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Artikelsammlung für EUV-Lithographie

反映在媒體中:EUV光刻

用於晶圓曝光的極紫外輻射 (EUV) 無疑是晶圓產業的未來主題。難怪技術刊物和大眾媒體都會定期討論該主題並跟蹤這項技術的發展。您可以在該頁面上找到國內與國際的一些熱點文章合輯。

三星使用EUV曝光機生產7 nm晶片

Heise.de在該文章中報導稱,三星已於2018年秋季在其首個7 nm工廠投產並在此使用ASML的EUV光刻系統對晶圓曝光。 來源:www.heise.de
作者:Nico Ernst
出版日期:10/2018
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領先時代

TRUMPF 2017/2018業務報告闡明了掌控光以及雷射器與EUV光刻如何為未來技術(如人工智慧、自主駕駛和網路化工廠)奠定基礎。

來源: TRUMPF 2017/2018財年業務報告
作者: TRUMPF GmbH + Co. KG
出版日期:10/2018
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EUV掃描器的可用性提高至85%

golem.de上的這篇文章宣佈ASML已顯著改進其NXW:3400B系統,使得利用極紫外輻射進行符合成本效益又高效地批量生產成為可能。 來源:www.golem.de
作者:Marc Sauter
出版日期:07/2018
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EUV生成的秘訣

LaserFocusWorld在這篇文章中追述了EUV技術在二十多年裡的發展並說明在2015年取得突破之前所必須克服的眾多障礙與挑戰。

來源:LaserFocusWorld
作者:Andreas Thoss
出版日期:11/2017
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TRUMPF透過與AccessLaser的交易合併EUV光刻供應鏈

德國專業雜誌 "Produktion" 中的這篇報導針對TRUMPF對Access的多數股權收購。作為低功率CO2雷射器製造商,Access Laser是TRUMPF在EUV業務領域最重要的合作夥伴之一。 來源:www.optics.org
作者:佚名
出版日期:10/2017
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TRUMPF要攪動晶片產業

斯圖加特報報導了TRUMPF如何憑藉其雷射放大器作為零部件供應商踏入半導體產業,並針對該業務成立了一家新的子公司。 來源:斯圖加特報
作者:Michael Heller
出版日期:05/2017
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EUV已進入IC生產

電子技術週刊 "Markt&Technik" 中的文章總結了ASML的目前與計畫營業額和銷售額,這些數字證明了EUV光刻現已明確引入產業。 來源:Markt&Technik
作者:Heinz Arnold
出版日期:07/2017
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