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穩定電壓管理與快速電弧管理兼具的偏壓發生器
穩定電壓管理與快速電弧管理兼具的偏壓發生器
電漿激發
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bias 3000系列

穩定又全面

用於濺射工藝的通用型發生器

TruPlasma Bias 3000系列發生器尤其支援光學與金屬鍍膜應用,例如在半導體技術或硬質鍍膜中。此外,其還適合對電壓與電流有類似要求的所有應用。

高壓與低壓模式

1200伏用於基板酸洗工藝,
300伏用於偏壓鍍膜工藝。

快速電弧管理

由於電弧殘餘能量極少,從而減少基材損壞並確保工藝流程更穩定。

穩定且可再現的工藝成果

得益於DSP技術設計和FPGA信號分析,獲得獨一無二的精確度。

適用於大面積表面噴塗

裝飾鍍膜

在等離子體工藝中,大面積鍍膜對工藝電源提出了極高要求。TruPlasma Bias 3000系列發生器為穩定並最佳適配相應工藝的電源提供一切前提條件,以取得優異的可再現結果。

理想適用於刻蝕與鍍膜工藝

半導體技術

TruPlasma Bias 3000系列發生器經過所有PVD與PECVD關鍵工藝的考驗,並為穩定的、最佳適配相應工藝的電源提供一切前提條件,以取得優異的可再現結果。

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TruPlasma Bias 3000系列發生器投入使用

保證良好的工藝條件始終如一

特殊的功率與控制設計確保可靠的電壓穩定性,對塗層品質和工藝穩定起決定性作用。採用DSP技術設計並配有FPGA信號分析的TruPlasma Bias 3000系列具備先進的電弧管理,藉此提供獨一無二的精確度與重複精度。這兩項參數的可觀數值確保工藝穩定性極佳。

TruPlasma Bipolar 4000 (G2) 系列的典型應用領域:耐磨塗層製造

僅需一臺設備即可為多項工藝簡化系統處理

TruPlasma Bias 3000系列具備兩種獨立的電壓模式:至1200 V的高壓模式以及至300 V的低壓模式。這兩種模式尤其支援光學與金屬鍍膜應用,例如在半導體技術或硬質鍍膜中。此外,其還適合對電壓與電流有類似要求的所有應用。

TruPlasma Bias 3000系列的典型應用領域:太陽能電池製造

透過順暢的工藝流程實現最佳塗層品質

TruPlasma Bias 3000系列發生器配備具有極少電弧能量的全數位化電弧管理和CompensateLine,從而實現較高的塗層品質和沉積速率。由此更加減少微滴沉積和基材損壞,工藝與最終產品得以改善。

易於操作的PVD Power軟體

PVD Power

多語種軟體PVD Power使用者介面易操作,提供多方面的操作、配置及診斷方法,以此優化工藝品質和有效排除故障:顯示所有相關工藝參數的實際值以及警告和報警消息、由操作員規定額定值和以較高的時間解析度記錄重要運行參數並進行視覺化(示波器功能)。

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