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Technologiebild RF Plasmageneratoren

高频等离子体发生器

TRUMPF 霍廷格 TruPlasma 高频发生器为所有等离子体激发电源提供最高流程稳定性。因此,该高频工艺尤其适合注重极高精确度和可重复性的流程。在能效和耐用性方面,该款高频发生器同样是市场中的佼佼者——因此,它是高要求应用的首选,例如制造半导体元件、微型芯片、太阳能电池或纯平显示屏。

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TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列

TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列是最新一代的高频电源。得益于已获专利的 CombineLine 耦合技术或所有加工过程参数的实时测量等创新功能,即使在要求严苛的等离子体工艺中仍可确保可靠供电——这是可再现结果和高生产效率的最佳前提条件。

TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006 高频电源

TruPlasma RF 3000 系列

性能强劲的TruPlasma RF 3000 系列高频电源因极其高效和高工艺流程稳定性而出众。因此,其理想适用于高要求等离子体工艺,例如应用于纯平显示屏、太阳能电池或半导体制造。用于阻抗适配的阻抗匹配器与电源准确协调,随时确保从电源至等离子体的最佳稳定功率传输。

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TruPlasma VHF 3000 系列

确保最高流程功率:TruPlasma VHF 3000 系列电源基于创新型平台理念,甚至满足极为严苛的工艺流程要求。VHF 电源的模块化纯水冷结构可将输出功率最高扩展至 80 kW,同时确保所用空间最小!

射频系统解决方案:实现极高工艺稳定性的阻抗匹配器

TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列

精确适配高频电源的输出阻抗,对于最佳控制等离子体工艺流程至关重要。这项工作由 TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗匹配器完成,其可作为电源与工艺流程间的链节。以此种方式生成用于工艺流程电源的整体解决方案——TRUMPF RF 系统。

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