Pre zabezpečenie funkčnosti tejto internetovej stránky používame súbory cookie. Keď môžeme súbory cookie použiť aj na iné účely, kliknite sem. Informácie týkajúce sa deaktivácie súborov cookie a ochrany osobných údajov
RF systémové riešenie : Matchbox pre najvyššiu stabilitu procesov
RF systémové riešenie : Matchbox pre najvyššiu stabilitu procesov
Plazmové vzbudenia
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Match Séria 1000 (G2/13)

Inteligentné párovanie meraním v reálnom čase

Celistvé RF systémové riešenie

Nové adaptačné sieťové systémy TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) predstavujú ideálny doplnok k VF generátorom firmy TRUMPF Hüttinger. Vďaka inteligentnému algoritmu párovania a digitálnej platforme riadenia na sledovanie procesu vzniká komplexné riešenie, v ktorom spolu optimálne pôsobia všetky komponenty – TRUMPF RF systém.

Inteligentný algoritmus párovania

Rýchle, stabilné a opakovateľné nastavenie impedancie na 50 Ohm dokonca aj v kritických procesoch.

Optimálna súhra celého systému

Pokrokový softvér a vylepšená komunikácia medzi generátorom a adaptačným sieťovým systémom.

Meranie VF výkonu v reálnom čase

Rýchle sledovanie systému pri každej zmene impedancie adaptačného sieťového systému a záťaže.

Uzatvorený regulačný okruh

Optimálne sledovanie parametrov procesu ako aj včasné rozpoznanie Arc.

Kontrola nad procesom príjemná na obsluhu

Grafická ovládacia plocha a efektívne nástroje (Smithov diagram, osciloskop v reálnom čase).

RF systémové riešenie : Matchbox pre najvyššiu stabilitu procesov

Výroba polovodičov, solárnych článkov a plochých obrazoviek

Pri výrobe polovodičov, solárnych článkov a plochých obrazoviek sú rozhodujúce stabilné procesy plazmy. V kombinácii s VF generátormi firmy TRUMPF Hüttinger ponúkajú adaptačné sieťové systém TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) komplexné riešenie pre najvyššiu stabilitu procesu a produktivitu.

Podpora pri povrchových úpravách vytvrdzujúcich povrch: Adaptačné sieťové systémy pre TruPlasma Match Série 1000 (G2/13)

Nanášanie vrstiev vytvrdzujúcich povrch a vrstiev chrániacich pred opotrebením

Po nanesení funkčných vrstiev získajú nadmerne namáhané obrobky zvýšenú mechanickú tvrdosť ako aj lepšiu tepelnú a chemickú stabilitu. Adaptačné sieťové systémy zariadenia TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) zabezpečujú v spolupráci s VF generátorom firmy TRUMPF Hüttinger perfektnú kvalitu nanesenej vrstvy.

Ideálne na veľkoplošné povrchové úpravy: Adaptačné sieťové systémy TruPlasma Match Série 1000 (G2/13)

Úber a povlakovanie povrchov materiálu

Adaptačné sieťové systémy zariadenia TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) je možné použiť vo všetkých bežných procesoch plazmy na nanášanie vrstiev a úber materiálu z povrchov – napríklad pri leptaní plazmou, reaktívnom ionovom leptaní, ALD, PECVD, RF pokovovaní rozprašovaním alebo fotolak-plazmovom spopolnení. V spolupráci s VF generátorom firmy TRUMPF Hüttinger sa pritom dosahujú optimálne výsledky procesu.

- / -
Vysokofrekvenčný výstup        
Výstupný výkon 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Menovitý výkon 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Výstupná frekvencia 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Údaje sieťového pripojenia        
Sieťové napätie (±10%) 23,5 V - 24,5 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 23,5 V - 24,5 V
Sieťová frekvencia 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz 50 Hz - 60 Hz
Komunikačné rozhrania        
Rozhrania Sync Áno Áno Áno Áno
Analógové/digitálne Áno Áno Áno Áno
RS 232 / RS 485 Áno Áno Áno Áno
PROFIBUS Áno Áno Áno Áno
EtherCAT Áno Áno Áno Áno
DeviceNet Nie Nie Nie Nie
Teleso        
Hmotnosť 8 kg 27 kg 30 kg 15 kg
Stupeň ochrany IP 21 21 21 21
Požiadavky na chladenie        
Max. tlak vody - 6 bar 6 bar -
Min. rozdiel tlaku - 1,5 bar 1,5 bar -
Min. prietokové množstvo - 3,5 l/min 5 l/min -
Teplota chladiaceho prostriedku - 10 °C - 30 °C 1 10 °C - 30 °C 1 -
Všeobecne        
Certifikáty / štandardy CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47
Podmienky okolia        
Vonkajšia teplota 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C
Vlhkosť vzduchu 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 %
Barometrický tlak 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa
PDF <1MB
Technický list

Technické údaje všetkých variantov produktu na stiahnutie.

Garantuje stále plné podávanie výkonu VF generátora

Perfektná kontrola procesu v ktorúkoľvek dobu

Matchbox neustále prispieva k rýchlejšiemu a priamemu nastaveniu impedancie na 50 Ohm – tým je zaručené stále plné podávanie výkonu VF generátora do procesu. Komunikácia medzi adaptačným sieťovým systémom a generátorom umožňuje optimálne sledovanie procesu a včasné rozpoznanie Arc.

Softvér TruControl Power príjemný na obsluhu

Prehľad všetkých parametrov

Meranie VF vstupného a výstupného výkonu v reálnom čase signalizuje dynamické zmeny impedancie, snímače chladenia umožňujú spoľahlivé predpovedanie stratového výkonu. Vďaka grafickému ovládaciemu softvéru s komplexnými možnosťami zobrazovania (smithova tabuľka, osciloskop v reálnom čase) máte stále prehľad o všetkých podstatných parametroch procesu.

TruPlasma RF_Systemport

TRUMPF SystemPort

SystemPort umožňuje uzatvorený regulačný okruh pomocou merania RF signálu priamo na vstupe a výstupe adaptačného sieťového systému. RF generátor má k dispozícii všetky namerané hodnoty. Vďaka tomu môžete lepšie sledovať parametre procesu, chrániť adaptačný sieťový systém a zaručiť včasné rozpoznanie Arc. Kompletný RF systém je teda možné riadiť prostredníctvom jednotlivých prípojok generátora.

Rozličné doplnkové výbavy Vám umožňujú optimálne zladenie TRUMPF RF systému s Vašimi aplikáciami.

VF meranie prúdu

Vysoko presné AC meranie prúdu na detekciu anomálií plazmy, umiestnené v adaptačnom sieťovom systéme blízko procesu, priamo na komore.

Arc manažment

Premyslený Arc manažment je ideálnym modulom pre najlepšiu kontrolu procesov plazmy. Cielené rozpoznanie Arc garantuje najvyššiu možnú produktivitu a zároveň chráni produkt a zariadenie.

Rozhrania

Na želanie sú k dispozícii doplnkové rozhrania ako Analóg/Digitál, PROFIBUS a EtherCAT. Štandardom je EtherNet, SystemPort a RS232/485.

Softvér TruControl Power príjemný na obsluhu

TruControl Power

Riadiaci softvér TruControl Power príjemný na obsluhu umožňuje komfortné uvedenie do prevádzky a bezpečné sledovanie VF generátora resp. celého TRUMPF RF systému počas priebehu procesu.

Softvér TruControl Power príjemný na obsluhu

Grafický ovládací softvér

Komplexné grafické zobrazenia umožňujú rozsiahlu kontrolu všetkých podstatných parametrov procesu. Impedancia záťaže a adaptačného sieťového systému sa zobrazuje prostredníctvom smithovho diagramu, VF vstupný a výstupný výkon vrátane polohy frekvencie a fázy pomocou osciloskopu reálneho času.

TRUMPF RF systém, pozostávajúci z VF generátora a adaptačného sieťového systému, tvorí perfektne vzájomne zladený celkový systém pre najlepšie výsledky procesov.

Softvér TruControl Power príjemný na obsluhu
Grafický ovládací softvér

Komplexné grafické zobrazenia umožňujú rozsiahlu kontrolu všetkých podstatných parametrov procesu. Impedancia záťaže a adaptačného sieťového systému sa zobrazuje prostredníctvom smithovho diagramu, VF vstupného a výstupného výkonu vrátane uloženia frekvencie a fázy pomocou osciloskopu reálneho času.

Hlavný oscilátor na stabilizáciu kritických synchrónnych procesov plazmy
Hlavné oscilátory

Pomocou hlavných oscilátorov je možné stabilizovať a optimalizovať kritické synchrónne procesy plazmy. Integrovaný digitálny frekvenčný a fázový syntetizátor prispieva k vysokej stabilite frekvencie a fáz a umožňuje nastavenie dĺžky fáz po veľmi malých krokoch. Možné je zvoliť z rôznych verzií hlavných oscilátorov pre frekvenciu 13,56 MHz ako aj rôzne kombinácie frekvencií.

Koaxiálny kábel na prenos špecifikovaného výkonu
Koaxiálny kábel

Na prenos VF výkonu ponúka TRUMPF Hüttinger koaxiálny kábel, ktorý je skonštruovaný špeciálne na prevádzku v 50-ohmových systémoch.

Generátor a adaptačný sieťový systém: Perfektne vzájomne zladené systémové riešenie

Optimálne zvládnutie procesu plazmy

Plazmové procesy sa správajú ako zložitá, premenlivá záťaž, ktorá musí plynulo nasledovať zdroj prúdu cez generátor. Starajú sa o to aktívne adaptačné sieťové systémy, tzv. matchbox, ktoré v každom momente zabezpečujú presné nastavenie pre optimálnu impedanciu 50 Ohm. Vzniká tak perfektne vzájomne zosúladené systémové riešenie, TRUMPF RF systém. Pomocou rôznych prípojok, o.i. EtherCAT, môžete generátor a Matchbox veľmi jednoducho integrovať do Vášho jestvujúceho prostredia procesov a vďaka inteligentnému spojeniu generátora a adaptačného sieťového systému , takzvaného SystemPort, dosiahnuť optimálne systémové riešenie.

V závislosti od krajiny sú možné odchýlky od tohto sortimentu produktov. Zmeny v technike, výbave, cene a ponuke príslušenstva sú vyhradené. Skontaktujte sa prosím s kontaktnou osobou u Vášho lokálneho partnera, ak si chcete overiť, či je produkt dostupný vo Vašej krajine.

Poznámky pod čiarou
  • Teplota chladiacej kvapaliny musí byť vyššia ako rosný bod v miestnosti, aby sa zabránilo kondenzácii.

Tieto témy by mohli zaujímať aj Vás

TruPlasma RF 1003: Hochfrequenzgenerator für maximale Produktivität
Minimalizované náklady pri maximálnych výsledkoch

TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) sú VF generátory najnovšej generácie a ponúkajú najlepšie predpoklady pre stabilné zásobovanie plazmovým prúdom.

VHF Generator Serie 3000
Vysoká hospodárnosť v robustnom dizajne

Inovatívne, modulárne, stupňovito rozšíriteľné: Nové kompaktné VHF generátory TRUMPF Hüttinger presviedčajú vysokou hospodárnosťou a robustným dizajnom.

Services_Electronics_Training
Individuálne školenia pre zákazníkov sú našou silnou stránkou

Skúsení servisní technici sprostredkujú fundované vedomosti, ktoré sú obsahom ušité na mieru požiadaviek účastníkov.

Kontakt

Klaus Nock
Predaj, Plasma
Fax +49 761 89711150
E-mail

Na stiahnutie

Brožúra TruPlasma RF System
Brožúra TruPlasma RF System
pdf - 6 MB
Servis & Kontakt