You have selected 台灣. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

電漿功率產生器 | TRUMPF
直流電漿功率產生器工藝圖

電漿功率產生器

TRUMPF霍廷格的電漿功率產生器為眾多高科技行業提供所需的工藝能源, 從而實現太陽能電池和微型晶片的功能性塗層、建築玻璃的大規模鍍膜以及半導體元件與平板顯示器的製造。出色的精度、能效和高工藝穩定性使其成為市場上的佼佼者。

中頻電漿功率產生器

藉由出色的精度與生產力 成為眾多電漿激發應用的理想解決方案。

直流脈衝電漿功率產生器

TRUMPF霍廷格電子直流脈衝電漿功率產生器理想適用於多種反應式工藝流程。

直流電漿功率產生器

TRUMPF霍廷格電子直流電漿功率產生器是電漿激發的經典之作。

高頻電漿功率產生器

半導體元件、微型晶片、太陽能電池或平板顯示器製造等高要求應用的首選。

中頻電漿功率產生器

TruPlasma Bipolar 4040兩極性發生器

TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) 系列

憑藉靈活可塑的輸出信號和精湛的電弧管理,TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) 系列工藝電源在太陽能電池和半導體製造、裝飾性耐磨塗層塗覆以及建築玻璃塗層方面帶來出色成果。最新一代發生器非常適合用於反應濺鍍、PVD和PECVD等高要求的電漿工藝。

TruPlasma MF 7000 (G2) 系列

TruPlasma MF 7000 (G2) 系列

使用 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列中頻發電機可始終完全掌控工藝流程:即便在要求嚴苛的大面積塗層應用中,仍能最終獲得出色的塗層品質和極高的生產效率。與此同時,憑藉超過 90 % 的頂尖能量轉化率,此款新一代供電系統確保極高的運行經濟性。

直流脈衝電漿功率產生器

TruPlasma Highpulse 4000系列發生器

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列工藝電源提供特別抗腐蝕而又耐磨損的硬質鍍膜,是HIPIMS應用的首選。若與極化基板相結合,則TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列也能服務於半導體應用,如溝填、表面預處理和刻蝕。

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列將TRUMPF Hüttinger的卓越電弧管理與直流脈衝技術優勢集於一身。因此能取得更好的鍍膜結果,在降低故障的同時提高沉積速率。結果是帶來光亮表面和高生產效率。

直流電漿功率產生器

TruPlasma DC 3040直流產生器

TruPlasma DC 3000 (G2) 系列

作為新款直流產生器,TruPlasma DC 3000 (G2) 系列適合眾多直流濺鍍工藝。得益於先進的電弧管理和整合式水冷裝置,此款直流產生器也是脈衝式產生器的低成本替代品。此外,非常精巧的結構可簡單整合至現有應用中。

TruPlasma Arc 3000系列電弧發生器

TruPlasma Arc 3000系列

TruPlasma Arc 3000系列發生器主要用於硬質鍍膜和裝飾鍍膜。透過精巧型尺寸和風冷裝置,確保充分利用寶貴的有效面積並方便整合到新系統或現有系統之中。

射頻等離子體發生器

TruPlasma RF Air 1000系列

氣冷型高頻發電機TruPlasma RF 1001 Air可提供高達1000瓦特的高頻能源,其精度高、可再現且解析度極為精細(以100 mW步進),因而適用于豐富多樣的電漿應用。無論是半導體製造、太陽能電池製造還是顯示幕製造——得益于先進的工藝流程功能,已獲專利的TRUMPF霍廷格電子技術可在各個領域確保最高可用性和最佳工藝結果。

TruPlasma RF 3006高頻發生器

TruPlasma RF 1000 / 3000系列 (G2/13)

TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列是最新一代的高頻發生器。借助創新功能,比如獲得專利的CombineLine耦合技術或即時量測所有進程參數,即使在高要求的等離子體進程下也能確保安全的進程供電,為可重複的成果與高生產效率提供最佳前提條件。

TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006高頻發生器

TruPlasma RF 3000系列

性能強勁的TruPlasma RF 3000系列高頻發電機因極其高效和高工藝流程穩定性而出眾。因此非常適合高要求類等離子體工藝,例如用於純平顯示幕、太陽能電池或半導體製造。針對發生器精確調整的阻抗適配箱用於適配阻抗,時刻確保從發生器到等離子體的最佳穩定功率傳輸。

VHF 3000系列產生器

TruPlasma VHF 3000系列

最高製程功率:TruPlasma VHF 3000系列產生器基於創新型平臺理念,甚至可滿足最苛刻的製程要求。模組化純水冷卻結構允許輸出功率最高擴展到80 kW – 而且空間需求極小!

射頻系統解決方案:實現極高工藝穩定性的阻抗適配箱

TruPlasma Match 1000系列 (G2/13)

最佳執行等離子體工藝需注重準確適配高頻發生器輸出阻抗。這由TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗適配箱完成,協調發生器與工藝。因此形成針對工藝供電的整體解決方案——Trumpf RF系統。

您還可能對以下主題感興趣

連絡人
Sales(銷售部)
傳真 +886 3 270 8006
電子郵件
服務&連絡人