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干法刻蚀 | TRUMPF

干法刻蚀

纳米领域的结构

通过材料剥蚀,可利用薄膜生产电子元件结构。这产生了例如印制导线或晶体管。工艺气体分子电离产生的离子在等离子体的电场中加速到基体表面。

反应离子刻蚀可实现方向选择性蚀刻,这是生产微电子元件和 MEMS(微机电系统)的前提条件。为了精确控制离子流和离子能量,可使用具有不同激振频率的不同发生器来产生偏置电压。