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VHF 3000 系列电源
VHF 3000 系列电源
等离子体激发
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma VHF 3000 系列

满足一切需求

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    创新型、模块化、可扩展:TRUMPF 霍廷格电子的新款电源平台

    TruPlasma VHF 3000 系列电源基于创新型平台理念,可实现极高的功率密度并且满足最苛刻的工艺要求。模块化纯水冷却结构允许输出功率最高扩展到 80 kW;此外,紧凑型 VHF 电源的高经济性和稳健设计同样令人信服。

    精确快速的任意脉冲波形

    该电源针对现有单级和多级脉冲提供最佳的等离子体工艺流程控制。

    最短斜坡时间 < 150 ns

    因此能够极其灵活地控制电源的点火特性。

    智能的自动频率调谐

    自动频率调谐实现电源与阻抗匹配器之间的最佳协作。

    可靠且精细的工艺控制

    得益于高点火特性,确保出色的可再现工艺结果。

    不受电缆长度影响

    当工艺发生变化时,无需调整高频电缆长度,从而缩短装备时间。

    稳健设计

    得益于 CombineLine 技术,即使在失调情况下电源功能依旧可靠。

    TruPlasma VHF 3000 系列的典型应用领域:太阳能电池制造

    太阳能电池制造

    在光伏产业中,定制化工艺电源有诸多应用领域。在此使用不同等离子体工艺来涂敷与去除材料,例如溅射、PECVD 及刻蚀工艺。TruPlasma VHF 3000 系列电源可最佳适配相应工艺,同时快速电弧管理实现稳定控制等离子体。从而确保出色的工艺结果和卓越的生产效率。

    理想适用于刻蚀与镀膜工艺

    半导体制造

    在半导体制造中,使用不同等离子体工艺,包括通过干法刻蚀的材料去除工艺和用于制备纯硅的区熔法。TruPlasma VHF 3000 系列电源为稳定的、最佳适配相应工艺的电源提供一切前提条件,以取得出色的可再现结果。

    纯平显示屏镀膜的顶级中频供电系统

    纯平显示屏镀膜的理想之选

    TruPlasma VHF 3000 系列电源理想适用于如 RIE(反应离子刻蚀)、ALD(原子层沉积)、PECVD(等离子体增强化学气相沉积)和射频溅镀法等等离子体工艺流程。这些工艺主要应用于制造半导体元件和微机械系统 (MEMS) 以及平板显示器和太阳能电池的涂层。

    TruPlasma VHF 3005
    高频输出端  
    输出功率 5 kW
    标称功率 5 kW
    额定负载阻抗 50 Ω
    输出频率 40.68 MHz
    标称连接数据  
    电源供应器电压 200 - 480 V
    电源频率 50-60 Hz
    电源消耗功率 18 kVA
    功率系数 0.95
    通信接口  
    同步接口
    模拟/数字
    RS 232 / RS 485
    PROFIBUS
    Ethercat
    DeviceNet
    外壳  
    重量 55 kg
    防护等级 IP 30
    冷却要求  
    最高水压 7 bar
    最小压差 2 bar
    最小流量 8 l/min
    冷却介质温度 5 °C - 35 °C 1
    通用  
    总效率 75 %
    认证书/标准 Semi S2, SEMI F47,UL, CE, RoHs
    周围条件  
    外部温度 5 °C - 40 °C
    空气湿度 5 % - 85 %
    气压计压力 79.5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    技术数据页

    所有产品款型的技术数据以供下载。

    TruPlasma VHF 3000 系列的 Combine-line 技术

    灵活适配工艺

    TruPlasma VHF 3000 系列的模块化平台允许输出功率最高扩展到 80 kW;凭借所实施的 CombineLine 技术,电源在失调情况下仍然非常稳健。非常宽泛的频率范围以及可变电源电压和电缆长度实现灵活适配不同应用与使用国。

    并联谐振电路的高频电源

    极高的效率与经济性

    TruPlasma VHF 3000 系列的高频电源完全采用最先进的半导体技术通过 LDMOS 功率晶体管构建。高度集成化的平面构建技术在提高能量效率并相应降低冷却功率的同时,还实现了极高的功率密度。因此,该产品系列提供此频率范围内前所未有的经济性,缩减市场中的常见运行成本。

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort 通过直接测量阻抗匹配器输入端和输出端上的 RF 信号,形成闭环控制回路。RF 发生器可使用所有测量值。由此实现更好的工艺流程参数监测,保护阻抗匹配器并确保及早识别电弧。可通过单一的电源接口控制整个 RF 系统。

    不同选项使 VHF 电源以最佳方式适配您的应用。

    智能自动频率调谐

    已获专利的自动频率调谐解决方案能够快速同步适配频率,确保电源与阻抗匹配器之间的最佳协作。凭借已获专利的该项技术,局部最小化已非阻碍:RF 系统达到最佳状态,从而实现最佳工艺流程结果和高度可重复性。

    电弧管理

    精湛的电弧管理是适用于最佳等离子体工艺流程控制的理想模块。有针对性的电弧识别确保最高生产效率,同时保护产品与设备。

    灵活的脉冲整形

    灵活的脉冲整形:输出信号的波形可任意适配相应工艺要求。

    易于操作的 TruControl Power 软件

    TruControl Power

    易于操作的控制软件 TruControl Power 实现在工艺运行中便捷调试和可靠监控高频电源或整个 TRUMPF RF 系统。

    通过选取适当的系统组件,可让 VHF 电源以最佳方式适配您的应用要求。

    射频系统解决方案:实现极高工艺稳定性的阻抗匹配器
    阻抗匹配器

    TruPlasma Match 阻抗匹配网络确保从电源至等离子体放电装置的最佳功率传输。阻抗匹配器可独立运行或经由电源与阻抗匹配器的智能连接(即所谓的 SystemPort)实现运行。

    TruPlasma VHF 系列成套配件
    成套附件

    其由水管接口适配器、HARTING AC 供电套件、联锁功能跨接器、LEMO EPL 转 BNC 母头适配器(用于时钟脉冲同步插头)构成。

    用于稳定严苛的同步等离子体工艺流程的主振荡器
    主振荡器

    凭借主振荡器可稳定和优化关键的同步等离子体过程。集成式数字频率与相位合成器确保高频率与相位稳定性,可以实现按照极小的步幅调整相位。可选择用于 13.56 MHz 频率以及各种频率组合的不同规格主振荡器。

    VHF 3000 系列电源
    高频转换器

    高频转换器允许在不同等离子体进程工站多次使用高频电源,例如用于给连续过程或具有不同馈电点的系统供电。提供两种功率级别以及具有 2、3 或 4 个输出端的不同高频转换器。

    用于传输指定功率的同轴电缆
    同轴电缆

    为实现高频功率传输,TRUMPF Hüttinger 提供专门设计用于在 50 欧姆系统下工作的同轴电缆。

    发生器与阻抗匹配器:相互完美协调的系统解决方案

    彼此完美协调:TRUMPF RF 系统

    等离子体工艺就像一个复杂可变的负载,必须通过电源为其不断供电。这项工作由有源匹配网络(所谓的阻抗匹配器)来完成,确保随时精确匹配 50 Ω 的最佳阻抗。由此形成相互完美协调的系统解决方案——TRUMPF RF 系统。通过不同接口(如 EtherCAT)可十分轻松地将电源和阻抗匹配器集成至现有工艺环境之中,并通过电源与阻抗匹配器的智能连接(即所谓的 SystemPort)形成经优化的系统解决方案。

    受国别影响,此产品分类与此说明 可能有所不同。保留技术、装备、价格与配件范围方面的更改权利。 请与您当地的联系人取得联系,以便了解您所在国家 是否可提供该产品。

    脚注
    • 冷却水温度必须超过室温的露点,以避免产生冷凝。

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    联系方式

    Klaus Nock
    等离子体销售部
    传真: +49 761 89711150
    电子邮件

    下载

    TruPlasma RF 系统宣传册
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