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Technologiebild DC gepulste Plasmageneratoren

直流等离子体电源

TRUMPF 霍廷格直流脉冲等离子体电源是适用于众多反应式流程的理想之选。有别于简易型直流发生器,脉冲式直流电能够同样加工半导体材料和非导性材料,如氧化物。脉冲发生器通常应用于硬质镀膜以及半导体制造中的刻蚀与镀膜流程。

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列将 TRUMPF 霍廷格电子的出色电弧处理和直流脉冲技术优势集于一身。由此实现更佳的镀膜结果,提高沉积速率的同时减少损坏。最终获得光亮表面和高生产效率。

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TruPlasma DC 4000 系列

TruPlasma DC 4000 系列电源是高要求等离子体工艺的首选。它们通过宽泛的负载匹配范围提供全功率。因此它们适合高科技溅镀应用,以及其他各类标准或脉冲直流等离子体应用。它们与非脉冲式电源一样,也具有出色的电弧管理功能。

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TruPlasma Highpulse 4000 系列

TruPlasma Highpulse 4000 系列电源是 HIPIMS 应用的首要之选,提供尤为抗腐蚀且耐磨损的硬质镀膜。通过组合极化基板,TruPlasma Highpulse 4000 系列还可操作半导体应用,如刻蚀、表面预处理和沟道填充。

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TruPlasma Bias 4000 系列

TruPlasma Bias 4000 系列是最先进的脉冲式直流偏压电源产品系列。允许高达 100 kHz 的脉冲频率及连续偏压输出。
该系列的所有设备均具备两种工作模式:用于基板酸洗工艺的 1200 伏高压模式,以及用于偏压镀膜工艺的 300 伏低压模式,其适用于例如半导体技术或硬质镀膜。

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