Pri poskytovaní tejto stránky používame súbory cookie. Ak naďalej používate túto stránku, bez zmeny nastavení pre súbory cookie, vychádzame z toho, že súhlasíte s používaním súborov cookie.
Technologiebild DC gepulste Plasmageneratoren

DC generátory plazmy

DC pulzné generátory plazmy z TRUMPF Hüttinger sú vhodné na použitie v množstve reaktívnych procesov. Pulzný jednosmerný prúd umožňuje v porovnaní s jednoduchými jednosmernými generátormi spracovávať aj polo- a nevodivé materiály, napríklad oxidy. Časté aplikácie pulzných generátorov sú pri povrchových úpravách vytvrdzujúcich povrch ako aj pri procesoch leptania a nanášania povlakov pri výrobe polovodičov.

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC Séria 4000 (G2)

TruPlasma DC Série 4000 (G2) spája excelentnú manipuláciu s Arc od firmy TRUMPF Hüttinger s výhodami DC pulznej technológie. Tak dosiahnete lepšie výsledky nanášania materiálu s menšou mierou defektov súčasne pri vyššej miere separácie. Výsledkom sú brilantné povrchy a vysoká výkonnosť výroby.

Pulzný generátor TruPlasma DC Séria 4000

TruPlasma DC Séria 4000

Generátory TruPlasma DC Série 4000 sú prvou voľbou pre náročné procesy plazmy. Podávajú plný výkon pomocou širokej oblasti nastavenia záťaže. Tým sa kvalifikujú pre špičkové aplikácie pokovovania rozprašovaním ako aj na ďalšie štandardné alebo pulzné DC aplikácie plazmy. Disponujú tak ako aj nepulzné generátory vynikajúcim Arc manažmentom.

Generátor TruPlasma Highpulse Série 4000

TruPlasma Highpulse Séria 4000

Generátory TruPlasma Highpulse Série 4000 sú prvou voľbou pre aplikácie HIPIMS, podávajú mimoriadne korózii a opotrebovaniu odolné povrchové úpravy vytvrdzujúce povrch. V kombinácii s polarizovanými substrátmi môže TruPlasma Highpulse Série 4000 obsluhovať aj polovodičové aplikácie, napr. leptanie, predúpravu povrchov a Trench-Filling.

Generátory Bias so stabilným riadením napätia a rýchlym Arc manažmentom

TruPlasma Bias Séria 4000

TruPlasma Bias Série 4000 je skupina najmodernejších pulzných DC Bias generátorov. Umožňuje frekvencie pulzov až do 100 kHz ako aj nepretržitý výstup Bias.
Každé zariadenie tejto série má dva pracovné režimy: vysoko napäťový režim s 1200 V pre substrátové leptacie procesy, ako aj nízko napäťový režim s 300 V pre Bias-om podporované procesy povrstvovania, ktoré sa používajú napr. pri výrobe polovodičov alebo pri povrchovej úprave vytvrdzujúcej povrch.

Servis & Kontakt