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TruPlasma Highpulse 4000 系列 | TRUMPF
TruPlasma Highpulse 4000 系列电源
TruPlasma Highpulse 4000 系列电源
等离子体激发
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Highpulse 4000 系列

实现出色镀膜结果的高密度等离子体

HiPIMS 应用的首选

TruPlasma Highpulse 4000 系列电源可作为直流溅射电源的替代方案,无需改动即可用于现有磁控系统。

卓越的涂层特性

高达 8 MW 的脉冲产生极其密集的等离子体,实现最佳镀膜结果。

涂层与附着毫无瑕疵

高功率脉冲磁控溅射 (HIPIMS) 中获得出色的工艺结果。

不同功率等级

脉冲功率从 1 MW 至 8 MW 不等,平均功率为 10 kW 至 20 kW。

TruPlasma Highpulse 4000 系列电源投入使用

HIPIMS 应用

TruPlasma Highpulse 4000 系列电源是 HIPIMS 应用的首要之选。作为最先进的脉冲式 PVD 溅射方法,HIPIMS 可提供特别抗腐蚀又耐磨损的硬质镀膜。

理想适用于刻蚀与镀膜工艺

刻蚀、表面预处理和沟道填充

可达 8 兆瓦的峰值功率以较高的离子通量产生非常密集的等离子体。与电弧放电的原理类似,但 HIPIMS 技术不会形成材料微滴 (droplet)。通过组合极化基板,TruPlasma Highpulse 4000 系列还可操作半导体应用,如刻蚀、表面预处理和沟道填充。

适用于大面积镀膜

适用于大面积镀膜

等离子体工艺中,大面积镀膜对工艺电源提出极高要求。TruPlasma Highpulse 4000 系列电源为稳定的、最佳适配相应工艺的电源提供一切前提条件,以取得优异的可再现结果。

TruPlasma Highpulse 4000 系列的应用领域:太阳能行业中的高要求工艺

太阳能电池制造

在光伏产业中,定制化工艺电源有诸多应用领域。TruPlasma Highpulse 4000 系列电源可最佳适配相应工艺,实现出色的工艺结果以及高生产效率。

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TruPlasma Highpulse 4000 系列电源投入使用

最佳工艺成果

TruPlasma Highpulse 4000 系列电源为科研过程与工业工艺提供无与伦比的灵活性并实现无液滴溅射和极少的表面缺陷。具有极少电弧能量的全数字化电弧管理基于实时电流测量,实现较高的涂层质量和沉积速率。

实现最佳设备融入:TruPlasma Highpulse 4000 系列电源

可灵活使用

TruPlasma Highpulse 4000 系列电源可轻松适配现有阴极系统和工艺条件并使设备以最佳方式融入。

不同选项确保 Tru Plasma Highpulse 4000 系列以最佳方式适配您的应用。

电弧管理 CompensateLine (CLC)

具有极少电弧能量的全数字化电弧管理实现较高的涂层质量和沉积速率。

图形操作软件 PVD Power

PVD Power

多语种软件 PVD Power 用户界面易操作,提供多方面的操作、配置及诊断方法,以此优化工艺质量和有效排除故障:显示所有相关工艺参数的实际值以及警告和报警消息、由操作员规定目标值和以较高的时间分辨率记录重要运行参数并进行可视化(示波器功能)。

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等离子体销售部
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