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等离子体激发
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Air 1000 系列

值得信赖的精确度

气冷型高频电源 TruPlasma RF 1001 Air 可提供高达 1000 瓦特的高频能量,其精度高、可再现且分辨率极为精细(以 100 mW 递增),因而适用于丰富多样的等离子体应用。无论是半导体制造、太阳能电池制造还是显示屏制造——得益于先进的工艺流程功能,已获专利的 TRUMPF 霍廷格电子技术可在各个领域确保最高可靠性和最佳工艺结果。

智能自动频率调谐

确保以最优效果迅速适配频率,从而确保电源与阻抗匹配器之间的最佳协作。

高精度电弧管理

可靠实现高要求的新型工艺流程,确保您的产品受到保护。

多级脉冲

多级、灵活的脉冲波形控制可在先进的等离子体工艺中实现更佳的工艺结果。

即插即用

可在改动工艺或加装时灵活使用和更换电源。

稳定的等离子体工艺

已获专利的 CombineLine 技术凭借 50 欧姆的真实输出阻抗实现稳定的工艺流程功率。

电源技术一致

高频产品系列中的不同功率等级可满足所有工艺流程需求。

不受高频电缆长度影响

改动工艺流程或改动系统时不再需要调整电缆长度。

纯平显示屏镀膜的顶级供电系统

TruPlasma RF Air 1000 系列高频电源绝佳适用于如 RIE(反应离子刻蚀)、ALD(原子层沉积)、PECVD(等离子体增强化学气相沉积)和射频溅镀法等等离子体工艺流程。这些工艺主要应用于制造半导体元件和微机械系统 (MEMS) 以及平板显示器和太阳能电池的涂层。

太阳能电池制造

TruPlasma RF Air 1000 系列的典型应用领域是太阳能行业中要求严苛的 PECVD(等离子体增强化学气相沉积)、刻蚀及高频溅射等工艺。

射频等离子体电源工艺图

在半导体制造中,使用不同等离子体工艺,包括通过干法刻蚀的材料去除工艺和用于制备纯硅的区熔法。TruPlasma RF Air 1000 系列电源为最佳适配相应工艺的稳定供电系统提供一切前提条件,从而取得出色的可再现结果。

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极高的生产效率与可用性

极高的生产效率与可用性

高频电源灵活、可靠的设计可提升吞吐量并削减运行成本。

已获专利的 CombineLine 技术

流程稳定,结果可再现

已获专利的 CombineLine 技术具备智能实时匹配能力,可确保 TruPlasma RF 1001 Air 具有最佳可用性,并可靠防止等离子体波动和污染。

紧凑、应用灵活

得益于紧凑的结构(½ 19 英寸插入式装置),此高频电源极为节省空间——绝佳适合新安装或者作为现有设施中的加装解决方案。众多可用接口(可配置模拟接口、以太网、DeviceNet、PROFIBUS 现场总线、EtherCAT)使集成非常简便。

理想适用于刻蚀与镀膜工艺

精确到小数点后一位

得益于以 100  mW 递增的精确能量计量,即使是在 ALD(原子层沉积)等最为先进、要求最高的应用中,TruPlasma RF 1001 Air 亦可取得最佳结果。高频电源的高精度功率调节器确保实现最佳晶圆间可重复性。

建筑玻璃

先进的工艺流程功能确保最佳工艺结果

智能自动频率调谐 2.0、电弧管理和多级脉冲等数字控制功能可针对相应工艺流程以最佳效果适配高频电源。

TruPlasma RF 1003:旨在实现最高生产效率的高频电源

灵活适配客户应用

可提供设计一致而功率等级和频率不同的电源,从而实现在改动工艺流程时轻松更换。也不再需要适配电缆长度。

通过 TRUMPF SystemPort 控制整套高频系统

SystemPort 通过直接测量阻抗匹配器输入端和输出端上的 RF 信号,形成闭环控制回路,使高频电源能够随时获取所有测量值。由此实现持续监测工艺流程参数、保护阻抗匹配器并确保及早识别电弧。

自动频率调谐
智能自动频率调谐 (AFT)

已获专利的自动频率调谐能够快速同步适配频率,确保电源与阻抗匹配器之间的最佳协作。从而确保最佳过程工艺结果和最高可再现性。

快速精确的电弧管理

精心设计的电弧管理可确保对等离子体工艺实施最佳监控。针对性电弧识别可提升生产效率,同时保护产品和设施免于受损。

多级脉冲

最新等离子体工艺要求脉冲运行具备更高的灵活性。可自由选择的多级脉冲运行可以形成任何脉冲波形。这在等离子体物理学中催生出一套全新控制机制,也可实现更佳的工艺结果。

同步模块(脉冲、CEX、电弧)

同步模块可在复杂的等离子体系统中灵活可靠地同步多个电源。

TruControl Power

易于操作的控制软件实现在工艺运行中便捷调试和可靠监控高频电源或整个 TRUMPF RF 系统。

网页图形用户界面

内置网页服务器可实现通过网页浏览器操作高频系统或进行软件升级。

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