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穩定電壓管理與快速電弧管理兼具的偏壓發生器
穩定電壓管理與快速電弧管理兼具的偏壓發生器
電漿激發
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bias 4000系列

穩定又全面

用於濺射工藝的通用型發生器

TruPlasma Bias 4000系列是最先進的脈衝式直流偏壓發生器產品系列。允許高達100 kHz的脈衝頻率及連續偏壓輸出。此發生器尤其支援光學與金屬鍍膜應用,例如在半導體技術或硬質鍍膜中。此外,其還適合對電壓與電流有類似要求的所有應用。

高壓與低壓模式

1200伏用於基板酸洗工藝,
300伏用於偏壓鍍膜工藝。

快速電弧管理

從而顯著減少微滴沉積和基板損壞。

穩定且可再現的工藝成果

得益于先進的DSP技術和FPGA信號分析實現卓越的电弧管理。

TruPlasma Bipolar 4000 (G2) 系列的典型應用領域:耐磨塗層製造

製造耐磨塗層

TruPlasma Bias 4000系列發生器實現穩定的等離子體工藝和最佳塗層品質。

完全適合大面積塗層

大面積鍍膜

在等離子體工藝中,大面積鍍膜對工藝電源提出了極高要求。TruPlasma Bias 4000系列發生器為穩定並最佳適配相應工藝的電源提供一切前提條件,以取得優異的可再現結果。

TruPlasma Bias 4000系列發生器

太陽能電池製造

TruPlasma Bias 4000系列發生器經過所有PVD與PECVD關鍵工藝的考驗,並為穩定的、最佳適配相應工藝的電源提供一切前提條件,以取得優異的可再現結果。

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TruPlasma Bias 4012
TruPlasma Bias 4018
TruPlasma Bias 4026
輸出口    
標稱功率 12 kW 18 kW 26 kW
最大輸出電流 40 A eff 60 A eff 87 A eff
最大輸出電壓 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff
額定運行頻率 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz
電弧參數    
最大電弧比率 50 1/s 50 1/s 50 1/s
電弧處理時間 <0.5 µs <0.5 µs <0.5 µs
電源連接資料    
電源電壓 3x 360 V - 440 V 3x 360 V - 440 V 3x 360 V - 440 V
電源頻率 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz
通訊介面    
類比/數位
RS 232 / RS 485 - -
PROFIBUS -
EtherCAT
外殼    
重量 70 kg 70 kg 71 kg
防護等級 IP IP 20 IP 20 IP 20
冷卻器條件    
冷卻介質 空氣 空氣 空氣
冷卻介質溫度 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C
概覽    
總功率 90 % 90 % 90 %
證書 / 標準 CE CE CE
環境條件    
外部溫度 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C
空氣溼度 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
氣壓 860 kPa - 1060 kPa 860 kPa - 1060 kPa 860 kPa - 1060 kPa
建築玻璃

保證良好的工藝條件始終如一

特殊的功率與控制設計確保可靠的電壓穩定性,對塗層品質和工藝穩定起決定性作用。採用DSP技術設計並配有FPGA信號分析的TruPlasma Bias 4000系列具備先進的電弧管理,藉此提供獨一無二的精確度與重複精度。這兩項參數的可觀數值確保工藝穩定性極佳。

硬質鍍膜

僅需一臺設備即可為多項工藝簡化系統處理

TruPlasma Bias 4000系列具備兩種獨立的電壓模式:至1200 V的高壓模式以及至300 V的低壓模式。這兩種模式尤其支援光學與金屬鍍膜應用,例如在半導體技術或硬質鍍膜中。此外,其還適合對電壓與電流有類似要求的所有應用。

電弧管理

透過順暢的工藝流程實現最佳塗層品質

TruPlasma Bias 4000系列發生器配備具有極少電弧能量的全數位化電弧管理和CompensateLine,從而實現較高的塗層品質和沉積速率。由此進一步減少微滴沉積和基材損壞,工藝與產品得以改善。

易於操作的PVD Power軟體

PVD Power

多語種軟體PVD Power使用者介面易操作,提供多方面的操作、配置及診斷方法,以此優化工藝品質和有效排除故障:顯示所有相關工藝參數的實際值以及警告和報警消息、由操作員規定額定值和以較高的時間解析度記錄重要運行參數並進行視覺化(示波器功能)。

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