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射频系统解决方案:实现极高工艺稳定性的阻抗匹配器
射频系统解决方案:实现极高工艺稳定性的阻抗匹配器
等离子体激发
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列

通过实时测量实现智能匹配

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    天衣无缝的射频系统解决方案

    TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列的新款阻抗匹配器与 TRUMPF 霍廷格电子高频发生器相得益彰。凭借智能匹配算法和用于工艺监控的数字化控制平台,形成所有组件在其中最佳协作的整体解决方案——TRUMPF RF 系统。

    智能匹配算法

    即便在严苛的工艺流程中也能完成快速、稳定、可再现的 50  Ω 阻抗适配。

    系统整体的最佳协作

    电源与阻抗匹配器之间的更佳通信与先进软件。

    实时测量高频功率

    每当阻抗匹配器与负载的阻抗发生变化时,实现系统快速追踪。

    闭环控制回路

    最佳监测工艺流程参数并及早识别电弧。

    方便用户的工艺流程控制

    图形操作界面和高效工具(史密期圆图、实时示波器)。

    射频系统解决方案:实现极高工艺稳定性的阻抗匹配器

    半导体、太阳能电池与纯平显示屏的制造

    在半导体、太阳能电池与纯平显示屏的制造中,稳定的等离子体工艺起决定性作用。与 TRUMPF 霍廷格电子高频发生器相结合,TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗匹配器为尽可能提升工艺稳定性和生产效率提供整体解决方案。

    为硬质镀膜提供支持:TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列电源

    施加硬质与耐磨涂层

    通过施加功能性涂层,承受强大负荷的工件获得更高的机械硬度以及更好的热稳定性与化学稳定性。TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗匹配器与 TRUMPF 霍廷格电子高频电源相互协作,确保完美的涂层质量。

    理想适用于大面积镀膜:TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗匹配器

    材料去除和表面镀膜

    TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗匹配器可在所有常见等离子体工艺中用于表面镀膜或材料去除——例如等离子体刻蚀、反应离子刻蚀、ALD、PECVD、射频溅射或光刻胶等离子体灰化。与 TRUMPF 霍廷格电子高频电源协作实现最佳工艺结果。

    高频输出端        
    输出功率 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
    标称功率 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
    输出频率 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz
    标称连接数据        
    电源供应器电压 (±10%) 23.5 V - 24.5 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 23.5 V - 24.5 V
    电源频率 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz 50 Hz - 60 Hz
    通信接口        
    同步接口
    模拟/数字
    RS 232 / RS 485
    PROFIBUS
    Ethercat
    DeviceNet
    外壳        
    重量 8 kg 27 kg 30 kg 15 kg
    防护等级 IP 21 21 21 21
    冷却要求        
    最高水压 - 6 bar 6 bar -
    最小压差 - 1.5 bar 1.5 bar -
    最小流量 - 3.5 l/min 5 l/min -
    冷却介质温度 - 10 °C - 30 °C 1 10 °C - 30 °C 1 -
    通用        
    认证书/标准 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47
    周围条件        
    外部温度 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C
    空气湿度 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 %
    气压计压力 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa
    PDF <1MB
    技术数据页

    所有产品款型的技术数据以供下载。

    始终确保高频电源的全功率输出

    随时完美控制工艺

    阻抗匹配器负责随时快速直接匹配 50 Ω 阻抗——从而确保高频电源始终向工艺输出全功率。阻抗匹配器与电源之间的无线通信实现最佳工艺流程监测和及早识别电弧。

    易于操作的 TruControl Power 软件

    所有参数一目了然

    高频输入与输出功率的实时测量显示阻抗的动态变化,冷却传感器实现可靠预报功率损耗。含有复杂显示选项(史密期圆图、实时示波器)的图形操作软件让所有相关工艺参数始终一目了然。

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort 通过直接测量阻抗匹配器输入端和输出端上的 RF 信号,形成闭环控制回路。RF 发生器可使用所有测量值。由此实现更好的工艺流程参数监测,保护阻抗匹配器并确保及早识别电弧。可通过单一的发生器接口控制整个 RF 系统。

    不同选项使 TRUMPF RF 系统最佳适配您的应用。

    高频电流测量

    用于识别等离子体异常的高精度 AC 电流测量装置,于工艺流程就近安放在阻抗匹配器内,紧挨腔室。

    电弧管理

    精湛的电弧管理是适用于最佳等离子体工艺流程控制的理想模块。有针对性的电弧识别确保最高生产效率,同时保护产品与设备。

    接口

    Analog/Digital、PROFIBUS 和 EtherCAT 作为可选接口提供。标配 EtherNet、SystemPort 和 RS232/485。

    易于操作的 TruControl Power 软件

    TruControl Power

    易于操作的控制软件 TruControl Power 实现在工艺运行中便捷调试和可靠监控高频发生器或整个 TRUMPF RF 系统。

    易于操作的 TruControl Power 软件

    图形操作软件

    复杂的图形表示实现全面管理所有相关工艺参数。负载与阻抗匹配器阻抗通过史密期圆图,含频率与相位在内的高频输入与输出功率借助实时示波器进行可视化。

    由高频电源与阻抗匹配器构成的 TRUMPF RF 系统是完美相互协调的整套系统,可提供极佳的工艺结果。

    易于操作的 TruControl Power 软件
    图形操作软件

    复杂的图形表示实现全面管理所有相关工艺参数。负载与阻抗匹配器阻抗通过史密期圆图,含频率与相位在内的高频输入与输出功率借助实时示波器进行可视化。

    用于稳定严苛的同步等离子体工艺流程的主振荡器
    主振荡器

    凭借主振荡器可稳定和优化关键的同步等离子体过程。集成式数字频率与相位合成器确保高频率与相位稳定性,可以实现按照极小的步幅调整相位。可选择用于 13.56 MHz 频率以及各种频率组合的不同规格主振荡器。

    用于灵活等离子体系统上使用高频电源的高频转换器
    高频转换器

    高频转换器允许在不同等离子体进程工站多次使用高频电源,例如用于给连续过程或具有不同馈电点的系统供电。提供两种功率级别以及具有 2、3 或 4 个输出端的不同高频转换器。

    用于传输指定功率的同轴电缆
    同轴电缆

    为实现高频功率传输,TRUMPF Hüttinger 提供专门设计用于在 50 欧姆系统下工作的同轴电缆。

    电源与阻抗匹配器:相互完美协调的系统解决方案

    最佳管理等离子体工艺

    等离子体工艺就像一个复杂可变的负载,必须通过发生器为其不断供电。这项工作由有源匹配网络(所谓的阻抗匹配器)来完成,确保随时精确匹配 50 Ω 的最佳阻抗。由此形成相互完美协调的系统解决方案——TRUMPF RF 系统。通过不同接口(如 EtherCAT)可十分轻松地将发生器和阻抗匹配器集成至现有工艺环境之中,并通过发生器与阻抗匹配器的智能连接(即所谓的 SystemPort)形成经优化的系统解决方案。

    受国别影响,此产品分类与此说明 可能有所不同。保留技术、装备、价格与配件范围方面的更改权利。 请与您当地的联系人取得联系,以便了解您所在国家 是否可提供该产品。

    脚注
    • 冷却水温度必须超过室温的露点,以避免产生冷凝。

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    联系方式

    Klaus Nock
    等离子体销售部
    传真: +49 761 89711150
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