiarenia (EUV) s vlnovou dĺžkou 13,5 nanometrov pre priemyselné využitie: Vo vákuovej komore vystreľuje generátor kvapiek 50.000 najmenších cínových kvapiek za sekundu. Každá z týchto kvapiek je zasiahnutá jedným z 50.000 laserových impulzov a mení ich na plazmu. Týmto vzniká svetlo EUV, ktoré je zrkadlami nasmerované na doštičku, ktorú je potrebné osvitovať. Laserový impulz pre ožarovanie plazmou poskytuje pulzný CO2 laserový systém vyvinutý firmou TRUMPF - TRUMPF Laser Amplifier.

Z niekoľkých Wattov na 40 Kilowattov

TRUMPF Laser Amplifier postupne zosilňuje laserový impulz viac ako 10.000-násobne.

Efektívne a bezpečné

Vysielaním predradeného a hlavného impulzu je možné prenášať plný výkon z Laser Amplifiera na kvapky cínu.

Nové využitie pre laser CO2

Základ vysoko výkonných laserových systémov je laser CO2 v prevádzke cw. TRUMPF tým vytvára nové využitie technológie.

Veľká sieť tvorená špecialistami

V dlhoročnej, tesnej spolupráci dotiahli TRUMPF, ASML a ZEISS technológiu extrémne ultrafialového žiarenia EUV do priemyslu.

457,329

Diely

… obsahuje Laser Amplifier.

37 522

Meter

... káble sú zabudované do systému.

17 090

Kilo

... zahŕňa celkovú hmotnosť.

Základné komponenty zariadenia TRUMPF Laser Amplifier

Aktuálna ponuka voľných miest

1

Bewerbertag Produktion & Service TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing (EUV) am 05.04.2019 in Ditzingen

Výroba/manažment kvality, Servis/školiace centrum | Ditzingen / Nemecko

2

Entwicklungsingenieur (w/m/d) Elektrotechnik für EUV

Výskum/vývoj, IT/vývoj softvéru | Ditzingen / Nemecko

3

System Engineer (f/m/d) for CO2 laser systems

Výskum/vývoj | Ditzingen / Nemecko

Tieto témy by mohli zaujímať aj Vás

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Servis & Kontakt

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Slovakia. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Slovakia
United States

Or select a country or region.