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直流脈衝等離子體發生器 | TRUMPF
Technologiebild DC gepulste Plasmageneratoren

直流等離子體發生器

TRUMPF霍廷格直流脈衝等離子體發生器是適用於眾多反應式流程的理想之選。有別於簡易型直流發生器,脈衝式直流電同樣能夠加工半導體材料和非導性材料如氧化物。脈衝發生器通常應用於硬質噴塗以及半導體製造中的刻蝕與噴塗流程。

TruPlasma Highpulse 4000系列發生器

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列工藝電源提供特別抗腐蝕而又耐磨損的硬質鍍膜,是HIPIMS應用的首選。若與極化基板相結合,則TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列也能服務於半導體應用,如溝填、表面預處理和刻蝕。

TruPlasma Highpulse 4000系列發生器

TruPlasma Highpulse 4000系列

TruPlasma Highpulse 4000系列直流發生器是HIPIMS應用的首選,提供特別抗腐蝕而又耐磨損的硬質鍍膜。若與極化基板相結合,則TruPlasma Highpulse 4000系列也能操作半導體應用,如刻蝕、表面預處理和溝道填充。

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列將TRUMPF Hüttinger的卓越電弧管理與直流脈衝技術優勢集於一身。因此能取得更好的鍍膜結果,在降低故障的同時提高沉積速率。結果是帶來光亮表面和高生產效率。

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