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TruPlasma Highpulse 4000系列發生器
TruPlasma Highpulse 4000系列發生器
電漿激發
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Highpulse 4000系列

實現出色鍍膜結果的高密度等離子體

HiPIMS應用的首選

TruPlasma Highpulse 4000系列發生器可作為直流濺射發生器的替代方案,無需改動即可用於現有磁控系統。

卓越的塗層特性

高達8兆瓦的脈衝產生非常密集的等離子體,實現最佳塗層效果。

塗層與附著毫無瑕疵

運用高功率脈衝磁控濺射技術 (HIPIMS) 實現卓越的工藝效果。

不同功率等級

脈衝功率從1 MW至8 MW不等,平均功率為10 kW至20 kW。

使用TruPlasma Highpulse 4000系列發生器

HIPIMS應用

TruPlasma Highpulse 4000系列發生器是HIPIMS應用的首選。作為最先進的脈衝式PVD濺射方法,HIPIMS可提供特別抗腐蝕又耐磨損的硬質鍍膜。

理想適用於刻蝕與鍍膜工藝

刻蝕、表面預處理和溝道填充

可達8兆瓦的峰值功率以較高的離子通量產生非常密集的等離子體。與電弧放電的原理類似,但HIPIMS技術不會形成材料微滴 (droplet)。若與極化基板相結合,則TruPlasma Highpulse 4000系列也能操作半導體應用,如刻蝕、表面預處理和溝道填充。

適用於大面積鍍膜

適用於大面積鍍膜

在等離子體工藝中,大面積鍍膜對工藝電源提出了極高要求。TruPlasma Highpulse 4000系列發生器為穩定的、最佳適配相應工藝的電源提供一切前提條件,以取得優異的可再現結果。

TruPlasma Highpulse 4000系列的應用領域:太陽能行業中的高要求工藝

太陽能電池製造

在光伏產業中,客製化工藝電源有諸多應用領域。TruPlasma Highpulse 4000系列發生器可最佳適配相應工藝並實現卓越工藝成果和高生產效率。

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使用TruPlasma Highpulse 4000系列發生器

最佳工藝成果

TruPlasma Highpulse 4000系列發生器為科研過程與工業工藝提供無與倫比的靈活性並實現無液滴濺射和極少的表面缺陷。具有極少電弧能量的全數位化電弧管理基於即時電流量測,實現較高的塗層品質和沉積速率。

實現最佳設備融入:TruPlasma Highpulse 4000系列發生器

可靈活使用

TruPlasma Highpulse 4000系列發生器可輕鬆適配現有陰極系統和工藝條件並使設備以最佳方式融入。

不同選項確保Tru Plasma Highpulse 4000系列以最佳方式適配您的應用。

電弧管理CompensateLine (CLC)

全數位化的電弧管理僅需極低電弧能量,能夠獲得較高的塗層品質和沉積速率。

圖形操作軟體 PVD Power

PVD Power

多語種軟體PVD Power使用者介面易操作,提供多方面的操作、配置及診斷方法,以此優化工藝品質和有效排除故障:顯示所有相關工藝參數的實際值以及警告和報警消息、由操作員規定額定值和以較高的時間解析度記錄重要運行參數並進行視覺化(示波器功能)。

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