用于溅射工艺的通用型电源
TruPlasma Bias 4000 系列是最先进的脉冲式直流偏压电源产品系列。允许高达 100 kHz 的脉冲频率及连续偏压输出。此电源尤其支持光学与金属镀膜应用,例如在半导体技术或硬质镀膜中。此外,其还适合对电压与电流有类似要求的所有应用。
1200 伏用于基板酸洗工艺,
300 伏用于偏压镀膜工艺。
因此,微滴沉积和基材损坏显著减少。
得益于 DSP 技术设计和 FPGA 信号分析,电弧管理功能极为出色。
TruPlasma Bias 4012
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TruPlasma Bias 4018
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TruPlasma Bias 4026
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输出端 | |||
标称功率 | 12 kW | 18 kW | 26 kW |
最大输出电流 | 40 A eff | 60 A eff | 87 A eff |
最高输出电压 | 1200 V eff | 1200 V eff | 1200 V eff |
标称工作频率 | 0 kHz - 100 kHz | 0 kHz - 100 kHz | 0 kHz - 100 kHz |
光弧参数 | |||
最大光弧比率 | 50 1 次/秒 | 50 1 次/秒 | 50 1 次/秒 |
光弧处理时间 | <0.5 µs | <0.5 µs | <0.5 µs |
标称连接数据 | |||
电源供应器电压 | 3x 360 V - 440 V | 3x 360 V - 440 V | 3x 360 V - 440 V |
电源频率 | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz |
通信接口 | |||
模拟/数字 | 是 | 是 | 是 |
RS 232 / RS 485 | - | 是 | - |
PROFIBUS | 是 | - | 是 |
Ethercat | 否 | 否 | 否 |
外壳 | |||
重量 | 70 kg | 70 kg | 71 kg |
防护等级 IP | IP 20 | IP 20 | IP 20 |
冷却要求 | |||
冷却介质 | 空气 | 空气 | 空气 |
冷却介质温度 | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C |
通用 | |||
总效率 | 90 % | 90 % | 90 % |
认证书/标准 | CE | CE | CE |
周围条件 | |||
外部温度 | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C |
空气湿度 | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
气压计压力 | 860 kPa - 1060 kPa | 860 kPa - 1060 kPa | 860 kPa - 1060 kPa |
所有产品款型的技术数据以供下载。

保证良好的工艺条件始终如一
特殊的功率与控制设计确保可靠的电压稳定性,对于涂层质量和工艺稳定起决定性作用。采用 DSP 技术设计并配有 FPGA 信号分析的 TruPlasma Bias 4000 系列具备先进的电弧管理功能,借此提供独一无二的精确度与重复精度。两项参数的可观数值保证了极佳的工艺稳定性。

仅需一台设备即可为多项工艺简化系统处理
TruPlasma Bias 4000 系列具备两种独立的电压模式:至 1200 V 的高压模式以及至 300 V 的低压模式。这两种模式尤其支持光学与金属镀膜应用,例如在半导体技术或硬质镀膜中。此外,其还适合对电压与电流有类似要求的所有应用。

通过顺畅的工艺流程实现最佳涂层质量
TruPlasma Bias 4000 系列电源配备具有极少电弧能量的全数字化电弧管理和 CompensateLine,从而实现较高的涂层质量和沉积速率。由此更加减少微滴沉积和基材损坏,工艺与产品得以改善。

PVD Power
多语种软件 PVD Power 用户界面易操作,提供多方面的操作、配置及诊断方法,以此优化工艺质量和有效排除故障:显示所有相关工艺参数的实际值以及警告和报警消息、由操作员规定目标值和以较高的时间分辨率记录重要运行参数并进行可视化(示波器功能)。
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