Bu web sitesinin fonksiyonlarının hazırlanması için çerez kullanıyoruz. Çerezleri daha başka amaçlar için kullanmamıza izin verirseniz lütfen buraya tıklayın. Çerezleri devre dışı bırakmak ve gizlilik ile ilgili bilgiler

EUV litografi için yüksek performanslı lazer sistemleri

Mobil cihazlar, sürücüsüz ulaşım veya yapay zeka gibi dijital dünyalardaki otomasyon ve parçaları küçültme odaklı gelişmeler nedeniyle, bilgisayar gücüne yönelik beklentiler gittikçe artmaktadır. Buna bağlı olarak transistörler çip setlerinin içindeki yarı iletkenlerde daha fazla yer bulmaktadır. Ancak bu yeni bir durum değil, Intel'in kurucularından biri yıllar önce bunu öngörerek entegre bir elektronik devredeki transistörlerin sayısının, yaklaşık her 18 ayda bir iki katına çıkacağını savunmuştur. "Moore Kanunu" olarak bilinen bu kanun, bugün de geçerliliğini korumaktadır. Bu sayede bir milimetrekare üzerinde 100 milyon transistöre ulaşan entegrasyon yoğunluğu elde edilebilmektedir. Yarı iletkenlerin boyutları, her geçen gün atom boyutlarına bir adım daha yaklaşmaktadır. Bu çiplerin üretiminde TRUMPF'un yüksek performanslı lazer güçlendiricileri de kilit rol oynamaktadır. Bu sistemler yardımıyla, Wafer pozlama için ekstrem ultraviyole ışın (EUV) sağlayan parlak plazma elde edilmektedir. TRUMPF, dünyanın en büyük litografi sistemleri üreticisi ASML ve optik lens üreticisi Zeiss ile yakın işbirliği içinde, saatte 100'den fazla Wafer işleyebilen benzersiz bir CO2 lazer sistemi geliştirmiştir.

13,5

Nanometre

..., 10 nanometreden küçük yapılar üretilmesini sağlayan ekstrem ultraviyole (EUV) ışığın dalga boyudur.

50.000

Saniye başına kalay damlası

... TRUMPF Laser Amplifier'ın, Wafer pozlamasında EUV ışığı oluşturmak için uyguladığı darbe sayısıdır.

100.000.000

Milimetrekare başına transistör

... EUV litografi sayesinde inanılması güç bir şekilde bir mikroçip üzerinde yer alan transistör sayısıdır.

Kalay damlalarından Wafer pozlamaya uzanan EUV litografi yöntemi

Nanometrik boyutlarda tasarlanan modern bilgisayar çipleri, lazerlerin karmaşık pozlama süreçleri yardımıyla üretilmektedir. Bu üretimlerde Excimer lazerlerden elde edilen UV lazer ışınının kullanıldığı geleneksel yöntemler, kendi sınırlarına gelmiş durumdadır. On nanometre altındaki boyutlarda yapılar, şimdiye kadar kullanılan bu yöntem ile artık üretilememektedir. Bu hassas yapılar, ekstrem ultraviyole (EUV) ışınlarından elde edilen ve daha kısa dalga boylarına sahip pozlama gerektirmektedir.

Prozess der EUV Lithografie mit Lasern von TRUMPF

EUV litografinin en büyük zorluğu, 13,5 nanometrelik optimum dalga boyuna sahip ışını oluşturmaktır. Çözümü de lazer ışını ile üretilen ve bu ekstrem kısa dalgalı ışının oluşturulmasını sağlayan parlak plazmadır. Peki bu plazma nasıl oluşur? Bir jeneratör, kalay damlalarını bir vakum haznesine (3) damlatmakta, ardından TRUMPF'un palslı yüksek performanslı lazeri (1) geçen kalay damlalarına (2) saniyede 50.000 kez darbe uygulamaktadır. Kalay atomları iyonize olarak yoğun bir plazma oluşturmaktadır. Bir toplayıcı ayna, plazma tarafından tüm yönlere yayılan EUV ışınını yakalayarak bir araya getirip Wafer'ın (5) pozlanması için litografi sistemine (4) iletmektedir.

TRUMPF Laser-Amplifier zur EUV-Litographie

Plazma ışınının lazer palsı, TRUMPF tarafından geliştirilen palslı CO2 lazer sistemi TRUMPF Laser Amplifier tarafından üretilmektedir. Yüksek performanslı bu lazer sistemi, on kilowatt üzerinde performans aralığına sahip CO2 cw lazer teknolojisini baz almaktadır. Bu lazer, CO2 lazer palsını orta lazer gücünde düşük Watt değerleri ile beş farklı yükseltici kademesinde 10.000 katın üzerinde ve 10 kilowatt'lar değerinde orta pals gücüne yükseltmektedir. Böylelikle pals pik gücü megawatt'lara ulaşmaktadır. TRUMPF bileşenleri; lazer ışığı üretme, yükseltme, ışın yönlendirme ve kalay damlatma işlemine kadar litografi prosesini tamamen başlatmaktadır. Her zaman benzersiz ve yenilikçi çözümler sunan karmaşık teknolojinin yanı sıra hızlı seri üretim döngüleri yaratmamız ve müşterilerin spesifik taleplerini hayata geçirmemiz sayesinde, tasarımcılar, servis teknisyenleri ve üretim personeli açısından her zaman gelişime açık bir çalışma sistemi elde edilmektedir.

Gesamtsystem zur EUV-Lithografie ASML

TRUMPF, prestijli iş ortakları ile birlikte dünya çapında benzersiz bir CO2 lazer sistemi geliştirmiştir. Dünyanın en büyük litografi sistemleri üreticisi ASML tarafından üretilen damla oluşturma bileşenleri ve tarayıcılar, Zeiss kalitesinde EUV optikleri ile bir araya gelmektedir. Bu sistemler ile seri üretim için yeterli kapasitede ve saatte 100'den fazla Wafer işlenebilmektedir. Sonuç olarak da EUV litografi, dünya genelindeki çip üreticileri için sadece teknik açıdan değil, aynı zamanda ekonomik açıdan da benzersiz bir alternatif haline gelmektedir.

Güncel iş ilanları

1

Qualitätskoordinator (w/m) Produktion EUV

Araştırma/geliştirme, Üretim/kalite yönetimi | Ditzingen / Germany

2

Softwareentwickler (w/m) Automatisierungstechnik/ SPS für EUV

Araştırma/geliştirme, BT/Yazılım geliştirme | Ditzingen / Germany

3

Industriemechaniker (w/m) im Reinraum EUV

Araştırma/geliştirme, Üretim/kalite yönetimi | Ditzingen / Germany

İletişim

Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-posta
Servis ve iletişim

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Turkey . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Turkey
United States

Or select a country or region.