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TruPlasma RF 3006 高频电源
TruPlasma RF 3006 高频电源
等离子体激发
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列

可实现最高生产效率的稳定进程

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    新一代高频电源

    表面的涂层或结构化的关键在于稳定和可重复的等离子体电源。采用现代电力电子技术的 TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列高频电源为此提供最佳前提条件:得益于其稳定的输出功率与高调节精度,实现高生产效率的同时可确保最佳结果。

    高精确度和可重复性

    CombineLine 技术:凭借 50 欧姆的真实输出阻抗获得最佳工艺流程功率。

    不受高频电缆长度影响

    无需适配电缆长度——高频范围内绝无仅有的创举!

    坚固性和安全性

    CombineLine 技术:失调情况下可靠避免反射功率影响。

    效率与成本效益

    高达 80 % 的能量转换率能够缩减最多 50 % 的能源成本。

    无风扇的冷却设计

    外界空气既不会升温也不会受到污染,因此可实现无尘室内运行。

    TruPlasma RF 3006 高频电源

    纯平显示屏镀膜的理想之选

    TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列高频电源理想适用于 RIE(反应离子刻蚀)、ALD(原子层沉积)、PECVD(等离子体增强化学气相沉积)和射频溅镀法等等离子体工艺流程。这些工艺主要应用于制造半导体元件和微机械系统 (MEMS) 以及平板显示器和太阳能电池的涂层。

    太阳能电池制造

    典型应用领域:太阳能行业

    TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列的典型应用领域是太阳能行业中要求严苛的 PECVD(等离子体增强化学气相沉积)、刻蚀及高频溅射等工艺。

    理想适用于刻蚀与镀膜工艺

    半导体制造

    在半导体制造中,使用不同等离子体工艺,包括通过干法刻蚀的材料去除工艺和用于制备纯硅的区熔法。TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列电源为最佳适配相应工艺的稳定供电系统提供一切前提条件,从而取得出色的可再现结果。

    TruPlasma RF 1002
    TruPlasma RF 1003
    TruPlasma RF 3006
    高频输出端      
    输出功率 2 kW 3 kW 6 kW
    标称功率 2 kW 3 kW 6 kW
    额定负载阻抗 50 Ω 50 Ω 50 Ω
    输出频率 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz
    标称连接数据      
    电源供应器电压 200 - 480 V 200 - 480 V 200 - 480 V
    电源频率 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz
    电源消耗功率 3.1 kVA 4.3 kVA 7.9 kVA
    功率系数 0.95 0.95 0.95
    通信接口      
    同步接口
    模拟/数字
    RS 232 / RS 485
    PROFIBUS
    Ethercat
    DeviceNet
    外壳      
    重量 18 kg 18 kg 38 kg
    防护等级 IP 30 30 30
    冷却要求      
    最高水压 7 bar 7 bar 7 bar
    最小压差 1.1 bar 1.1 bar 1.1 bar
    最小流量 4 l/min 4 l/min 8 l/min
    冷却介质温度 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1
    通用      
    总效率 80 % 80 % 80 %
    认证书/标准 Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs
    周围条件      
    外部温度 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
    空气湿度 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    气压计压力 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    技术数据页

    所有产品款型的技术数据以供下载。

    集成 CombineLine 技术

    优化适配您的进程

    TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列的智能实时匹配确保快速直接的 50 欧姆阻抗适配。通过已获专利的 CombineLine 技术可靠防止等离子体波动和污染,而无风扇冷却设计则降低故障率,提高效率,并实现无尘室内使用。

    并联谐振电路的高频发生器

    最高效率与灵活性

    得益于高达 80 % 的能量转换率,与常规发生器相比,可将您的能源成本降低最多 50 %。众多可用接口(可配置模拟接口、RS 232/485、DeviceNet、PROFIBUS、EtherCAT)简化现有设备中的集成,得益于内置的超宽范围电源(200-480 VAC)无需技术适配。高功率密度的紧凑结构形式(19 英寸或 ½-19 英寸插入式装置)允许以节省空间的方式集成至任一生产设备中。

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort 通过直接测量阻抗匹配器输入端和输出端上的 RF 信号,形成闭环控制回路。RF 电源可使用所有测量值。由此实现更好的工艺流程参数监测,保护阻抗匹配器并确保及早识别电弧。可通过单一的电源接口控制整个 RF 系统。

    各种选项可以实现高频电源根据应用进行最佳适配。

    高频电弧管理

    精湛的电弧管理是适用于最佳等离子体工艺流程控制的理想模块。有针对性的电弧识别确保最高生产效率,同时保护产品与设备。

    自动频率调谐

    已获专利的自动频率调谐解决方案能够快速同步适配频率,确保电源与阻抗匹配器之间的最佳协作。凭借已获专利的该项技术,局部最小化已非阻碍:RF 系统达到最佳状态,从而实现最佳工艺流程结果和高度可重复性。

    TRUMPF RF 系统的所有组件相互最佳协调。

    射频系统解决方案:实现极高工艺稳定性的阻抗匹配器
    TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗匹配器

    TruPlasma Match 阻抗匹配网络确保从电源至等离子体放电装置的最佳功率传输。阻抗匹配器可独立运行或经由电源与阻抗匹配器的智能连接(即所谓的 SystemPort)实现运行。

    用于稳定严苛的同步等离子体工艺流程的主振荡器
    主振荡器

    凭借主振荡器可稳定和优化关键的同步等离子体过程。集成式数字频率与相位合成器确保高频率与相位稳定性,可以实现按照极小的步幅调整相位。可选择用于 13.56 MHz 频率以及各种频率组合的不同规格主振荡器。

    用于灵活等离子体系统上使用高频电源的高频转换器
    高频转换器

    高频转换器允许在不同等离子体进程工站多次使用高频电源,例如用于给连续过程或具有不同馈电点的系统供电。提供两种功率级别以及具有 2、3 或 4 个输出端的不同高频转换器。

    用于传输指定功率的同轴电缆
    同轴电缆

    为实现高频功率传输,TRUMPF Hüttinger 提供专门设计用于在 50 欧姆系统下工作的同轴电缆。

    电源与阻抗匹配器:相互完美协调的系统解决方案

    彼此完美协调:TRUMPF RF 系统

    等离子体工艺就像一个复杂可变的负载,必须通过发生器为其不断供电。这项工作由有源匹配网络(所谓的阻抗匹配器)来完成,确保随时精确匹配 50 Ω 的最佳阻抗。由此形成相互完美协调的系统解决方案——TRUMPF RF 系统。通过不同接口(如 EtherCAT)可十分轻松地将电源和阻抗匹配器集成至现有工艺环境之中,并通过电源与阻抗匹配器的智能连接(即所谓的 SystemPort)形成经优化的系统解决方案。

    受国别影响,此产品分类与此说明 可能有所不同。保留技术、装备、价格与配件范围方面的更改权利。 请与您当地的联系人取得联系,以便了解您所在国家 是否可提供该产品。

    脚注
    • 冷却水温度必须超过室温的露点,以避免产生冷凝。

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    Services_Electronics_Technical_Support
    服务与众不同

    精确适配的服务协议令您实现最高的发生器可用性,同时确保清晰可查的保养与运行成本。

    联系方式

    Klaus Nock
    等离子体销售部
    传真: +49 761 89711150
    电子邮件

    下载

    TruPlasma RF 1000 3000 系列宣传册
    TruPlasma RF 1000 3000 系列宣传册
    pdf - 337 KB
    TruPlasma RF 系统宣传册
    pdf - 6 MB
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