我们使用 Cookie 来提供本网站的内容和功能 如果也允许我们将 Cookie 用于其他目的,请点击这里 关于禁用 Cookies 和数据保护的信息

无源溅射(PVD 工艺)

不破不立,轰击出新

Ideal für Großflächenbeschichtung

PVD 技术(物理气相沉积)在不同质量的材料上涂覆微米级薄型涂层。为此在真空中用物理方法气化由待施加涂层材料组成的材料块。由产生的混合气体组成的原子微粒沉积在基材上。等离子体辅助的 PVD 工艺中,通过以离子推撞轰击阴极。这一所谓的溅射或轰击工艺在室温下便可进行。PVD 工艺分为三个阶段:轰击、逸离与生成膜层。

联系方式

Klaus Nock
等离子体销售部
传真 +49 761 89711150
电子邮件
服务 & 联系人

Close

Country and language selection

Please note

You have selected the international "Chinese (Simplified)" language version of the website . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

International Chinese (Simplified)
United States

Or select a country or region.