我们使用 Cookie 来提供本网站的内容和功能 如果也允许我们将 Cookie 用于其他目的,请点击这里 关于禁用 Cookies 和数据保护的信息
稳定电压管理与快速电弧管理兼具的偏压电源
稳定电压管理与快速电弧管理兼具的偏压电源
等离子体激发
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bias 3000 系列

稳定又全面

用于溅射工艺的通用型电源

TruPlasma Bias 3000 系列电源尤其支持光学与金属镀膜应用,例如在半导体技术或硬质镀膜中。此外,其还适合对电压与电流有类似要求的所有应用。

高压与低压模式

1200 V 用于基板酸洗工艺,
300 V 用于偏压镀膜工艺。

快速电弧管理

由于电弧残余能量极少,从而减少基材损坏并确保工艺流程更稳定。

稳定且可再现的工艺成果

得益于 DSP 技术设计和 FPGA 信号分析,获得独一无二的精确度。

理想适用于大面积镀膜

装饰镀膜

在等离子体工艺中,大面积镀膜对工艺电源提出了极高要求。TruPlasma Bias 3000 系列电源为稳定的、最佳适配相应工艺的电源提供一切前提条件,以取得优异的可再现结果。

理想适用于刻蚀与镀膜工艺

半导体技术

TruPlasma Bias 3000 系列电源经过所有 PVD 与 PECVD 关键工艺的考验,并为稳定的、最佳适配相应工艺的电源提供一切前提条件,以取得优异的可再现结果。

-/-
TruPlasma Bias 3000 系列电源投入使用

保证良好的工艺条件始终如一

特殊的功率与控制设计确保可靠的电压稳定性,对于涂层质量和工艺稳定起决定性作用。采用 DSP 技术设计并配有 FPGA 信号分析的 TruPlasma Bias 3000 系列具备先进的电弧管理,借此提供独一无二的精确度与重复精度。两项参数的可观数值保证了极佳的工艺稳定性。

TruPlasma Bipolar 4000 系列 (G2) 的典型应用领域:耐磨涂层制造

仅需一台设备即可为多项工艺简化系统处理

TruPlasma Bias 3000 系列具备两种独立的电压模式:至 1200 V 的高压模式以及至 300 V 的低压模式。这两种模式尤其支持光学与金属镀膜应用,例如在半导体技术或硬质镀膜中。此外,其还适合对电压与电流有类似要求的所有应用。

TruPlasma Bias 3000 系列的典型应用领域:太阳能电池制造

通过顺畅的工艺流程实现最佳涂层质量

TruPlasma Bias 3000 系列电源配备具有极少电弧能量的全数字化电弧管理和 CompensateLine,从而实现较高的涂层质量和沉积速率。由此减少基材损坏,改善工艺流程与最终产品。

易于操作的 PVD Power 软件

PVD Power

多语种软件 PVD Power 用户界面易操作,提供多方面的操作、配置及诊断方法,以此优化工艺质量和有效排除故障:显示所有相关工艺参数的实际值以及警告和报警消息、由操作员规定目标值和以较高的时间分辨率记录重要运行参数并进行可视化(示波器功能)。

受国别影响,此产品分类与此说明 可能有所不同。保留技术、装备、价格与配件范围方面的更改权利。 请与您当地的联系人取得联系,以便了解您所在国家 是否可提供该产品。

您可能也对以下主题感兴趣

服务 & 联系人

Close

Country and language selection

Please note

You have selected the international "Chinese (Simplified)" language version of the website. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

International Chinese (Simplified)
United States

Or select a country or region.