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稳定电压管理与快速电弧管理兼具的偏压电源
稳定电压管理与快速电弧管理兼具的偏压电源
等离子体激发
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bias 4000 系列

稳定又全面

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    用于溅射工艺的通用型电源

    TruPlasma Bias 4000 系列是最先进的脉冲式直流偏压电源产品系列。允许高达 100 kHz 的脉冲频率及连续偏压输出。此电源尤其支持光学与金属镀膜应用,例如在半导体技术或硬质镀膜中。此外,其还适合对电压与电流有类似要求的所有应用。

    高压与低压模式

    1200 伏用于基板酸洗工艺,
    300 伏用于偏压镀膜工艺。

    快速电弧管理

    因此,微滴沉积和基材损坏显著减少。

    稳定且可再现的工艺成果

    得益于 DSP 技术设计和 FPGA 信号分析,电弧管理功能极为出色。

    TruPlasma Bipolar 4000 系列 (G2) 的典型应用领域:耐磨涂层制造

    制造耐磨涂层

    TruPlasma Bias 4000 系列电源实现稳定的等离子体工艺和最佳涂层质量。

    理想适用于大面积镀膜

    大面积镀膜

    在等离子体工艺中,大面积镀膜对工艺电源提出了极高要求。TruPlasma Bias 4000 系列电源为稳定的、最佳适配相应工艺的电源提供一切前提条件,以取得优异的可再现结果。

    TruPlasma Bias 4000 系列电源

    太阳能电池制造

    TruPlasma Bias 4000 系列电源经过所有 PVD 与 PECVD 关键工艺的考验,并为稳定的、最佳适配相应工艺的电源提供一切前提条件,以取得优异的可再现结果。

    TruPlasma Bias 4012
    TruPlasma Bias 4018
    TruPlasma Bias 4026
    输出端      
    标称功率 12 kW 18 kW 26 kW
    最大输出电流 40 A eff 60 A eff 87 A eff
    最高输出电压 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff
    标称工作频率 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz
    光弧参数      
    最大光弧比率 50 1 次/秒 50 1 次/秒 50 1 次/秒
    光弧处理时间 <0.5 µs <0.5 µs <0.5 µs
    标称连接数据      
    电源供应器电压 3x 360 V - 440 V 3x 360 V - 440 V 3x 360 V - 440 V
    电源频率 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz
    通信接口      
    模拟/数字
    RS 232 / RS 485 - -
    PROFIBUS -
    Ethercat
    外壳      
    重量 70 kg 70 kg 71 kg
    防护等级 IP IP 20 IP 20 IP 20
    冷却要求      
    冷却介质 空气 空气 空气
    冷却介质温度 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C
    通用      
    总效率 90 % 90 % 90 %
    认证书/标准 CE CE CE
    周围条件      
    外部温度 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C
    空气湿度 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    气压计压力 860 kPa - 1060 kPa 860 kPa - 1060 kPa 860 kPa - 1060 kPa
    PDF <1MB
    技术数据页

    所有产品款型的技术数据以供下载。

    建筑玻璃

    保证良好的工艺条件始终如一

    特殊的功率与控制设计确保可靠的电压稳定性,对于涂层质量和工艺稳定起决定性作用。采用 DSP 技术设计并配有 FPGA 信号分析的 TruPlasma Bias 4000 系列具备先进的电弧管理功能,借此提供独一无二的精确度与重复精度。两项参数的可观数值保证了极佳的工艺稳定性。

    硬质镀膜

    仅需一台设备即可为多项工艺简化系统处理

    TruPlasma Bias 4000 系列具备两种独立的电压模式:至 1200 V 的高压模式以及至 300 V 的低压模式。这两种模式尤其支持光学与金属镀膜应用,例如在半导体技术或硬质镀膜中。此外,其还适合对电压与电流有类似要求的所有应用。

    电弧管理

    通过顺畅的工艺流程实现最佳涂层质量

    TruPlasma Bias 4000 系列电源配备具有极少电弧能量的全数字化电弧管理和 CompensateLine,从而实现较高的涂层质量和沉积速率。由此更加减少微滴沉积和基材损坏,工艺与产品得以改善。

    易于操作的 PVD Power 软件

    PVD Power

    多语种软件 PVD Power 用户界面易操作,提供多方面的操作、配置及诊断方法,以此优化工艺质量和有效排除故障:显示所有相关工艺参数的实际值以及警告和报警消息、由操作员规定目标值和以较高的时间分辨率记录重要运行参数并进行可视化(示波器功能)。

    受国别影响,此产品分类与此说明 可能有所不同。保留技术、装备、价格与配件范围方面的更改权利。 请与您当地的联系人取得联系,以便了解您所在国家 是否可提供该产品。

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    联系方式

    Klaus Nock
    等离子体销售部
    传真: +49 761 89711150
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    宣传册
    TruPlasma Bias 3000 / 4000 系列宣传册
    TruPlasma Bias 3000 / 4000 系列宣传册
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