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射頻系統解決方案:實現極高工藝穩定性的阻抗適配箱
射頻系統解決方案:實現極高工藝穩定性的阻抗適配箱
電漿激發
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Match 1000系列 (G2/13)

透過即時測量實現智慧適配

天衣無縫的射頻系統解決方案

TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列的新款阻抗適配箱與TRUMPF霍廷格電子高頻發生器相得益彰。憑藉智慧適配演算法和用於工藝監控的數位化控制平臺,形成所有組件在其中最佳協作的整體解決方案——TRUMPF RF系統。

智慧型適配演算法

即便在嚴苛的處理流程中也能完成快速、穩定、可再現的 50 Ω 阻抗適配。

最佳協調整套系統

發生器與阻抗適配箱之間的更佳通信與先進軟體。

即時量測高頻功率

每當阻抗適配箱與負載的阻抗發生變化時,實現系統快速追蹤。

閉環控制回路

最佳監測工藝流程參數並及早識別電弧。

方便用戶控制工藝

圖形操作介面和高效工具(史密期圓圖、即時示波器)。

射頻系統解決方案:實現極高工藝穩定性的阻抗適配箱

半導體、太陽能電池與純平顯示幕製造

在半導體、太陽能電池與純平顯示幕製造中,穩定的等離子體工藝起決定性作用。與TRUMPF霍廷格電子高頻發生器相結合,TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗適配箱為盡可能提升工藝穩定性和生產效率提供整體解決方案。

為硬質鍍膜提供支援:TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗適配箱

施加硬質與耐磨塗層

透過施加功能性塗層,承受強大負荷的工件獲得更高的機械硬度以及更好的熱穩定性與化學穩定性。TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗適配器與TRUMPFTruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗適配器與TRUMPF霍廷格電子高頻發電機相互協作,確保完美的塗層品質。 電子高頻發生器相互協作,確保完美的塗層品質。

理想適用於大面積鍍膜:TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗適配箱

材料去除和表面鍍膜

TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗適配箱可在所有常見等離子體工藝中用於表面鍍膜或材料去除——例如等離子體刻蝕、反應離子刻蝕、ALD、PECVD、射頻濺射或光刻膠等離子體灰化。與TRUMPF霍廷格電子高頻發生器協作實現最佳工藝結果。

-/-
RF 輸出口     
輸出功率 3 kW 6 kW 12 kW 24 kW
標稱功率 3 kW 6 kW 12 kW 24 kW
輸出頻率 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz
電源連接資料     
電源電壓 (±10%) 23.5 V - 24.5 V (±10%) 23.5 V - 24.5 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 87 V - 264 V
電源頻率 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz
通訊介面     
同步介面
類比/數位
RS 232 / RS 485
PROFIBUS
EtherCAT
DeviceNet
外殼     
重量 15 kg 8 kg 27 kg 30 kg
防護等級 IP 21 21 21 21
冷卻器條件     
最大水壓 - - 6 bar 6 bar
最小壓力差 - - 1.5 bar 1.5 bar
最小流量 - - 3.5 l/min 5 l/min
冷卻介質溫度 - - 10 °C - 30 °C 1 10 °C - 30 °C 1
概覽     
證書 / 標準 CE,EN61010,SEMI S2,SEMI F47 CE,EN61010,SEMI S2,SEMI F47 CE,EN61010,SEMI S2,SEMI F47 CE,EN61010,SEMI S2,SEMI F47
環境條件     
外部溫度 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C
空氣溼度 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 %
氣壓 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa
始終確保高頻發生器的全功率輸出

隨時完美控制工藝

阻抗適配箱負責隨時快速直接適配50 Ω阻抗——從而確保高頻發生器始終向工藝輸出全功率。阻抗適配箱與發生器之間的無線通訊實現最佳監控工藝和及早識別電弧。

易於操作的TruControl Power軟體

所有參數一目了然

高頻輸入與輸出功率的即時量測顯示阻抗的動態變化,冷卻感測器能可靠預報功率損耗。含有複雜顯示選項(史密期圓圖、即時示波器)的圖形操作軟體讓所有相關工藝參數始終一目了然。

TruPlasma RF_Systemport

TRUMPF SystemPort

SystemPort透過直接量測阻抗適配箱輸入端和輸出端上的RF信號,形成閉環控制回路。RF發生器可使用所有量測值。由此實現更好的工藝流程參數監測,保護阻抗適配箱並確保及早識別電弧。可透過單一的發生器介面控制整個RF系統。

不同選項使TRUMPF RF系統最佳適配您的應用。

高頻電流量測

用於識別等離子體異常的高精度AC電流量測裝置,於工藝流程就近安放在阻抗適配箱內,緊挨腔室。

電弧管理

精湛的電弧管理是適用於最佳等離子體工藝流程控制的理想模組。有針對性的電弧識別確保最高生產效率,同時保護產品與設備。

介面

Analog/Digital、PROFIBUS與EtherCAT作為可選介面提供。標配EtherNet、SystemPort與RS232/485。

易於操作的TruControl Power軟體

TruControl Power

易於操作的控制軟體TruControl Power實現在工藝運行中便捷調試和可靠監控高頻發生器或整個TRUMPF RF系統。

易於操作的TruControl Power軟體

圖形操作軟體

複雜的圖形表示實現全面管理所有相關工藝參數。負載與阻抗適配箱阻抗透過史密期圓圖、含頻率與相位在內的高頻輸入與輸出功率藉助即時示波器進行視覺化。

由高頻發生器與阻抗適配箱構成的TRUMPF RF系統是完美相互協調的整套系統,可提供極佳的工藝結果。

易於操作的TruControl Power軟體
圖形操作軟體

複雜的圖形表示實現全面管理所有相關工藝參數。負載與阻抗適配箱阻抗透過史密期圓圖、含頻率與相位在內的高頻輸入與輸出功率藉助即時示波器進行視覺化。

主振盪器用於穩定關鍵的同步等離子體過程
主振盪器

憑藉主振盪器可穩定和優化關鍵的同步等離子體過程。整合式數位頻率與相位合成器確保高頻率與相位穩定性,可以實現按照極小的步幅調整相位。可選擇用於13.56 MHz頻率以及各種頻率組合的不同規格主振盪器。

同軸電纜用於傳輸指定功率
同軸電纜

為實現高頻功率傳輸,TRUMPF Hüttinger提供專門設計用於在50歐姆系統下工作的同軸電纜。

發生器與阻抗適配箱:相互完美協調的系統解決方案

最佳管理等離子體工藝

等離子體工藝就像一個複雜可變的負載,必須由發生器為其不斷供電。這項工作由有源適配網絡(所謂的阻抗適配箱)來完成,確保隨時精確適配50 Ω的最佳阻抗。由此形成相互完美協調的系統解決方案——TRUMPF RF系統。透過不同介面(如EtherCAT)可十分輕鬆地將發生器和阻抗適配箱整合至現有工藝環境之中,並透過發生器與阻抗適配箱的智慧連接(即所謂的SystemPort)形成經優化的系統解決方案。

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