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TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列 | TRUMPF
TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器
TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器
電漿激發
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列

高密度電漿實現出色的鍍膜結果

HiPIMS應用的首選

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器可作為直流濺射發生器的備選,無需改動即可用於現有磁控系統。其提供特別抗腐蝕而又耐磨損的硬質鍍膜,因此是高功率脈衝磁控濺射應用的首選。

完美無瑕的鍍膜結果

可達4兆瓦的最佳峰值功率以較高的離子流量產生非常密集的電漿。

可靈活使用

輕鬆適配現有陰極系統和工藝條件使設備能夠以最佳方式融入。

HiPIMS應用的首選

作為最先進的脈衝式PVD濺射工藝,HiPIMS可提供特別抗腐蝕又耐磨損的硬質鍍膜。

適用於眾多應用

亦可用於直流電模式,無需額外的直流發生器。

使用TruPlasma Highpulse 4000系列發生器

硬質鍍膜

透過施加功能性塗層,承受強大負荷的工件獲得更高的表面硬度和靜摩擦力以及更好的熱穩定性與化學穩定性。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器實現極其穩定的電漿工藝和卓越的塗層品質。

太陽能電池製造

半導體/光伏

在光伏與半導體領域,客製化工藝電源有諸多應用範圍。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器可最佳適配相應工藝並實現卓越工藝成果和高生產效率。

適用於大面積鍍膜

玻璃鍍膜

大面積建築玻璃鍍膜在PVD電漿工藝中,對工藝電源提出了極高要求。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器為取得高品質的鍍膜成果提供理想前提。

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建築玻璃

最佳工藝成果

高峰值功率產生高度離子化的電漿並實現高離子流量。由此可取得非常連貫且緻密的薄膜並避免微小液滴。若與極化基板配置相結合,則TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器可以在刻蝕、溝填應用中提供出色結果。

電弧管理

全數位化電弧管理

可調脈衝寬度與頻率、擴展性能參數和僅需極低電弧能量的全數位化電弧管理實現無液滴濺射、最低限度的薄膜缺陷並保證較高的塗層品質和沉積速率。

並聯諧振電路的高頻發生器

出色的塗層

憑藉高能量與高達2 kV的電壓,可以製造出高品質的塗層——無論是在小型實驗室裡還是在大型工業設施中。可達5 ms的脈衝與最高10 kHz的頻率提高了沉積速率,因此有助於降低總體經營成本。

太陽能電池製造

高工藝穩定性

憑藉可調頻率的功率調節器確保沉積參數在高要求的反應工藝中也能保持恒定。因此,工藝得以在幾小時甚至幾天內保持穩定,無需人為介入。

緊湊型單元

TruPlasma Highpulse系列發生器是一個緊湊型單元。其無需外部直流電源,採用全水冷設計,因此得以在潔淨室內工作。

不同選項確保Tru Plasma Highpulse 4000 (G2) 系列以最佳方式適配您的應用。

輕鬆適配工藝
電弧管理CompensateLine (CLC)

完整數位化的電弧管理僅需極低電弧能量,即能保證獲得較高的塗層品質和沉積速率。

圖形操作軟體 PVD Power

PVD Power

多語種軟體PVD Power使用者介面易操作,提供多方面的操作、配置及診斷方法,以此優化工藝品質和有效排除故障:顯示所有相關工藝參數的實際值以及警告和報警消息、由操作員規定額定值和以較高的時間解析度記錄重要運行參數並進行視覺化(示波器功能)。

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