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Technologiebild DC gepulste Plasmageneratoren

直流等離子體發生器

TRUMPF霍廷格直流脈衝等離子體發生器是適用於眾多反應式流程的理想之選。有別於簡易型直流發生器,脈衝式直流電同樣能夠加工半導體材料和非導性材料如氧化物。脈衝發生器通常應用於硬質噴塗以及半導體製造中的刻蝕與噴塗流程。

TruPlasma Highpulse 4000系列發生器

TruPlasma Highpulse 4000系列

TruPlasma Highpulse 4000系列直流發生器是HIPIMS應用的首選,提供特別抗腐蝕而又耐磨損的硬質鍍膜。若與極化基板相結合,則TruPlasma Highpulse 4000系列也能操作半導體應用,如刻蝕、表面預處理和溝道填充。

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列將TRUMPF Hüttinger的卓越電弧管理與直流脈衝技術優勢集於一身。因此能取得更好的鍍膜結果,在降低故障的同時提高沉積速率。結果是帶來光亮表面和高生產效率。

TruPlasma DC 4000系列脈衝式產生器

TruPlasma DC 4000系列

TruPlasma DC 4000系列產生器是高要求電漿製程的首選。它們透過寬泛的負載適配範圍提供全功率。因此它們適合高科技濺鍍應用,以及其他各類標準或脈衝直流電漿應用。它們與非脈衝式產生器一樣,也具有出色的電弧管理功能。

穩定電壓管理與快速電弧管理兼具的偏壓發生器

TruPlasma Bias 4000系列

TruPlasma Bias 4000系列是最先進的脈衝式直流偏壓發生器產品系列。允許高達100 kHz的脈衝頻率及連續偏壓輸出。
每臺設備均具備兩種工作模式:用於基板酸洗工藝的1200 V高壓模式以及用於偏壓鍍膜工藝的300 V低壓模式,例如用於半導體技術或硬質鍍膜中。

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