Garanti excelentných výsledkov procesu
Pomocou týchto VF generátorov idete doslova na istotu: TruPlasma RF Série 3000 sa vyznačuje robustnou konštrukciou a vysokou účinnosťou. Vďaka tomu sa ideálne hodí na stabilné, opakovateľné plazmové procesy, aké sa používajú napríklad pri výrobe plochých obrazoviek, solárnych článkov alebo polovodičov. Nainštalované v tisícoch aplikácií po celom svete garantujú tieto generátory vysokú produktivitu a vynikajúce výsledky procesu.
Účinnosti až do 80 % umožňujú zníženie nákladov na energie až o 50 %.
Bezpečné riadenie aj náročných a novodobých procesov.
Technológia CombineLine: spoľahlivá ochrana proti odrazeným výkonom pri chybnom nastavení.
Mnohostranné využitie vďaka spojitému alebo pulznému odovzdávaniu výkonu.

Procesy leptania a nanášania
Vysokofrekvenčné generátory TruPlasma RF Série 3000 sú vhodné najmä na procesy leptania a nanášania na povrchy, napr. leptanie pazmou, reaktívne iónové leptanie, ALD a PECVD.

Povrchové úpravy kovových obrobkov
Pomocou procesov plazmy je možné tak nanášať materiál na povrch obrobku ako aj vykonávať jeho úber, napríklad pri vytváraní vrstvy na kovových obrobkoch, chrániacej pred opotrebením alebo pri vytváraní štruktúrovaného povrchu elektronických komponentov pomocou plazmového leptania alebo fotolak-plazmovom spopolnení.

Povrchové úpravy plochých obrazoviek a solárnych článkov
VF generátory TruPlasma RF Série 3000 sú ideálne na procesy plazmy ako RIE, ALD, PECVD a RF pokovovanie rozprašovaním. Tieto procesy sa používajú okrem iného pri vytváraní povrchových vrstiev plochých obrazoviek a solárnych článkov.
TruPlasma RF 3012
|
TruPlasma RF 3020
|
TruPlasma RF 3024
|
|
---|---|---|---|
Vysokofrekvenčný výstup | |||
Výstupný výkon | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
Menovitý výkon | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
Impendancia pri menovitom zaťažení | 50 Ω | 50 Ω | 50 Ω |
Výstupná frekvencia | 13,56 MHz | 13,56 MHz | 13,56 MHz |
Údaje sieťového pripojenia | |||
Sieťové napätie | 400 - 480 V | 400 - 480 V | 400 - 480 V |
Sieťová frekvencia | 50-60 Hz | 50-60 Hz | 50-60 Hz |
Príkon v sieti | 16,6 kVA | 28,1 kVA | 33,3 kVA |
Účinník | 0,93 | 0,93 | 0,93 |
Komunikačné rozhrania | |||
Rozhrania Sync | Áno | Áno | Áno |
Analógové/digitálne | Áno | Áno | Áno |
RS 232 / RS 485 | Áno | Áno | Áno |
PROFIBUS | Áno | Áno | Áno |
EtherCAT | Áno | Áno | Áno |
DeviceNet | Áno | Áno | Áno |
Teleso | |||
Hmotnosť | 57 kg | 117 kg | 117 kg |
Stupeň ochrany IP | 20 | 20 | 20 |
Požiadavky na chladenie | |||
Max. tlak vody | 7 bar | 7 bar | 7 bar |
Min. rozdiel tlaku | 2 bar | 2 bar | 2 bar |
Min. prietokové množstvo | 10 l/min | 20 l/min | 20 l/min |
Teplota chladiaceho prostriedku | 5 °C - 35 °C 1 | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C 1 |
Všeobecne | |||
Celková účinnosť | 78 % | 75 % | 75 % |
Certifikáty / štandardy | SEMI F47,CE, RoHs | SEMI F47,CE, RoHs | SEMI F47,CE, RoHs |
Podmienky okolia | |||
Vonkajšia teplota | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C |
Vlhkosť vzduchu | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
Barometrický tlak | 79,5 kPa - 106 kPa | 79,5 kPa - 106 kPa | 79,5 kPa - 106 kPa |
Technické údaje všetkých variantov produktu na stiahnutie.

Najvyššia účinnosť a stabilita procesov
Skrátenie stratového výkonu na polovicu a zníženie spotreby chladiacej kvapaliny vďaka excelentnej účinnosti – tak minimalizujete Vaše prevádzkové náklady. Veľmi robustná konštrukcia generátorov umožňuje dosiahnuť dlhšie prevádzkové časy a tým aj vyššie miery povrchových úprav dokonca aj pri kritických procesoch. Účinne sa zamedzuje odchýlkam plazmy vďaka technológii CombineLine so skutočnou výstupnou impedanciou 50 Ohm – umožňuje to dosahovanie absolútne stabilných procesov.

Bezpečnosť za všetkých okolností
Robustná konštrukcia prispieva k maximálnej spoľahlivosti a produktivite Vášho procesu. 100 % ochrana nesprávneho prispôsobenia zaručuje bezpečnú prevádzku aj pri kritických záťažach. Voliteľné spojité alebo pulzné dodávanie výkonu podporuje široké pásmo požiadaviek procesu. Na celom svete je nainštalovaných viac ako 20.000 jednotiek – viac ako každého iného zdroja prúdu plazmy.

TRUMPF SystemPort
SystemPort umožňuje uzatvorený regulačný okruh pomocou merania RF signálu priamo na vstupe a výstupe adaptačného sieťového systému. RF generátor má k dispozícii všetky namerané hodnoty. Vďaka tomu môžete lepšie sledovať parametre procesu, chrániť adaptačný sieťový systém a zaručiť včasné rozpoznanie Arc. Kompletný RF systém je teda možné riadiť prostredníctvom jednotlivých prípojok generátora.
Rozličné doplnkové výbavy Vám umožňujú optimálne zladenie VF generátora s Vašimi aplikáciami.
Premyslený Arc manažment je ideálnym modulom pre najlepšiu kontrolu procesov plazmy. Cielené rozpoznanie Arc garantuje najvyššiu možnú produktivitu a zároveň chráni produkt a zariadenie.

TruControl Power
Riadiaci softvér TruControl Power príjemný na obsluhu umožňuje komfortné uvedenie do prevádzky a bezpečné sledovanie VF generátora resp. celého TRUMPF RF systému počas priebehu procesu.
Všetky komponenty TRUMPF RF systému sú navzájom optimálne zosúladené.

TruPlasma Match: sieťové systémy prispievajú k optimálnemu prenosu výkonu z generátora do výboja plazmy. Prevádzka adaptačného sieťového systému sa môže vykonávať buď samostatne alebo prostredníctvom inteligentného spojenia generátora a adaptačného sieťového systému, takzvaného SystemPort.

Pomocou hlavných oscilátorov je možné stabilizovať a optimalizovať kritické synchrónne procesy plazmy. Integrovaný digitálny frekvenčný a fázový syntetizátor prispieva k vysokej stabilite frekvencie a fáz a umožňuje nastavenie dĺžky fáz po veľmi malých krokoch. Možné je zvoliť z rôznych verzií hlavných oscilátorov pre frekvenciu 13,56 MHz ako aj rôzne kombinácie frekvencií.

VF prepínač umožňuje viacnásobné využitie VF generátora pre rôzne stanice procesov plazmy, napríklad na dodávku prúdu sekvenčných procesov alebo pri systémoch s rôznymi miestami prípojky. Dostupné sú rôzne VF prepínače vo dvoch výkonových triedach ako aj s 2, 3 alebo 4 výstupmi.

Na prenos VF výkonu ponúka TRUMPF Hüttinger koaxiálny kábel, ktorý je skonštruovaný špeciálne na prevádzku v 50-ohmových systémoch.

Perfektne vzájomne zladené: Generátor a adaptačný sieťový systém
Plazmové procesy sa správajú ako zložitá, premenlivá záťaž, ktorá musí plynulo nasledovať zdroj prúdu cez generátor. Starajú sa o to aktívne adaptačné sieťové systémy, tzv. matchbox, ktoré v každom momente zabezpečujú presné nastavenie pre optimálnu impedanciu 50 Ohm. Vzniká tak perfektne vzájomne zosúladené systémové riešenie, TRUMPF RF systém. Pomocou rôznych prípojok, o.i. EtherCAT, môžete generátor a Matchbox veľmi jednoducho integrovať do Vášho jestvujúceho prostredia procesov a vďaka inteligentnému spojeniu generátora a adaptačného sieťového systému , takzvaného SystemPort, dosiahnuť optimálne systémové riešenie.
V závislosti od krajiny sú možné odchýlky od tohto sortimentu produktov. Zmeny v technike, výbave, cene a ponuke príslušenstva sú vyhradené. Spojte sa prosím s kontaktnou osobou u Vášho lokálneho partnera, ak si chcete overiť, či je produkt dostupný vo Vašej krajine.
Poznámky pod čiarou-
Teplota chladiacej kvapaliny musí byť vyššia ako rosný bod v miestnosti, aby sa zabránilo kondenzácii.