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反应性磁控溅镀 | TRUMPF

反应性磁控溅镀

低成本生成氧化物和氮化物

在反应性磁控溅镀工艺中利用荷能粒子轰击固体靶材,使靶材原子或分子被溅射出来并沉积到基材上,这一过程与通常的PVD工艺类似。然而,在基材上形成膜层的原子不仅来自于靶材,甚至也来自气相粒子。

反应性气体及其电离出的成分与靶材或者从靶材中脱落的原子产生化学反应,由此生成的化合物在基材表面沉积。例如,可以在氧气等离子体中通过反应性磁控溅射锡材来生产氧化锌(ZnO),或在氮气等离子体中溅射铝材来生成AlN。如果这个反应在靶材上发生,那么所生成的化合物就叫溅射反应产物。

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