Garantier för enastående processresultat
Med dessa HF-generatorer kan du känna dig säker: TruPlasma RF Serie 3000 utmärker sig genom en robust konstruktion och hög effektivitet. Därmed är de bäst lämpade för stabila, reproducerbara plasmaprocesser som exempelvis används vid tillverkningen av plattskärmar, solceller eller halvledare. De här generatorerna som är installerade i tusentals tillämpningar världen över garanterar en hög produktivitet och enastående processresultat.
Verkningsgrad på upp till 80 % gör det möjligt att minska energikostnaderna med upp till 50 %.
Säker styrning, även av krävande och nya processer.
CombineLine-teknologin: tillförlitligt skydd mot reflekterade effekter vid felanpassning.
Kontinuerlig eller pulsad effektavgivning och kan därmed användas i olika tillämpningar.

Etsnings- och beläggningsprocesser
HF-generatorerna i TruPlasma RF Serie 3000 är särskilt lämpliga för etsnings- och beläggningsprocesser, tex. plasmaetsning, reaktiv jonetsning, ALD och PECVD.

Beläggning av arbetsstycken av metall
Plasmaprocesser kan användas såväl för applicering som borttagning av material på ytor, till exempel vid beläggning av metallarbetsstycken med ett slitageskyddande lager eller strukturering av elektroniska komponenter med plasmaetsning eller fotolack-plasmaförbränning.

Beläggning av plattskärmar och solceller
HF-generatorerna i TruPlasma RF Serie 3000 är perfekt lämpade för plasmaprocesser som RIE, ALD, PECVD och RF-sputtring. Dessa metoder används bland annat vid beläggning av plattskärmar och solceller.
TruPlasma RF 3012
|
TruPlasma RF 3020
|
TruPlasma RF 3024
|
|
---|---|---|---|
RF utgång | |||
Utgångseffekt | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
Märkeffekt | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
Nominell belastningsimpedans | 50 Ω | 50 Ω | 50 Ω |
Utgångsfrekvens | 13,56 MHz | 13,56 MHz | 13,56 MHz |
Nätanslutningsdata | |||
Nätspänning | 400 - 480 V | 400 - 480 V | 400 - 480 V |
Nätfrekvens | 50-60 Hz | 50-60 Hz | 50-60 Hz |
Förbrukningseffekt | 16,6 kVA | 28,1 kVA | 33,3 kVA |
Effektfaktor | 0,93 | 0,93 | 0,93 |
Kommunikationssnittställen | |||
Sync snittställen | Ja | Ja | Ja |
Analog/digital | Ja | Ja | Ja |
RS 232 / RS 485 | Ja | Ja | Ja |
PROFIBUS | Ja | Ja | Ja |
EtherCAT | Ja | Ja | Ja |
DeviceNet | Ja | Ja | Ja |
Chassi | |||
Vikt | 57 kg | 117 kg | 117 kg |
Kapslingsklass IP | 20 | 20 | 20 |
Kylarkrav | |||
Max. vattentryck | 7 bar | 7 bar | 7 bar |
Lägsta tryckskillnad | 2 bar | 2 bar | 2 bar |
Min. flödesmängd | 10 l/min | 20 l/min | 20 l/min |
Temperatur kylvätska | 5 °C - 35 °C 1 | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C 1 |
Allmänt | |||
Total verkningsgrad | 78 % | 75 % | 75 % |
Certifikat / standarder | SEMI F47,CE, RoHs | SEMI F47,CE, RoHs | SEMI F47,CE, RoHs |
Omgivningsvillkor | |||
Yttertemperatur | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C |
Luftfuktighet | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
Barometriskt tryck | 79,5 kPa - 106 kPa | 79,5 kPa - 106 kPa | 79,5 kPa - 106 kPa |
Tekniska data för alla produktvarianter för nerladdning.

Maximal effektivitet och processtabilitet
Halvering av effektförlusterna och minskade kostnader för kylvatten tack vare den enastående verkningsgraden – så minimerar ni era driftskostnader. Generatorns mycket robusta konstruktion möjliggör längre driftstider även vid kritiska processer och därmed högre beläggningshastigheter. Plasmavariationer förhindras effektivt med CombineLine-teknologin med verklig 50 ohms utgångsimpedans vilket möjliggör helt stabila processer.

Säkerhet under alla omständigheter
Den robusta konstruktionen försäkrar maximal tillförlitlighet och produktivitet hos eraprocesser. 100 % felanpassningsskydd garanterar säker drift även vid kritiska laster. Valet mellan kontinuerlig eller pulsad effektavgivning stödjer många olika processkrav. 20 000 enheter har installerats över hela världen – mer än någon annan plasmaströmförsörjning.

TRUMPF SystemPort
SystemPorten möjliggör ett slutna reglerkretsar genom att RF-signalen mäts direkt vid ingången och utgången från anpassningsnätverket. Alla uppmätta värden är tillgängliga för RF-generatorn. Det möjliggör bättre övervakning av processparametrarna, skydd av anpassningsnätverket och tidig båg-detektering. Hela RF-systemet kan även styras via ett enda generatorgränssnitt.
Olika tillval möjliggör en optimal anpassning av HF-generatorn till er applikation.
Den genomtänkta båghanteringen är den perfekta modulen för bästa plasmaprocesskontroll. En riktad bågdetektering garanterar högsta möjliga produktivitet och skyddar samtidigt produkten och anläggningen.

TruControl Power
Det lättanvända styrprogrammet TruControl Power möjliggör bekväm idrifttagning och säker övervakning av HF-generatorn samt hela TRUMPF RF-system under pågående process.
Alla komponenter i TRUMPF RF-system är optimalt anpassade till varandra.

TruPlasma Match anpassningsnätverk försäkrar en optimal kraftöverföring från generatorn till plasmaurladdningen. Anpassningsnätverket kan användas fristående eller via en intelligent anslutning mellan generator och anpassningsnätverk, den så kallade SystemPort.

Med hjälp av master-oscillatorer kan man stabilisera och optimera kritiska synkrona plasmaprocesser. En integrerad digital frekvens- och fassynthesizer försäkrar hög frekvens- och fasstabilitet och möjliggör inställning av fasläget med mycket små steg. Det finns olika masteroscillatorer tillgängliga för frekvensen 13,56 Mhz samt olika frekvenskombinationer att välja mellan.

En HF-omkopplare möjliggör flerfaldig användning av en HF-generator till olika plasmaprocesstationer, till exempel för strömförsörjning av sekventiella processer eller system med olika inmatningspunkter. Det finns olika HF-omkopplare i två effektklasser samt med 2, 3 eller 4 utgångar.

För HF-effektöverföring har TRUMPF Hüttinger koaxialkabeln som är konstruerad speciellt för drift i 50 ohmssystem.

Perfekt anpassade efter varandra: generator och anpassningsnätverk
Plasmaprocesser uppför sig som en komplex, variabel last, till vilken strömförsörjningen från generatorn kontinuerligt måste justeras. Aktiva anpassningsnätverk klarar dessa uppgifter och säkerställer hela tiden en exakt anpassning till den optimala impedansen på 50 ohm. Därmed uppstår en perfekt anpassad systemlösning, TRUMPF RF-systemet. Generatorn och anpassningsnätverket kan enkelt integreras i din befintliga processomgivning via olika gränssnitt, bland annat EtherCAT. Du kan även erhålla en optimerad systemlösning genom SystemPort, en intelligent anslutning mellan generatorn och anpassningsnätverket.
Produktutbudet kan variera mellan olika länder och avvika från dessa uppgifter. Vi förbehåller oss rätten till ändringar gällande teknik, utrustning, pris och tillbehörsutbud. Kontakta din kontaktperson på plats för att få reda på om produkten finns tillgänglig i ditt land.
Fotnoter-
Kylvattentemperaturen måste vara högre än daggpunkten i rummet för att undvika att det bildas kondens.