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直流脉冲等离子体电源 | TRUMPF
直流脉冲等离子体电源工艺图

直流等离子体电源

通快霍廷格直流脉冲等离子体电源是适用于众多反应式流程的理想之选。有别于简易型直流发生器,脉冲式直流电能够同样加工半导体材料和非导性材料,如氧化物。脉冲发生器通常应用于硬质镀膜以及半导体制造中的刻蚀与镀膜流程。

TruPlasma Highpulse 4000 系列电源

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列的工艺电源提供尤为抗腐蚀且耐磨损的硬质镀膜,是 HIPIMS 应用的首要之选。若与极化基板相结合,TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列还能服务于半导体应用,如沟填、表面预处理和刻蚀。

TruPlasma Highpulse 4000 系列电源

TruPlasma Highpulse 4000 系列

TruPlasma Highpulse 4000 系列电源是 HIPIMS 应用的首要之选,提供尤为抗腐蚀且耐磨损的硬质镀膜。通过组合极化基板,TruPlasma Highpulse 4000 系列还可操作半导体应用,如刻蚀、表面预处理和沟道填充。

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列将 TRUMPF 霍廷格电子的出色电弧处理和直流脉冲技术优势集于一身。由此实现更佳的镀膜结果,提高沉积速率的同时减少损坏。最终获得光亮表面和高生产效率。

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