極佳工藝結果的保障
此類高頻發電機防患於未然：TruPlasma RF 3000系列因堅固結構與卓越效率而出眾。因此，其最佳適用於穩定且可再現的等離子體處理，例如應用於純平顯示幕、太陽能電池或半導體製造。這些發生器安裝在全球數以千計的應用中，確保卓越生產效率和出色工藝結果。
能量轉換率高達80 %，因此與市場標準相比可將您的能源成本降低最多50 %。
安全運行，即使是苛刻的和新的流程。
CombineLine技術：失調情況下可靠避免反射功率影響。
採用連續式或脈衝式功率輸出，從而實現多樣化應用。
刻蝕與噴塗處理
TruPlasma RF 3000系列的高頻發生器尤其適合刻蝕與鍍膜工藝，如等離子體刻蝕、反應離子刻蝕、ALD及PECVD。
金屬工件鍍膜
借助等離子體進程，既可將材料施加到表面上也可將其去除，例如利用等離子體刻蝕或光刻膠等離子體灰化法為金屬工件塗覆耐磨層或者電子元件結構化。
純平顯示幕與太陽能電池鍍膜
TruPlasma RF 3000系列高頻發電機理想適用於如RIE（反應離子刻蝕）、ALD（原子層沉積）、PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）和射頻濺鍍法等等離子體處理流程。這些工藝主要應用於純平顯示幕與太陽能電池鍍膜。
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TruPlasma RF 3012
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TruPlasma RF 3020
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TruPlasma RF 3024
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| RF 輸出口 | |||
| 輸出功率 | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
| 標稱功率 | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
| 額定負載阻抗 | 50 Ω | 50 Ω | 50 Ω |
| 輸出頻率 | 13.56 MHz | 13.56 MHz | 13.56 MHz |
| 電源連接資料 | |||
| 電源電壓 | 400 - 480 V | 400 - 480 V | 400 - 480 V |
| 電源頻率 | 50-60 Hz | 50-60 Hz | 50-60 Hz |
| 電源輸入功率 | 16.6 kVA | 28.1 kVA | 33.3 kVA |
| 功率因數 | 0.93 | 0.93 | 0.93 |
| 通訊介面 | |||
| 同步介面 | 是 | 是 | 是 |
| 類比／數位 | 是 | 是 | 是 |
| RS 232 / RS 485 | 是 | 是 | 是 |
| PROFIBUS | 是 | 是 | 是 |
| EtherCAT | 是 | 是 | 是 |
| DeviceNet | 是 | 是 | 是 |
| 外殼 | |||
| 重量 | 57 kg | 117 kg | 117 kg |
| 防護等級 IP | 20 | 20 | 20 |
| 冷卻器條件 | |||
| 最大水壓 | 7 bar | 7 bar | 7 bar |
| 最小壓力差 | 2 bar | 2 bar | 2 bar |
| 最小流量 | 10 l/min | 20 l/min | 20 l/min |
| 冷卻介質溫度 | 5 °C - 35 °C 1 | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C 1 |
| 概覽 | |||
| 總功率 | 78 % | 75 % | 75 % |
| 證書 / 標準 | SEMI F47，CE，RoHs | SEMI F47，CE，RoHs | SEMI F47，CE，RoHs |
| 環境條件 | |||
| 外部溫度 | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C |
| 空氣溼度 | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
| 氣壓 | 79.5 kPa - 106 kPa | 79.5 kPa - 106 kPa | 79.5 kPa - 106 kPa |
所有產品種類的技術資料均可下載。
極高效率與工藝穩定性
透過出色效率使功率損耗減半並降低冷卻水成本——從而讓運行成本最小化。即使工藝條件嚴苛，十分堅固的發生器結構仍允許較長的執行時間，由此提高沉積速率。透過真正具有50 Ω輸出阻抗的CombineLine技術有效防止等離子體波動——從而實現絕對穩定的工藝。
任何情況絕對可靠
堅固結構確保最高流程可靠性和生產效率。100 % 失調保護確保在極端負載下仍然穩妥運行。可選的連續式或脈衝式功率輸出支援廣泛的工藝要求。在全球範圍內已安裝20,000多個單元——超過任何其他等離子體電源。
TRUMPF SystemPort
SystemPort透過直接量測阻抗適配箱輸入端和輸出端上的RF信號，形成閉環控制回路。RF發電機可使用所有量測值。由此實現更好的處理流程參數監測，保護阻抗適配箱並確保及早識別電弧。可透過單一的發電機介面控制整個RF系統。
各種選項可以實現高頻發生器根據應用進行最佳適配。
精湛的電弧管理是適用於最佳等離子體處理流程控制的理想模組。有針對性的電弧識別確保最高生產效率，同時保護產品與設備。
TruControl Power
易於操作的控制軟體TruControl Power實現在工藝運行中便捷調試和可靠監控高頻發生器或整個TRUMPF RF系統。
TRUMPF RF系統的所有組件相互最佳協調。
TruPlasma Match阻抗適配網路確保從發電機至等離子體放電裝置的最佳功率傳輸。阻抗適配箱可獨立運行或經由發電機與阻抗適配箱的智慧連接（即所謂的SystemPort）實現運行。
憑藉主振盪器可穩定和優化關鍵的同步等離子體過程。整合式數位頻率與相位合成器確保高頻率與相位穩定性，可以實現按照極小的步幅調整相位。可選擇用於13.56 MHz頻率以及各種頻率組合的不同規格主振盪器。
高頻轉換器允許在不同等離子體進程工站多次使用高頻發生器，例如用於給連續過程或具有不同饋電點的系統供電。提供兩種功率級別以及具有2、3 或 4個輸出端的不同高頻轉換器。
為實現高頻功率傳輸，TRUMPF Hüttinger提供專門設計用於在50歐姆系統下工作的同軸電纜。
完美相互協調：發生器與阻抗適配箱
等離子體工藝就像一個複雜可變的負載，必須由發生器為其不斷供電。這項工作由有源適配網絡（所謂的阻抗適配箱）來完成，確保隨時精確適配50 Ω的最佳阻抗。由此形成相互完美協調的系統解決方案——TRUMPF RF系統。透過不同介面（如EtherCAT）可十分輕鬆地將發電機和阻抗適配箱整合至現有處理環境之中，並透過發電機與阻抗適配箱的智慧連接（即所謂的SystemPort）形成經優化的系統解決方案。
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注脚-
冷卻水溫度必須超過室溫的露點，以避免產生冷凝。
